JPH01211542A - 4,4’‐ジヒドロキシテトラフェニルメタン類の製造方法 - Google Patents
4,4’‐ジヒドロキシテトラフェニルメタン類の製造方法Info
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【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、4.4’−ジヒドロキシテトラフェニルメタ
ン類の製造方法の改良に関するものである。
ン類の製造方法の改良に関するものである。
さらに詳しくいえば、本発明は、エンジニアリング樹脂
や光デイスク材料などの原料として、あるいは有機合成
中間体などとして有用な4.4°−ジヒドロキシテトラ
フェニルメタン類を、工業的に入手しやすいベンゼン類
と四塩化炭素とフェノール類とから、中間体のジフェニ
ルジクロロメタン類を単離することなく、簡単なプロセ
スで収率よく製造する方法に関するものである。
や光デイスク材料などの原料として、あるいは有機合成
中間体などとして有用な4.4°−ジヒドロキシテトラ
フェニルメタン類を、工業的に入手しやすいベンゼン類
と四塩化炭素とフェノール類とから、中間体のジフェニ
ルジクロロメタン類を単離することなく、簡単なプロセ
スで収率よく製造する方法に関するものである。
[従来の技術]
従来、4.4’−ジヒドロキシテトラフェニルメタン類
は、エンジニアリング樹脂や光デイスク材料などの原料
として、あるいは有機合成中間体などとして有用な化合
物であることが知られている。
は、エンジニアリング樹脂や光デイスク材料などの原料
として、あるいは有機合成中間体などとして有用な化合
物であることが知られている。
この4.4゛−ジヒドロキシテトラフェニルメタン類は
、一般にジフェニルジクロロメタン類と7エノール類と
を縮合させることによって得られることが知られており
、その製造方法としては、例えば純粋なジフェニルジク
ロロメタンと72エノールとをモル比1:2ないし1:
2.4の割合で、反応させ、生成物をアルコールで旭理
して、精製4.4゛−ジヒドロキシテトラフェニルメタ
ンwK(ビスフェノールTP)を製造する方法が提案さ
れている(特公昭46−11651号公報)。しかしな
がら純粋なジフェニルジクロロメタンは、通常、比較的
高価なベンゾフェノンを五塩化リンを塩素化し、得られ
たジフェニルジクロロメタンを蒸留により単離すること
により得られることから、原料として高価なものとなり
、したがって前記方法は経済的に極めて不利であるとい
う欠点を1している。
、一般にジフェニルジクロロメタン類と7エノール類と
を縮合させることによって得られることが知られており
、その製造方法としては、例えば純粋なジフェニルジク
ロロメタンと72エノールとをモル比1:2ないし1:
2.4の割合で、反応させ、生成物をアルコールで旭理
して、精製4.4゛−ジヒドロキシテトラフェニルメタ
ンwK(ビスフェノールTP)を製造する方法が提案さ
れている(特公昭46−11651号公報)。しかしな
がら純粋なジフェニルジクロロメタンは、通常、比較的
高価なベンゾフェノンを五塩化リンを塩素化し、得られ
たジフェニルジクロロメタンを蒸留により単離すること
により得られることから、原料として高価なものとなり
、したがって前記方法は経済的に極めて不利であるとい
う欠点を1している。
[発明が解決しようとする課題]
本発明は、このような従来の4.4′−ジヒドロキシテ
トラフェニルメタン類の製造方法が有する欠点を克服し
、工業的に入手しやすい安価な原料を用い、中間体のジ
フェニルジクロロメタン類を単離することなく、簡単な
プロセスで4,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタ
ン類を収率よく製造する方法を提供することを目的とし
てなされたものである。
トラフェニルメタン類の製造方法が有する欠点を克服し
、工業的に入手しやすい安価な原料を用い、中間体のジ
フェニルジクロロメタン類を単離することなく、簡単な
プロセスで4,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタ
ン類を収率よく製造する方法を提供することを目的とし
てなされたものである。
[課題を解決するための手段]
本発明者らは前記目的を達成するために鋭意研究を重ね
た結果、ベンゼン類と四塩化炭素とをルイス酸触媒の存
在下に反応させたのち、得られた反応混合物に7エノー
ル類を添加して反応を行い、次いで、水及び含ハロゲン
化物を添加して処理することにより、その目的を達成し
うろことを見い出し、この知見に基づいて本発明を完成
するに至りIこ 。
た結果、ベンゼン類と四塩化炭素とをルイス酸触媒の存
在下に反応させたのち、得られた反応混合物に7エノー
ル類を添加して反応を行い、次いで、水及び含ハロゲン
化物を添加して処理することにより、その目的を達成し
うろことを見い出し、この知見に基づいて本発明を完成
するに至りIこ 。
すなわち、本発明は、ルイス酸触媒の存在下、ベンゼン
類と、四塩化炭素とを反応させ、次いで得られた反応混
合物にフェノール類を添加して反応させたのち、水及び
含ハロゲン化物を添加することを特徴とする4、4″−
ジヒドロキシテトラフェニルメタン類の製造方法を提供
するものである。
類と、四塩化炭素とを反応させ、次いで得られた反応混
合物にフェノール類を添加して反応させたのち、水及び
含ハロゲン化物を添加することを特徴とする4、4″−
ジヒドロキシテトラフェニルメタン類の製造方法を提供
するものである。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明方法において用いられるベンゼン類としては、例
えば一般式 (式中のR1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、
アリール基、アラルキル基、又は本発明における反応を
阻害しない他の置換基、nは1〜6、好ましくは1〜3
の整数であり、nが2以上の場合は R1はたがいに異
なっていてもよい)で表わされる化合物を挙げることが
できる。
えば一般式 (式中のR1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、
アリール基、アラルキル基、又は本発明における反応を
阻害しない他の置換基、nは1〜6、好ましくは1〜3
の整数であり、nが2以上の場合は R1はたがいに異
なっていてもよい)で表わされる化合物を挙げることが
できる。
前記一般式(1)におけるR1についてのアルプロピル
基、n−ブチル基、イソブチル基、5ec−ブチル基、
t−ブチル基、各種アミル基、各種ヘキシル基などが好
ましく挙げられるが、これらの中でメチル基及びエチル
基が特に好適である。
基、n−ブチル基、イソブチル基、5ec−ブチル基、
t−ブチル基、各種アミル基、各種ヘキシル基などが好
ましく挙げられるが、これらの中でメチル基及びエチル
基が特に好適である。
該R1についてはアリール基としては、例えばフェニル
基、ビフェニル基、あるいはメチルフェニル基やエチル
フェニル基などの低級アルキル基置換フェニル基などが
挙げられ、またアラルキル基としては、例えばフェニル
メチル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基
などが挙げられる。
基、ビフェニル基、あるいはメチルフェニル基やエチル
フェニル基などの低級アルキル基置換フェニル基などが
挙げられ、またアラルキル基としては、例えばフェニル
メチル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基
などが挙げられる。
さらに該R1についてのハロゲン原子としては、フッ素
原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素を挙げることがで
きるが、これらの中で特に塩素原子が好ましい。
原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素を挙げることがで
きるが、これらの中で特に塩素原子が好ましい。
該R1としては、このように種々の基又は原子を挙げる
ことができるが、水素原子や低級アルキル基など、反応
に際して立体障害の小さな基が好ましく、特に水素原子
が好適である。
ことができるが、水素原子や低級アルキル基など、反応
に際して立体障害の小さな基が好ましく、特に水素原子
が好適である。
本発明において、好適に使用しうるベンゼン類の具体例
としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベン
ゼン、グロビルベンゼン、ブチルベンゼン、クロロベン
ゼンなどを挙げることがでキ、中でモ、ベンゼン、トル
エン、エチルベンゼン、クロロベンゼンが好ましく、特
にベンゼンが好適である。これらのベンゼン類は1種用
いてもよいし、2種以上を組合わせて用いてもよい。
としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベン
ゼン、グロビルベンゼン、ブチルベンゼン、クロロベン
ゼンなどを挙げることがでキ、中でモ、ベンゼン、トル
エン、エチルベンゼン、クロロベンゼンが好ましく、特
にベンゼンが好適である。これらのベンゼン類は1種用
いてもよいし、2種以上を組合わせて用いてもよい。
本発明方法において用いられるフェノール類としては、
一般式 (式中のR2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、
アリール基、アラルキル基又は本発明の反応を阻害しな
い他の置換基、mは1〜4の整数、好ましくは1又は2
であり、mが2以上の場合は、R2はたがいに異なって
いてもよい) で表わされる化合物を挙げることができる。
一般式 (式中のR2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、
アリール基、アラルキル基又は本発明の反応を阻害しな
い他の置換基、mは1〜4の整数、好ましくは1又は2
であり、mが2以上の場合は、R2はたがいに異なって
いてもよい) で表わされる化合物を挙げることができる。
前記一般式(1)におけるR1についてのハロゲン原子
、アルキル基、アリール基、アラルキル基としては、前
記一般式CI)におけるR1で挙げたものと同様のもの
を挙げることができる。該R1の好ましいものとしては
、水素原子、塩素原子、フッ素原子、あるいはメチル基
やエチル基などの低級アルキル基など、反応に際して立
体障害の小さなものが挙げられるが、さらに好ましいR
1としては、水素原子及び低級アルキル基、特゛に水素
原子及びメチル基を挙げることができる。
、アルキル基、アリール基、アラルキル基としては、前
記一般式CI)におけるR1で挙げたものと同様のもの
を挙げることができる。該R1の好ましいものとしては
、水素原子、塩素原子、フッ素原子、あるいはメチル基
やエチル基などの低級アルキル基など、反応に際して立
体障害の小さなものが挙げられるが、さらに好ましいR
1としては、水素原子及び低級アルキル基、特゛に水素
原子及びメチル基を挙げることができる。
本発明において、好適に使用しうるフェノール類の具体
例としては、フェノール、0−クレゾール、0−エチル
フェノール、0−クロロフェノール、2.6−C;クロ
ロフェノール、2,6−シメチルフエノール、0−プロ
ピルフェノール、0−フルオロフェノール、2.6−ジ
フルオロフェノール、o−フェニルフェノール、0−ベ
ンジルフェノール ることができ、これらの中でも、フェノール、o−クレ
ゾール、0−エチルフェノール、o−’)ロロフェノー
ル、o−フルオロフェノール、2.6−シメチルフエノ
ール、2.6−ジクロロフェノール、2、6−ジフルオ
ロフェノールなどが好ましく、特にフェノール及び0−
クレゾールが好適である。これらのフェノール類は1種
用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい
。
例としては、フェノール、0−クレゾール、0−エチル
フェノール、0−クロロフェノール、2.6−C;クロ
ロフェノール、2,6−シメチルフエノール、0−プロ
ピルフェノール、0−フルオロフェノール、2.6−ジ
フルオロフェノール、o−フェニルフェノール、0−ベ
ンジルフェノール ることができ、これらの中でも、フェノール、o−クレ
ゾール、0−エチルフェノール、o−’)ロロフェノー
ル、o−フルオロフェノール、2.6−シメチルフエノ
ール、2.6−ジクロロフェノール、2、6−ジフルオ
ロフェノールなどが好ましく、特にフェノール及び0−
クレゾールが好適である。これらのフェノール類は1種
用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい
。
また、本発明においては、これらのフェノール類は反応
に支障がない程度の水分を含んでいてもよいが、その含
有量は通常20重量%以下、好ましくは5重量%以下と
することが望ましい。この水分含有量が多すぎると、生
成したジフェニルジクロロメタン類の加水分解によるベ
ンゾフェノンW4ヤ、4−ヒドロキシフェニルジフェニ
ルカルビノール類の副生量が多くなるので、好ましくな
い。
に支障がない程度の水分を含んでいてもよいが、その含
有量は通常20重量%以下、好ましくは5重量%以下と
することが望ましい。この水分含有量が多すぎると、生
成したジフェニルジクロロメタン類の加水分解によるベ
ンゾフェノンW4ヤ、4−ヒドロキシフェニルジフェニ
ルカルビノール類の副生量が多くなるので、好ましくな
い。
本発明方法において用いられるルイス酸触媒としては公
知のもの、例えば塩化アルミニウム、臭化アルミニウム
、7ツ化ホウ素、塩化ホウ素、塩化第二鉄、臭化第二鉄
、塩化亜鉛、四塩化チタン、四塩化ジルコニウム、四塩
化スズ、五塩化アンチモンなどを挙げることができるが
、これらの中で特に塩化アルミニウムが好適である。こ
れらのルイス酸触媒は1種用いてもよいし、2種以上を
組み合わせて用いてもよい。
知のもの、例えば塩化アルミニウム、臭化アルミニウム
、7ツ化ホウ素、塩化ホウ素、塩化第二鉄、臭化第二鉄
、塩化亜鉛、四塩化チタン、四塩化ジルコニウム、四塩
化スズ、五塩化アンチモンなどを挙げることができるが
、これらの中で特に塩化アルミニウムが好適である。こ
れらのルイス酸触媒は1種用いてもよいし、2種以上を
組み合わせて用いてもよい。
さらに、本発明方法において用いられる含ハロゲン化物
としては、含ハロゲン酸類、オキシハロゲン化物、ハロ
ゲン化リン、金属ハロゲン化物などが好ましく挙げられ
る。前記含ハロゲン酸類としては、例えば塩化水素、フ
ッ化水素、臭化水素、ヨウ化水素などのハロゲン化水素
や次亜塩素酸などの次亜ハロゲン酸などを挙げることが
できる。
としては、含ハロゲン酸類、オキシハロゲン化物、ハロ
ゲン化リン、金属ハロゲン化物などが好ましく挙げられ
る。前記含ハロゲン酸類としては、例えば塩化水素、フ
ッ化水素、臭化水素、ヨウ化水素などのハロゲン化水素
や次亜塩素酸などの次亜ハロゲン酸などを挙げることが
できる。
また、オキシハロゲン化物としては、例えばチオニルク
ロリド、スルフリルクロリド、バナジウムオキシクロリ
ドなどが、ハロゲン化リンとしては、例えば三塩化リン
、五塩化リン、三臭化リン、五臭化リンなどが、金属ハ
ロゲン化物としては、例えば三塩化ホウ素、=フッ化ホ
ウ素、サラシコ粉などが挙げられる。これらの含ハロゲ
ン化物は、それぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を
組み合わせて用いてもよい。
ロリド、スルフリルクロリド、バナジウムオキシクロリ
ドなどが、ハロゲン化リンとしては、例えば三塩化リン
、五塩化リン、三臭化リン、五臭化リンなどが、金属ハ
ロゲン化物としては、例えば三塩化ホウ素、=フッ化ホ
ウ素、サラシコ粉などが挙げられる。これらの含ハロゲ
ン化物は、それぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を
組み合わせて用いてもよい。
本発明方法においては、まず前記ルイス酸触媒の存在下
に、ベンゼン類と四塩化炭素とを反応させて、中間体の
ジフェニルジクロロメタン類を生成させる。この際、ベ
ンゼン類(A)、ルイス酸触媒(B)及び四塩化炭素(
C)の使用割合については、(A)/ (B) モル比
が115−1000/1。
に、ベンゼン類と四塩化炭素とを反応させて、中間体の
ジフェニルジクロロメタン類を生成させる。この際、ベ
ンゼン類(A)、ルイス酸触媒(B)及び四塩化炭素(
C)の使用割合については、(A)/ (B) モル比
が115−1000/1。
好ましくは1/2〜20/1,(C)/(A)モル比が
115〜200/1,好ましくは1/3〜20/lにな
るような割合で用いることが望ましい。まt;、反応温
度は、通常−5〜80℃、好ましくは0〜20℃の範囲
で選ばれる。この反応温度が一5℃より低いと反応速度
が遅くて実用的でないし、80℃を超えると副反応が多
く起こる傾向があり、好ましくない。
115〜200/1,好ましくは1/3〜20/lにな
るような割合で用いることが望ましい。まt;、反応温
度は、通常−5〜80℃、好ましくは0〜20℃の範囲
で選ばれる。この反応温度が一5℃より低いと反応速度
が遅くて実用的でないし、80℃を超えると副反応が多
く起こる傾向があり、好ましくない。
この反応は発熱反応であるので、除熱操作、例えば水冷
などを適宜行うことが望ましく、また前記ベンゼン類、
ルイス酸触媒及び四塩化炭素の添加順序については特に
制限はないが、通常四塩化炭素とルイス酸触媒との混合
物中に、ベンゼン類又はベンゼン類と四塩化水素との混
合物を徐々に添加する方法が用いられる。このような方
法によると、反応温度のコントロールが容易である上、
トリフェニルクロロメタン類などの副生成物の生成を抑
制し、ジフェニルジクロロメタン類の収率を向上させる
ことができる。
などを適宜行うことが望ましく、また前記ベンゼン類、
ルイス酸触媒及び四塩化炭素の添加順序については特に
制限はないが、通常四塩化炭素とルイス酸触媒との混合
物中に、ベンゼン類又はベンゼン類と四塩化水素との混
合物を徐々に添加する方法が用いられる。このような方
法によると、反応温度のコントロールが容易である上、
トリフェニルクロロメタン類などの副生成物の生成を抑
制し、ジフェニルジクロロメタン類の収率を向上させる
ことができる。
反応時間は、使用するベンゼン類及びルイス酸触媒の種
類や、温度によって左右され、−概に定めることができ
ないが、例えば反応を回分式若しくは半回分式で行う場
合には、通常30分ないし48時間、好ましくは1〜1
2時間程度であり、また、連続式で行う場合は、これら
に対応する滞留時間で反応を行えばよい。
類や、温度によって左右され、−概に定めることができ
ないが、例えば反応を回分式若しくは半回分式で行う場
合には、通常30分ないし48時間、好ましくは1〜1
2時間程度であり、また、連続式で行う場合は、これら
に対応する滞留時間で反応を行えばよい。
本発明方法においては、前記反応において、所望の転化
率が得られたならば、反応系に前記フェノール類を添加
して、前記反応で生成したジフェニルジクロロメタン類
と反応させる。この際反応温度は、通常0〜250°C
1好ましくは30〜150°C1さらに好ましくは、8
0〜150°Cの範囲で選ばれる。この反応温度が低す
ぎると、反応速度が遅くて実用的でないし、高すぎると
7エノール類が系外へ留出したり、副反応が多く生じた
りして好ましくない。
率が得られたならば、反応系に前記フェノール類を添加
して、前記反応で生成したジフェニルジクロロメタン類
と反応させる。この際反応温度は、通常0〜250°C
1好ましくは30〜150°C1さらに好ましくは、8
0〜150°Cの範囲で選ばれる。この反応温度が低す
ぎると、反応速度が遅くて実用的でないし、高すぎると
7エノール類が系外へ留出したり、副反応が多く生じた
りして好ましくない。
本発明方法においては、このようにして得られた反応混
合物に、水及びハロゲン化物を加えて、処理を行う。水
及び含ハロゲン化物の添加順序については同時に添加し
てもよく、また別々に添加してもよく、特に制限はない
が、通常はまず水を加えて、ルイス酸触媒を失活させた
のち、含ハロゲン化物を添加する方法がとられる。この
際、添加する水は、純粋な水であってもよいし、塩酸、
硫酸、硝酸などを含有する酸性水溶液、塩化ナトリウム
や塩化カリウムなどを含む中性水溶液、水酸化ナトリウ
ムや水酸化カリウムなどを含むアルカリ性水溶液、ある
いはアルコール類やカルボン酸類などの水溶性有機化合
物を含有する水溶液の形で用いてもよい。水の添加量は
、通常該ルイス酸触媒に対して等モル以上、好ましくは
等モルないし100倍モルの範囲で選ばれ、また、処理
温度は、通常−1θ〜200℃、好ましくは0〜50℃
の範囲で選ばれる。
合物に、水及びハロゲン化物を加えて、処理を行う。水
及び含ハロゲン化物の添加順序については同時に添加し
てもよく、また別々に添加してもよく、特に制限はない
が、通常はまず水を加えて、ルイス酸触媒を失活させた
のち、含ハロゲン化物を添加する方法がとられる。この
際、添加する水は、純粋な水であってもよいし、塩酸、
硫酸、硝酸などを含有する酸性水溶液、塩化ナトリウム
や塩化カリウムなどを含む中性水溶液、水酸化ナトリウ
ムや水酸化カリウムなどを含むアルカリ性水溶液、ある
いはアルコール類やカルボン酸類などの水溶性有機化合
物を含有する水溶液の形で用いてもよい。水の添加量は
、通常該ルイス酸触媒に対して等モル以上、好ましくは
等モルないし100倍モルの範囲で選ばれ、また、処理
温度は、通常−1θ〜200℃、好ましくは0〜50℃
の範囲で選ばれる。
この処理工程で失活したルイス酸触媒は、水で洗浄後、
系外へ除去してもよいし、また、系内の水を加熱や減圧
処理により留去してもよい。
系外へ除去してもよいし、また、系内の水を加熱や減圧
処理により留去してもよい。
次に、このようにして処理された反応混合物に、前記含
ハロゲン化物を添加し、処理を行う。この際、含ハロゲ
ン化物の使用量は、通常ルイス酸触媒/含ハロゲン化物
モル比が0.01〜1000、好ましくは0.1−10
0、さらに好ましくは0.5〜10の範囲になるように
選ばれる。
ハロゲン化物を添加し、処理を行う。この際、含ハロゲ
ン化物の使用量は、通常ルイス酸触媒/含ハロゲン化物
モル比が0.01〜1000、好ましくは0.1−10
0、さらに好ましくは0.5〜10の範囲になるように
選ばれる。
また、処理温度は、通常0〜250°C1好ましくは3
0〜150℃、さらに好ましくは80〜150℃の範囲
で選ばれる。さらに処理時間は、通常30分ないし48
時間、好ましくは1〜20時間である。このno熱処理
は、含ハロゲン化物を一度に添加したのち行ってもよい
し、連続的に添加又は導入しながら行ってもよい。
0〜150℃、さらに好ましくは80〜150℃の範囲
で選ばれる。さらに処理時間は、通常30分ないし48
時間、好ましくは1〜20時間である。このno熱処理
は、含ハロゲン化物を一度に添加したのち行ってもよい
し、連続的に添加又は導入しながら行ってもよい。
前記各工程における反応系の圧力については、特に制限
はなく、減圧、常圧、反応系の自圧、あるいは、不活性
ガスなどを用いて、加圧状態で行うこともできるが、ベ
ンゼン類と四塩化炭素との反応においては、塩酸ガスが
発生するので、これを反応系外へ除去しながら行う方法
を採用するのが好ましい。
はなく、減圧、常圧、反応系の自圧、あるいは、不活性
ガスなどを用いて、加圧状態で行うこともできるが、ベ
ンゼン類と四塩化炭素との反応においては、塩酸ガスが
発生するので、これを反応系外へ除去しながら行う方法
を採用するのが好ましい。
また、前記各工程は、通常無溶媒で行われるが、所望に
より不活性な溶媒を用いて行うこともできるニベンゼン
類と四塩化炭素との反応においては、溶媒としては、非
プロトン性溶媒、例えばペンタン、ヘキサンなどの脂肪
族飽和炭化水素などを使用することができる。また中間
体のジフェニルジクロロメタン類とフェノール類との反
応には、溶媒として非プロトン性溶媒、例えばペンタン
、ヘキサンなどの脂肪族飽和炭化水素、ベンゼン、トル
エンなどの芳香族炭化水素、エーテルなどを使用するこ
とができる。
より不活性な溶媒を用いて行うこともできるニベンゼン
類と四塩化炭素との反応においては、溶媒としては、非
プロトン性溶媒、例えばペンタン、ヘキサンなどの脂肪
族飽和炭化水素などを使用することができる。また中間
体のジフェニルジクロロメタン類とフェノール類との反
応には、溶媒として非プロトン性溶媒、例えばペンタン
、ヘキサンなどの脂肪族飽和炭化水素、ベンゼン、トル
エンなどの芳香族炭化水素、エーテルなどを使用するこ
とができる。
さらに、本発明においては、ベンゼン類と四塩化炭素を
反応させたのち、フェノール類を添加する前に、所望に
より、過剰の四塩化炭素や未反応のベンゼン類を留去さ
せ、目的の4,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタ
ン類の収率をさらに向上させることができる。
反応させたのち、フェノール類を添加する前に、所望に
より、過剰の四塩化炭素や未反応のベンゼン類を留去さ
せ、目的の4,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタ
ン類の収率をさらに向上させることができる。
本発明方法においては、含ハロゲン化物を添加すること
により、粗4.4°−ジヒドロキシテトラフェニルメタ
ン類が通常結晶として析出するので、ろ過などの手段に
より、分離回収する。このようにして得られた粗4,4
°−ジヒドロキシテトラフェニルメタン類は、所望によ
り、公知の方法、例えばエタノール、テトラハイドロフ
ラン、ヘキサンなどの溶媒を用いて再結晶して、高純度
品とすることができる。
により、粗4.4°−ジヒドロキシテトラフェニルメタ
ン類が通常結晶として析出するので、ろ過などの手段に
より、分離回収する。このようにして得られた粗4,4
°−ジヒドロキシテトラフェニルメタン類は、所望によ
り、公知の方法、例えばエタノール、テトラハイドロフ
ラン、ヘキサンなどの溶媒を用いて再結晶して、高純度
品とすることができる。
〔発明の効果]
本発明方法によると、安価で工業的に容易に入手しうる
ベンゼン類と四塩化水素とフェノール類とから、中間体
のジフェニルジクロロメタン類を単離することなく、4
.4’−ジヒドロキシテトラフェニルメタン類を、簡単
なプロセスで収率よく製造することができる。
ベンゼン類と四塩化水素とフェノール類とから、中間体
のジフェニルジクロロメタン類を単離することなく、4
.4’−ジヒドロキシテトラフェニルメタン類を、簡単
なプロセスで収率よく製造することができる。
本発明方法で得られる4、4°−ジヒドロキシテトラフ
ェニルメタン類は、エンジニアリング樹脂や光デイスク
材料などの原料として、あるいは有機合成中間体として
有用である。
ェニルメタン類は、エンジニアリング樹脂や光デイスク
材料などの原料として、あるいは有機合成中間体として
有用である。
【実施例]
次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明はこれらの例によってなんら限定されるものでは
ない。
本発明はこれらの例によってなんら限定されるものでは
ない。
実施例1
スター2、分液ロート、還流用冷却器及び温度計を装備
した2iの三ツロフラスコに、塩化アルミニウム135
9及び四塩化炭素489gを加え、フラスコを氷水浴で
冷却した。次に、ベンゼン1569を分液ロートからフ
ラスコに、内温を5〜lO℃に保持しながら、徐々に滴
下した。滴下終了後、常温で12時間撹拌を継続したの
ち、フラスコから、分液ロート及び還流用冷却器を取り
はずし、密栓後、アスピレータで減圧にし、反応混合物
から未反応のベンゼン及び四塩化炭素を留去した。次い
で、室温で、残留物にフェノール2829を加え、室温
で1時間撹拌したのち、撹拌を続けながら150℃まで
昇温し、その温度で5時間反応後、室温まで降温し、反
応生成物に蒸留水を徐々に加えて、塩化アルミニウムを
失活させた。
した2iの三ツロフラスコに、塩化アルミニウム135
9及び四塩化炭素489gを加え、フラスコを氷水浴で
冷却した。次に、ベンゼン1569を分液ロートからフ
ラスコに、内温を5〜lO℃に保持しながら、徐々に滴
下した。滴下終了後、常温で12時間撹拌を継続したの
ち、フラスコから、分液ロート及び還流用冷却器を取り
はずし、密栓後、アスピレータで減圧にし、反応混合物
から未反応のベンゼン及び四塩化炭素を留去した。次い
で、室温で、残留物にフェノール2829を加え、室温
で1時間撹拌したのち、撹拌を続けながら150℃まで
昇温し、その温度で5時間反応後、室温まで降温し、反
応生成物に蒸留水を徐々に加えて、塩化アルミニウムを
失活させた。
失活塩化アルミニウムを水洗除去したのち、反応液に、
塩化水素ガスを40cc/minの流量で、120℃、
3時間流し、反応を行うと結晶が析出した。この結晶を
取り出し、テトラハイドロフラン、ヘキサン溶媒で再結
晶を行い、精製4.4′−ジヒドロキシテトラフェニル
メタン31.59(塩化アルミニウム基準で89%の収
率)を得た。
塩化水素ガスを40cc/minの流量で、120℃、
3時間流し、反応を行うと結晶が析出した。この結晶を
取り出し、テトラハイドロフラン、ヘキサン溶媒で再結
晶を行い、精製4.4′−ジヒドロキシテトラフェニル
メタン31.59(塩化アルミニウム基準で89%の収
率)を得た。
実施例2
実施例1において、フェノールの使用量を2829から
470gに変えた以外は、実施例1と全く同様にして反
応を行ったところ、4,4°−ジヒドロキシテトラフェ
ニルメタン3069(塩化アルミニウム基準収率87%
)が得られた。
470gに変えた以外は、実施例1と全く同様にして反
応を行ったところ、4,4°−ジヒドロキシテトラフェ
ニルメタン3069(塩化アルミニウム基準収率87%
)が得られた。
実施例3
実施例1において、塩化水素を吹き込む際の温度を12
0℃から70℃に変えた以外は、実施例1と全く同様に
して反応を行ったところ、4.4″−ジヒドロキシテト
ラフェニルメタン2929(塩化アルミニウム基準収率
83%)が得られた。
0℃から70℃に変えた以外は、実施例1と全く同様に
して反応を行ったところ、4.4″−ジヒドロキシテト
ラフェニルメタン2929(塩化アルミニウム基準収率
83%)が得られた。
実施例4
実施例1において、フェノールを加え室温テ1時間撹拌
したのち、さらに反応温度60’Oで3時間反応させた
以外は、実施例1と全く同様にして、反応を行ったとこ
ろ、4.4’−ジヒドロキシテトラフェニルメタン26
29(塩化アルミニウム基準収率84%)が得られた。
したのち、さらに反応温度60’Oで3時間反応させた
以外は、実施例1と全く同様にして、反応を行ったとこ
ろ、4.4’−ジヒドロキシテトラフェニルメタン26
29(塩化アルミニウム基準収率84%)が得られた。
実施例5〜8
実施例1において、含ハロゲン化物として、塩化水素の
代りに、塩化チオニル、サラシ粉、五塩化リン、次亜塩
素酸をそれぞれ用いた以外は、実施例1と全く同様にし
て反応を行った。その結果を第1表に示す。なお、収率
は塩化アルミニウム基準である。
代りに、塩化チオニル、サラシ粉、五塩化リン、次亜塩
素酸をそれぞれ用いた以外は、実施例1と全く同様にし
て反応を行った。その結果を第1表に示す。なお、収率
は塩化アルミニウム基準である。
//′
第 1 表
実施例9
実施例1において、フェノールの代りに0−クレゾール
3249を用いた以外は、実施例1と全く同様にして反
応を行ったところ、ビス(4−ヒドロキシ−3−メチル
フェニル)ジフェニルメタン2669(塩化アルミニウ
ム基準収率70%)が得られた。
3249を用いた以外は、実施例1と全く同様にして反
応を行ったところ、ビス(4−ヒドロキシ−3−メチル
フェニル)ジフェニルメタン2669(塩化アルミニウ
ム基準収率70%)が得られた。
比較例1
実施例1において、含ハロゲン化物を添加しなかったこ
と以外は、実施例1と全く同様にして反応を行ったとこ
ろ、4.4’−ジヒドロキシテトラフェニルメタン26
79(塩化アルミニウム基準収率75%)が得られた。
と以外は、実施例1と全く同様にして反応を行ったとこ
ろ、4.4’−ジヒドロキシテトラフェニルメタン26
79(塩化アルミニウム基準収率75%)が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ルイス酸触媒の存在下、ベンゼン類と四塩化炭素と
を反応させ、次いで得られた反応混合物にフェノール類
を添加して反応させたのち、水及び含ハロゲン化物を添
加することを特徴とする4、4′−ジヒドロキシテトラ
フェニルメタン類の製造方法。 2 含ハロゲン化物がハロゲン含有酸類、オキシハロゲ
ン化物、ハロゲン化リン又は金属ハロゲン化物である請
求項1記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63034111A JPH082820B2 (ja) | 1988-02-18 | 1988-02-18 | 4,4’‐ジヒドロキシテトラフェニルメタン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63034111A JPH082820B2 (ja) | 1988-02-18 | 1988-02-18 | 4,4’‐ジヒドロキシテトラフェニルメタン類の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01211542A true JPH01211542A (ja) | 1989-08-24 |
JPH082820B2 JPH082820B2 (ja) | 1996-01-17 |
Family
ID=12405163
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63034111A Expired - Lifetime JPH082820B2 (ja) | 1988-02-18 | 1988-02-18 | 4,4’‐ジヒドロキシテトラフェニルメタン類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH082820B2 (ja) |
-
1988
- 1988-02-18 JP JP63034111A patent/JPH082820B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH082820B2 (ja) | 1996-01-17 |
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