JPH0352894A - ジアリールホスフィンハライドの製造法 - Google Patents
ジアリールホスフィンハライドの製造法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、単独あるいはホスホニウム化合物や遷移金属
錯体に導かれ、反応試薬や触媒等の用途で広く用いられ
ているジアリールアルキルホスフィン等の非対称ホスフ
ィン化合物、ボリスチレンペンダントホスフィン化合物
：ビス（シフェニルホスフィノ）エタンおよびビス（ジ
フェニルホスフィノ）プロパン等の２座配位型ホスフィ
ン化合物の原料として有用なジアリールホスフィンハラ
イトの製造法に関する． 藍東立且（ ジフェニルホスフィンクロライドの合戊には、三塩化リ
ンとベンゼンのフリーデルクラフト反応によって得られ
るフェニルジクロルホスフィンの再分配反応がよく利用
されるが、再分配反応自体の収率が低く、７０％程度で
あり、操作も煩雑である（ケミッシュ ベルヒテ（Ｃｈ
ｅ＋ａ．Ｂｅｒ）第９４巻第２１２２頁（１９６１年）
）．また、トリフェニルホスフィンを用い、高温条件下
で塩素を作用させる方法もあるが、不純物の生或も多く
、一般的ではない（オーガニック リアクションズ（Ｏ
ｒｇａｎｉｃ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ）第６巻 第３２１
頁（ １９５１年））。さらに、実験室的にはテトラヒ
トロフラン溶媒中でトリフェニルホスフィンに金属リチ
ウムを反応させた後、ホスゲンによりクロル化する方法
も簡便で有用てあるか、工業的な価値に乏しい（ケミカ
ル アブストラクト（ＣｈｅｍｉｃａｌＡｂｓｔｒｕｃ
ｔ）第５７巻 ２２５６ｅ）．また，ジフェニルホスフ
ィンハイドロオキシドに無溶媒で，三塩化リンを作用さ
せる方法もあるが，反応収率は５９％程度と低く、工業
的規模での実用性に欠ける〔ジャーナル オブ オーガ
ニック ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇ
ａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）第３０巻 第２３９３
頁（１９６５年〉）．か 決しようと る課 シアリールホスフィンハライトの合成法は前記したよう
に種々の方法が提案されており、工業的規模での製造も
行なわれているが、いずれも工業的規模で実施するには
，操作性や経済性に難点かある．したがって、これに代
る有効な製造法の開発が切望されている． 本発明は、工業的に容易な操作で目的とするジアリール
ホスフィンハライトを高純度、高収率で得る製造法を提
供することにある． 本発明者らは、かかる問題点を解決すべく鋭意検討を重
ねた．その結果、工業的に極めて有利なジアリールホス
フィンハライトの製造法を見出すに至った．すなわち、
本発明は、 一般式 （式中、Ｒは、水素原子、低級アルキル基または低級ア
ルコキシ基を示す．）で示されるジアリールホスフィン
ハイドロオキシトを不活性溶媒で冷釈した 一般式 ｐｘ３ （ｍ） 〒、 （式中、Ｘはハロゲン原子を示す．〉でｌ＃されるハロ
ゲン化リン中に膚下して反応させることを特徴とする、 一般式 ｊｆ’ Ｉｆｉｉｌ−１１ Ｉｆ ／ ）で示されるジ
アリールホスフィンハライトの製造法に閲する． 本発明におけるジアリールホスフィンハライトの合戒法
を反応式により次に示す． ｌｉ崖ＩＮ＄７１）以下，本発明の製造法をさらに詳し
く説明する． ａ）（ＩＩ 化合 の合成 式（Ｉ）化合物の原料化合物である公知の式（ＩＩ）の
ジアリールホスフィンハイトロオキシドは下記の反応式
に示すとおり、一般式（ＲＯ）２ＰＯＨで示されるジア
ルキルホスファイトに一般の＃４ｍ金属試薬を作用させ
ることによって，容易に、しかも高純度で得られる．こ
の式（！Ｉ）化合物は、精製処理をすることなくハロゲ
ン化反応に供することができるため、その意義は極めて
太き（式中、Ｒは、水素原子、低級アルキル基または低
級アルコキシ基を示し２ｘはハロゲン原子なす．） ｂ） （Ｉ）化合物の合成 式（Ｉ）化合物を得るには，こうして得た式（■）のジ
アリールホスフィンハイドロオキシドよい。式（ｍ）の
ハロゲン原子としては，塩素、臭素か挙げられ、式（ｍ
）化合物としては三塩化リンや三臭化リンが好ましい．
この反応は発熱を伴なうので、発熱を円滑に制御するた
めに式（ＩＩ）化合物を、不活性の有機溶媒で希釈した
式（ｍ）化合物中に滴下して反応させることが不可欠で
ある．このような操作が必須条件であり、逆に式（ｍ）
化合物を滴下した場合は，後記の比較例ｌのとおり副反
応を伴って、前記の従来技術のごと〈収率が低下する． ここで使用される溶媒としては，ベンゼン、トルエン，
キシレン等の芳香族系、ヘキサン、ベンタン、オクタン
等の脂肪系族、ジクロロメタン，ρ化反応で使用される
反応剤としては、前記した三塩化リンや三臭化リンの他
に五塩化リン、オキシ塩化リン、アセチルクロライトお
よびチオニルクロライトなどが考えられル．シかしなが
ら五塩化リンは錯体形成のために収率か劣り、オキシ塩
化リンは全く反応せず、アセチルクロライトは，高沸点
物を異常に生威し，目的物の収率もきわめて悪い．また
チオニルクロライトは、高沸点の異常生成物のみか生處
する．したかって、これらは使用しがたい． 本発明の式（ＩＩ）のジアリールホスフィンハイドロオ
キシトの式（ｍ）のハロゲン化リンによるハロゲン化反
応は，激しい発熱をともなうため、シアリールホスフィ
ンハイドロオキシドを徐々に加えて，反応温度を制御す
る必要があり、一般的には０〜１００℃、好ましくはｌ
ｏ〜３０℃程度に保つことがよい． 次に本発明のハロゲン化反応の操作例を示す．窒素雰囲
気中で０．６７モル〜１．５モル倍のハロゲン化リンを
単独あるいは例えばベンゼントルエン、ヘキサンなどの
溶媒に希釈して、フラスコ中に入れておき、反応液を冷
却下に攪拌しながらｌＯ〜２０℃の温度に保ち、式（ｎ
）のジアリールホスフィンハイトロオキシドを同容量か
ら３倍量の容量のベンゼン、トルエン、ヘキサン等の溶
媒であらかじめ希釈して滴下する．そして反応を熟威し
て完結させるために、さらに０．５〜２時間攪拌を続け
る。この時点で本反応のハロゲン化への転化率はほぼ１
００％である．反応後はそのまま溶媒を留去して減圧蒸
留により、式（Ｉ）のジアリールホスフィンハライトを
得ることができるが、反応溶媒を留去後、ｎ−ヘキサン
、ｎ−へブタン，ｎ−オクタン等を加えると，反応で生
威したオイル状のポリリン酸様物質が沈降するため、こ
れを除去して、式（１）のジアリールホスフィンハライ
トを得ることもできる．この反応では，上記以外の副生
物がないために，ポリリン酸様物質を除去した後，減圧
下に単蒸留することによって、ほぽ純品で式（Ｉ）のジ
アリールホスフィンハライトを得ることができる．次に
実施例を示して本発明の製造法を具体的に説明する． 実施例ｌ ジフェニルホスフィンハライトの製造法 ベンゼン２００＋ｎＪｌに溶解した三塩化リン ６８．
７ｇ （０．５モル）を窒素置換した１文容量の４口フ
ラスコに仕込み、攪拌しながら１０℃まで冷却した．こ
の反応溶液に２０〜３０℃に保ちながらベンゼン３ ０
０ ｍ ｌに溶解したジフェニルホスフィンハイトロ
オキサイド １０１ｇ（０．５モル）を滴下した．滴下
終了後、さらに３０分間攬拌して反応を完了させた．そ
して、反応液中に沈降した不溶物をデカンテーションに
より除去し、上澄みの反応液を減圧蒸留することによっ
て，沸点が１３５〜１４０℃／ ２ ｍ ｍ Ｈ ｇの
留分て、目的とするジフェニルホスフィンクロライト１
０４．５ｇ （ガスクロマトグラフィーによる純度９９
．３％）を得た．この反応の収率は，三塩化リンに対し
て９４．０％であった．また単離したジフェニルホスフ
ィンクロライトは、次に示すように元素分析によって目
的とする化合物であることを確認した。
錯体に導かれ、反応試薬や触媒等の用途で広く用いられ
ているジアリールアルキルホスフィン等の非対称ホスフ
ィン化合物、ボリスチレンペンダントホスフィン化合物
：ビス（シフェニルホスフィノ）エタンおよびビス（ジ
フェニルホスフィノ）プロパン等の２座配位型ホスフィ
ン化合物の原料として有用なジアリールホスフィンハラ
イトの製造法に関する． 藍東立且（ ジフェニルホスフィンクロライドの合戊には、三塩化リ
ンとベンゼンのフリーデルクラフト反応によって得られ
るフェニルジクロルホスフィンの再分配反応がよく利用
されるが、再分配反応自体の収率が低く、７０％程度で
あり、操作も煩雑である（ケミッシュ ベルヒテ（Ｃｈ
ｅ＋ａ．Ｂｅｒ）第９４巻第２１２２頁（１９６１年）
）．また、トリフェニルホスフィンを用い、高温条件下
で塩素を作用させる方法もあるが、不純物の生或も多く
、一般的ではない（オーガニック リアクションズ（Ｏ
ｒｇａｎｉｃ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ）第６巻 第３２１
頁（ １９５１年））。さらに、実験室的にはテトラヒ
トロフラン溶媒中でトリフェニルホスフィンに金属リチ
ウムを反応させた後、ホスゲンによりクロル化する方法
も簡便で有用てあるか、工業的な価値に乏しい（ケミカ
ル アブストラクト（ＣｈｅｍｉｃａｌＡｂｓｔｒｕｃ
ｔ）第５７巻 ２２５６ｅ）．また，ジフェニルホスフ
ィンハイドロオキシドに無溶媒で，三塩化リンを作用さ
せる方法もあるが，反応収率は５９％程度と低く、工業
的規模での実用性に欠ける〔ジャーナル オブ オーガ
ニック ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇ
ａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）第３０巻 第２３９３
頁（１９６５年〉）．か 決しようと る課 シアリールホスフィンハライトの合成法は前記したよう
に種々の方法が提案されており、工業的規模での製造も
行なわれているが、いずれも工業的規模で実施するには
，操作性や経済性に難点かある．したがって、これに代
る有効な製造法の開発が切望されている． 本発明は、工業的に容易な操作で目的とするジアリール
ホスフィンハライトを高純度、高収率で得る製造法を提
供することにある． 本発明者らは、かかる問題点を解決すべく鋭意検討を重
ねた．その結果、工業的に極めて有利なジアリールホス
フィンハライトの製造法を見出すに至った．すなわち、
本発明は、 一般式 （式中、Ｒは、水素原子、低級アルキル基または低級ア
ルコキシ基を示す．）で示されるジアリールホスフィン
ハイドロオキシトを不活性溶媒で冷釈した 一般式 ｐｘ３ （ｍ） 〒、 （式中、Ｘはハロゲン原子を示す．〉でｌ＃されるハロ
ゲン化リン中に膚下して反応させることを特徴とする、 一般式 ｊｆ’ Ｉｆｉｉｌ−１１ Ｉｆ ／ ）で示されるジ
アリールホスフィンハライトの製造法に閲する． 本発明におけるジアリールホスフィンハライトの合戒法
を反応式により次に示す． ｌｉ崖ＩＮ＄７１）以下，本発明の製造法をさらに詳し
く説明する． ａ）（ＩＩ 化合 の合成 式（Ｉ）化合物の原料化合物である公知の式（ＩＩ）の
ジアリールホスフィンハイトロオキシドは下記の反応式
に示すとおり、一般式（ＲＯ）２ＰＯＨで示されるジア
ルキルホスファイトに一般の＃４ｍ金属試薬を作用させ
ることによって，容易に、しかも高純度で得られる．こ
の式（！Ｉ）化合物は、精製処理をすることなくハロゲ
ン化反応に供することができるため、その意義は極めて
太き（式中、Ｒは、水素原子、低級アルキル基または低
級アルコキシ基を示し２ｘはハロゲン原子なす．） ｂ） （Ｉ）化合物の合成 式（Ｉ）化合物を得るには，こうして得た式（■）のジ
アリールホスフィンハイドロオキシドよい。式（ｍ）の
ハロゲン原子としては，塩素、臭素か挙げられ、式（ｍ
）化合物としては三塩化リンや三臭化リンが好ましい．
この反応は発熱を伴なうので、発熱を円滑に制御するた
めに式（ＩＩ）化合物を、不活性の有機溶媒で希釈した
式（ｍ）化合物中に滴下して反応させることが不可欠で
ある．このような操作が必須条件であり、逆に式（ｍ）
化合物を滴下した場合は，後記の比較例ｌのとおり副反
応を伴って、前記の従来技術のごと〈収率が低下する． ここで使用される溶媒としては，ベンゼン、トルエン，
キシレン等の芳香族系、ヘキサン、ベンタン、オクタン
等の脂肪系族、ジクロロメタン，ρ化反応で使用される
反応剤としては、前記した三塩化リンや三臭化リンの他
に五塩化リン、オキシ塩化リン、アセチルクロライトお
よびチオニルクロライトなどが考えられル．シかしなが
ら五塩化リンは錯体形成のために収率か劣り、オキシ塩
化リンは全く反応せず、アセチルクロライトは，高沸点
物を異常に生威し，目的物の収率もきわめて悪い．また
チオニルクロライトは、高沸点の異常生成物のみか生處
する．したかって、これらは使用しがたい． 本発明の式（ＩＩ）のジアリールホスフィンハイドロオ
キシトの式（ｍ）のハロゲン化リンによるハロゲン化反
応は，激しい発熱をともなうため、シアリールホスフィ
ンハイドロオキシドを徐々に加えて，反応温度を制御す
る必要があり、一般的には０〜１００℃、好ましくはｌ
ｏ〜３０℃程度に保つことがよい． 次に本発明のハロゲン化反応の操作例を示す．窒素雰囲
気中で０．６７モル〜１．５モル倍のハロゲン化リンを
単独あるいは例えばベンゼントルエン、ヘキサンなどの
溶媒に希釈して、フラスコ中に入れておき、反応液を冷
却下に攪拌しながらｌＯ〜２０℃の温度に保ち、式（ｎ
）のジアリールホスフィンハイトロオキシドを同容量か
ら３倍量の容量のベンゼン、トルエン、ヘキサン等の溶
媒であらかじめ希釈して滴下する．そして反応を熟威し
て完結させるために、さらに０．５〜２時間攪拌を続け
る。この時点で本反応のハロゲン化への転化率はほぼ１
００％である．反応後はそのまま溶媒を留去して減圧蒸
留により、式（Ｉ）のジアリールホスフィンハライトを
得ることができるが、反応溶媒を留去後、ｎ−ヘキサン
、ｎ−へブタン，ｎ−オクタン等を加えると，反応で生
威したオイル状のポリリン酸様物質が沈降するため、こ
れを除去して、式（１）のジアリールホスフィンハライ
トを得ることもできる．この反応では，上記以外の副生
物がないために，ポリリン酸様物質を除去した後，減圧
下に単蒸留することによって、ほぽ純品で式（Ｉ）のジ
アリールホスフィンハライトを得ることができる．次に
実施例を示して本発明の製造法を具体的に説明する． 実施例ｌ ジフェニルホスフィンハライトの製造法 ベンゼン２００＋ｎＪｌに溶解した三塩化リン ６８．
７ｇ （０．５モル）を窒素置換した１文容量の４口フ
ラスコに仕込み、攪拌しながら１０℃まで冷却した．こ
の反応溶液に２０〜３０℃に保ちながらベンゼン３ ０
０ ｍ ｌに溶解したジフェニルホスフィンハイトロ
オキサイド １０１ｇ（０．５モル）を滴下した．滴下
終了後、さらに３０分間攬拌して反応を完了させた．そ
して、反応液中に沈降した不溶物をデカンテーションに
より除去し、上澄みの反応液を減圧蒸留することによっ
て，沸点が１３５〜１４０℃／ ２ ｍ ｍ Ｈ ｇの
留分て、目的とするジフェニルホスフィンクロライト１
０４．５ｇ （ガスクロマトグラフィーによる純度９９
．３％）を得た．この反応の収率は，三塩化リンに対し
て９４．０％であった．また単離したジフェニルホスフ
ィンクロライトは、次に示すように元素分析によって目
的とする化合物であることを確認した。
分析値 Ｃ：６４．４ Ｈ二４．３
Ｐ：１４．５ Ｃ 文 ：゛ １６．７計算値 Ｃ
：６５．３２ Ｈ：４．５７Ｐ：１４．０４ Ｃ
ｉ：ｌ６ 。 ０７ベンゼン１００ｍＪＬに溶解した三
塩化リン ３４．４ｇ （０．２５モル）を窒素置換し
た５００ｍｌ容量の４日フラスコに仕込み、攪拌しなが
ら１０℃まで冷却した．この反応溶液にｌＯ〜２０℃に
保ちながらトルエン１５０ｍＭに溶解したビス（バラー
トリル）ホスフィンハイトロオキサイド ５７．６ｇ
（０．２５モル）を滴下した．滴下終了後、さらに３０
分間攪拌して反応を完了させた。実施例１と同様に不溶
物を除去した反応液を減圧蒸留し、沸点か１４５〜１５
０℃／ ２ ｍ ｍＨｇの留分で目的とするビス（パラ
ーＬリル）ホスフィンクロライド５７．２ｇ （ガスク
ロマトグラフィーによる純度９８．１％）を得た．この
反応の収率は、三塩化リンに対して９０．２％であった
．またこのものの元素分析値は、次のとお ってある。
：６５．３２ Ｈ：４．５７Ｐ：１４．０４ Ｃ
ｉ：ｌ６ 。 ０７ベンゼン１００ｍＪＬに溶解した三
塩化リン ３４．４ｇ （０．２５モル）を窒素置換し
た５００ｍｌ容量の４日フラスコに仕込み、攪拌しなが
ら１０℃まで冷却した．この反応溶液にｌＯ〜２０℃に
保ちながらトルエン１５０ｍＭに溶解したビス（バラー
トリル）ホスフィンハイトロオキサイド ５７．６ｇ
（０．２５モル）を滴下した．滴下終了後、さらに３０
分間攪拌して反応を完了させた。実施例１と同様に不溶
物を除去した反応液を減圧蒸留し、沸点か１４５〜１５
０℃／ ２ ｍ ｍＨｇの留分で目的とするビス（パラ
ーＬリル）ホスフィンクロライド５７．２ｇ （ガスク
ロマトグラフィーによる純度９８．１％）を得た．この
反応の収率は、三塩化リンに対して９０．２％であった
．またこのものの元素分析値は、次のとお ってある。
元素分析値 Ｃ：６７．Ｏ
Ｐ：１２．８
計算値 Ｃ：６７．６２
Ｐ：１２．４５
Ｃ文・１４．２６
Ｈ：５．３
Ｃｕ：１４．９
Ｈ：５．６７
ジクロロエタン１００ｍＪＬに溶解した三塩化リン ３
４．４ｇ （０．２５モル）を窒素置換した５００ｍｌ
容量の４口フラスコに仕込み、攪拌しながらｌＯ℃まで
冷却した．この反応溶液に１０〜２０℃に保ちながらベ
ンゼン１５０ｍｉに溶解したビス（バラートリル）ホス
フィンハイドロオキシト６５．６ｇ （０．２５モル）
を滴下した．滴下終了後、さらに３０分間攪拌して反応
を完了させた．実施例ｌと同様に不溶物を除去した反応
液を減圧蒸留し、沸点か１８５〜１９０℃／ ２ ｍｍ
Ｈｇの留分で目的とするビス（バラーメトキシフェニル
〉ホスフインクロライド６３．２ｇ（ガスクロマトクラ
フィーによる純度９８．６％）を得た．この反応の収率
は、三塩化リンに対して８８．８％であった．またこの
ものの元素分析値は、次のとおりである． 元素分析値 Ｃ：５８．８ Ｈ：４．６Ｐ：１１．７
Ｃ交：ｌ３．０ 計算値 Ｃ：５９．９１ Ｈ：５．０３Ｐ：ｌ１
．０３ Ｃ交：１２．６３ ｍ シフェニルホルフィンブロマイトの雀も ベンゼン２００ｍＪｌに溶解した三臭化リン ｌ３５．
３５ｇ （０．５モル）を窒素置換した１文容量の４口
フラスコに仕込み，攪拌しながらｌＯ゜Ｃまで冷却した
．反応溶液を２０〜３０″Ｃに保ちなからベンゼン３０
０ｍｌに溶解したジフェニルホスフィンオキシト ｉｏ
１ｇ（０．５モル）を滴下した．滴下終了後、さらに３
０分間攪拌して反応を完了させた．そして、反応液中に
沈降した不溶物をデカンテーションにより除去し、上澄
みの反応液を減圧蒸留することによって、沸点が１４５
〜１５０℃７ ２ ｇ＋ｍＨＨの留分て、目的とするジ
フェニルホスフィンブロマイド１２４．０ｇ （ガスク
ロマトグラフィーによる純度９９．１％）を得た．この
反応の収率は、三臭化リンに対して９麹 ２、７％であった．また単がしたジフェニルホスフィン
ブロマイドは、次に示すように元素分析によって目的と
する化合物であることを確認した．分析値 Ｃ：５３．
９ Ｈ：４．０ Ｐ：１１．２ Ｂｒ：３０．９ 計算値 Ｃ：５４．３７ Ｈ：３．８０Ｐ：１１．６
８ Ｂｒ：３０．１４ ベンゼン３００ｍＪｌに溶解したシフェニルホスフィン
ハイトロオキシト １０１ｇ（０．５モル）を窒素置換
したｉ！Ｌ容量の４口フラスコに仕込み、攪拌しながら
ｌＯ℃まで冷却した．この反応溶液に２０〜３０℃に保
ちながらベンゼン２００ｍｌに溶解した三塩化リン ６
８．７ｇ （０．５モル）を滴下した．滴下終了後、さ
らに３０分間攪拌して反応を完了させた。そして、反応
液中に沈降した不溶物をデカンテーションにより除去し
、上澄みの反応液を減圧蒸留することによって、沸点が
ｌ３５〜ｌ４０℃／ ２ ｍ ｍ Ｈ ｇの留分て、目
的とするジフェニノレホスフィンハライト７４．５ｇ
（ガスクロマトグラフィーによる純度９４，４％）を得
た．この反応の収率は、三塩化リンに対して６３．７％
であった． 工Ｌ及里旦通１ 本発明の製造法は、従来の製造法に比べて工業的規模で
の実施場面で、特に操作性、収率、純度の点て勝ってい
る．すなわち，本発明の方法によれば、工業薬品として
入手の容易な原料の式（ＩＩ）の化合物を用いることが
でき、反応操作も特別の注意を払うことなく行うことが
できる．また，不純物の生成もほとんどなく、しかも精
製、単離操作か容易である．また目的とするジアリール
ホスフィンハライトを高収率，高純度で得ることができ
る． したかって本発明は， 工業的規模でのジアリー ルホスフィンハライトの製造法として有用である．
４．４ｇ （０．２５モル）を窒素置換した５００ｍｌ
容量の４口フラスコに仕込み、攪拌しながらｌＯ℃まで
冷却した．この反応溶液に１０〜２０℃に保ちながらベ
ンゼン１５０ｍｉに溶解したビス（バラートリル）ホス
フィンハイドロオキシト６５．６ｇ （０．２５モル）
を滴下した．滴下終了後、さらに３０分間攪拌して反応
を完了させた．実施例ｌと同様に不溶物を除去した反応
液を減圧蒸留し、沸点か１８５〜１９０℃／ ２ ｍｍ
Ｈｇの留分で目的とするビス（バラーメトキシフェニル
〉ホスフインクロライド６３．２ｇ（ガスクロマトクラ
フィーによる純度９８．６％）を得た．この反応の収率
は、三塩化リンに対して８８．８％であった．またこの
ものの元素分析値は、次のとおりである． 元素分析値 Ｃ：５８．８ Ｈ：４．６Ｐ：１１．７
Ｃ交：ｌ３．０ 計算値 Ｃ：５９．９１ Ｈ：５．０３Ｐ：ｌ１
．０３ Ｃ交：１２．６３ ｍ シフェニルホルフィンブロマイトの雀も ベンゼン２００ｍＪｌに溶解した三臭化リン ｌ３５．
３５ｇ （０．５モル）を窒素置換した１文容量の４口
フラスコに仕込み，攪拌しながらｌＯ゜Ｃまで冷却した
．反応溶液を２０〜３０″Ｃに保ちなからベンゼン３０
０ｍｌに溶解したジフェニルホスフィンオキシト ｉｏ
１ｇ（０．５モル）を滴下した．滴下終了後、さらに３
０分間攪拌して反応を完了させた．そして、反応液中に
沈降した不溶物をデカンテーションにより除去し、上澄
みの反応液を減圧蒸留することによって、沸点が１４５
〜１５０℃７ ２ ｇ＋ｍＨＨの留分て、目的とするジ
フェニルホスフィンブロマイド１２４．０ｇ （ガスク
ロマトグラフィーによる純度９９．１％）を得た．この
反応の収率は、三臭化リンに対して９麹 ２、７％であった．また単がしたジフェニルホスフィン
ブロマイドは、次に示すように元素分析によって目的と
する化合物であることを確認した．分析値 Ｃ：５３．
９ Ｈ：４．０ Ｐ：１１．２ Ｂｒ：３０．９ 計算値 Ｃ：５４．３７ Ｈ：３．８０Ｐ：１１．６
８ Ｂｒ：３０．１４ ベンゼン３００ｍＪｌに溶解したシフェニルホスフィン
ハイトロオキシト １０１ｇ（０．５モル）を窒素置換
したｉ！Ｌ容量の４口フラスコに仕込み、攪拌しながら
ｌＯ℃まで冷却した．この反応溶液に２０〜３０℃に保
ちながらベンゼン２００ｍｌに溶解した三塩化リン ６
８．７ｇ （０．５モル）を滴下した．滴下終了後、さ
らに３０分間攪拌して反応を完了させた。そして、反応
液中に沈降した不溶物をデカンテーションにより除去し
、上澄みの反応液を減圧蒸留することによって、沸点が
ｌ３５〜ｌ４０℃／ ２ ｍ ｍ Ｈ ｇの留分て、目
的とするジフェニノレホスフィンハライト７４．５ｇ
（ガスクロマトグラフィーによる純度９４，４％）を得
た．この反応の収率は、三塩化リンに対して６３．７％
であった． 工Ｌ及里旦通１ 本発明の製造法は、従来の製造法に比べて工業的規模で
の実施場面で、特に操作性、収率、純度の点て勝ってい
る．すなわち，本発明の方法によれば、工業薬品として
入手の容易な原料の式（ＩＩ）の化合物を用いることが
でき、反応操作も特別の注意を払うことなく行うことが
できる．また，不純物の生成もほとんどなく、しかも精
製、単離操作か容易である．また目的とするジアリール
ホスフィンハライトを高収率，高純度で得ることができ
る． したかって本発明は， 工業的規模でのジアリー ルホスフィンハライトの製造法として有用である．
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒは、水素原子、低級アルキル基または低級ア
ルコキシ基を示す。）で示されるジアリールホスフィン
ハイドロオキシドを、不活性溶媒で希釈した 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘはハロゲン原子を示す。）で、示されるハロ
ゲン化リン中に滴下して反応させることを特徴とする、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ、Ｘは、前記に同じ。 ）で示されるジアリールホスフィンハライドの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18476489A JP2678665B2 (ja) | 1989-07-19 | 1989-07-19 | ジアリールホスフィンハライドの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18476489A JP2678665B2 (ja) | 1989-07-19 | 1989-07-19 | ジアリールホスフィンハライドの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0352894A true JPH0352894A (ja) | 1991-03-07 |
| JP2678665B2 JP2678665B2 (ja) | 1997-11-17 |
Family
ID=16158921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18476489A Expired - Fee Related JP2678665B2 (ja) | 1989-07-19 | 1989-07-19 | ジアリールホスフィンハライドの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2678665B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110922428A (zh) * | 2019-12-04 | 2020-03-27 | 浙江扬帆新材料股份有限公司 | 一种氯代膦化物的合成方法 |
-
1989
- 1989-07-19 JP JP18476489A patent/JP2678665B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110922428A (zh) * | 2019-12-04 | 2020-03-27 | 浙江扬帆新材料股份有限公司 | 一种氯代膦化物的合成方法 |
| CN110922428B (zh) * | 2019-12-04 | 2022-03-04 | 浙江扬帆新材料股份有限公司 | 一种氯代膦化物的合成方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2678665B2 (ja) | 1997-11-17 |
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