JPH0351702A - 光ファイバセンサ装置 - Google Patents
光ファイバセンサ装置Info
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- JPH0351702A JPH0351702A JP18805289A JP18805289A JPH0351702A JP H0351702 A JPH0351702 A JP H0351702A JP 18805289 A JP18805289 A JP 18805289A JP 18805289 A JP18805289 A JP 18805289A JP H0351702 A JPH0351702 A JP H0351702A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【産業上の利用分野】
本発明は、光送受信部と光センサヘッド部との間におい
て光を伝送するために光ファイバを用いる形式の光フア
イバセンサ装置に関するものである。 tve米tl術】 従来、光ファイバを利用し、光センサヘッド部を小型化
した各種センサが提案され、あるいは開発されている。 第6図に光熱変位量検出用光フアイバ干渉計の例を示す
、同図の!Il!では、励起用レーザのチaツブされた
パルス光を光7Tイバで1通常防R(除1x)台のとに
乗せられた光センサヘッド部(第6図では外枠が図示さ
れていない、)まで導き試料面に照射し、熱変位を起こ
させる。その熱変位量は検出用レーザの出力光により試
料面と光ファイバの光センサヘッド部側の端面との間で
生じる多重−F渉(フィゾー干渉あるいは)Tブリーペ
ロー干渉とも呼ばれる)効果を利用したアナログニー渉
信号から光干渉強度検出器により高分M能で読み取られ
る0Mみ取った変位信号は、励起用レーザ光のチ麹ツブ
されたパルス尤の一部を参照信号としてロックイン増幅
器で位相弁別検波され、高い信号対2を背比で試料面の
熱変位量が測定される。この装置は、シリコンウェハー
の測定面上をスキャニングすることにより、測定面ある
いは測定面近傍のシリコンウェハー内に混入する不純物
検出、クラック検出等に有効な*aとなりうる。また、
この方式では、検出感度を得るために、試料か、光セン
サヘシド部のどちらかに光軸方向の位置制御を加える必
要があるが、第6図の装置の場合、光センサヘッド部が
小型に構成で終るので、光センサヘッド部に位置制御を
加える場合は、アクチュエータが小型のもので良い。 [発明が解決しようとする課題1 しかしながら、第6図の装置の方式では、第7図に示し
た多重干渉信号のスロープの最大傾斜点(変曲、α)の
レベルをあらかじめ求め、位置制御系に入力しなければ
ならない操作上の手間が必要である。 尚、位置制御系は、多重干渉信号の平均値が、測定面を
スキャニングする同上記の入力したレベルに等しくなる
ように試料か、光センサヘッド部のどちらかに光軸方向
の位置制御を加えるわけである。 本発明は、上述した問題点を解決するためになされたも
のであり、干渉信号のスロープの最大傾斜点のレベルを
あらかじめ求める操作が必要で、かつ制御用の7クチ1
エータがさらに小型で良い、簡便、小型な微小変位測定
用の光フアイバセンサ装置の提供を目的としている。 [課題を解決するための手jffil この目的を達成するために本発明の光ファイバセンサ装
置では、測定対象によって計測光の位相が変化させられ
ることにより、その計測光と周波数が等しい参照光と干
渉させられ、前記位相の変化に対応して光強度が変化す
るとともにその光強度変化の位相が180°ずらされた
2種類のモ渉光を、一対の光検出器によってそれぞれ検
出して互いに180°位相がずらされた2種のアナログ
電気信号に変換した後、両信号の差動から検出信号を得
る。また、その検出信号を分岐し、ローパスフィルタに
通した信号が「0」になるように、参照光の光路長を変
化させる7クチユエータの伸縮を制御する制御系から構
成される。 1作用] 上記の構成を有する本発明の光フアイバセンサ*aでは
、7クチユエータを駆動する制御系は、信号rOJのト
ラッキングになるため、あらかじめ千))信号のスロー
プの最大傾斜点のレベルを求める操作が不要になる。 また、参照光の光路長を変化させるアクチュエータは、
はとんど無負荷状態の使用となるので、市販されている
小型の積層圧電7クチユ工−タ1個で良く、装置全体と
して小型になる。 E叉施例1 以下、本発明を具体化した一実施例を図面を参照して説
明する。 第1図において、半導体レーザなとのレーザ光1ioか
ら発射された単色のレーザ光は、光軸のまわりに45°
回転させて配置された偏光ビームスプリッタ12.77
ラデ一回転子14、偏光ビームスプリッタ16を通過し
た後、励起用(高出力)レーザ71から出射され、チ5
ツバ72で断続光にされたレーザ光とグイクロイックミ
ラー73で光軸が合わされ、そして集光レンズ18によ
り定偏波光7フイパ20の端面に入射させられる。 上記偏光ビームスプリッタ12.77ラデ一回転子14
、および偏光ビームスプリッタ16は、光アイソレータ
としても機能するものであり、反射光をレーザ光源10
へ入射させないようにする。 また、偏光ビームスプリッタ16は反射光を偏波面に従
って分割する機能をも備えており、偏光ビームスプリッ
タ16により反射された光は集光レンズ22により第1
光センサ24に入射させられ、偏光ビームスプリッタ1
Gを通過した反射光は7Tラデ一回転子14により偏波
面が光軸まわりに45°回転させられ、偏光ビームスプ
リγり12によって反射されたのち集光レンズ2Gによ
りPt52センサ28に入射させられる。 以上の光学素子および光センサによって光透受信部20
0が構成され、この送受信部200の図示しない機枠に
定偏波光ファイバ20の一端部が固定されている。 上記定偏波光7Tイバ20は、コア30とこのコア30
を挟む一対の応力付与部32と、それらを覆うクラッド
34とかC)構成されており、たとえば互いに直交する
偏波面にて光を伝送するIIEzxモードおよびHE+
+Fモードの2伝送モードにて偏波面を保存しつつ偏光
を伝送する。萌記のように定偏波光ファイバ20の一端
部に入射される検出用のレーザ光′a10から出射した
光は偏光ビームスプリッタ16を通過した直線偏光であ
るから、定偏波光7Tイバ20内においては2伝送モー
ドのうちの一方のモードにて伝送される。一方、レーザ
光源10の波長を1.5μ糟、定偏波光7Tイバ20を
1.5μ鶴川のものに選択すると、波長1.5μ論以下
の励起用レーザ光源であれば、定偏波光7アイパ20を
伝播する。ただし、そのレーザ光に対しては、定偏波光
ファイバ20は低次のマルチモード7アイパとなるが、
このl&置の使用目的には影響しない、また、定偏波光
ファイバ20のカットオフ波長以上の艮波長し−ザ尤は
伝播しない。尚、低次のマルチモード7アイパとは、伝
播可能なモード数が、コア径〜50μ鴎の高次のマルチ
モード7Tイバと比べるとずっと少な(%という意味で
あるが、低次のマルチモード7アイパを出射したレーザ
光の集光特性は、高次のマルチモード7アイパよりも良
いので、小面積を効率よく励起できる点で、この装置の
使用目的に適しでいる。 上記定偏波光7Tイバ20の他jII?lISは尤セン
サヘッドffl5202の図示しない機枠に伝送モード
の袖が紙面に対しで45°傾いた状態になるように固定
されており、このため2モードのうちの一方のモードに
て伝送され、且つ定偏波光ファイバ20の他端部から出
射された偏光方向が紙面に対して45°傾いた検出用レ
ーザの直線偏光は集光レンズ36を通って平行光に変換
され、偏光ビームスブリフタにより偏光方向が紙面に垂
直な参照光(直線偏光)LRと、偏光方向が紙面に手打
な計測光(直線偏光)LHに分離される。偏光ビームス
プリッタ75を通過した計測光LMは、対物(集光)レ
ンズ108を通って、試料110の測定面・112上に
集光されろ。 一方、上記偏光ビームスプリッタ75により反射された
参照光LRは、ミラー50により方向変換され、集光レ
ンズ52により端面が研摩後アルミ(又は金)蒸着され
た積層圧電アクチュエータ56の端面上に集光される0
本実施例では、この積層圧電7クチエエータ5Gが光路
長変更手段に相当するが、上記のように、はとんど無負
衡の状態で駆動される。 また、励起用のレーザ光は定偏波7Tイバ20を出射後
、集光レンズ36で平行光にされ、対物(集光)レンズ
108により、測定面112J二の検出用レーザ光が集
光される同じ位置に集光される。 チ11?プされた励起用レーザ光が、測定面112」−
に集光(照射)されると、その点を中心とする近傍表面
はチaツビングに、同期した熱微小変位を生じるが、測
定表面かその近傍内部に励起用レーザ光をよく吸収する
不純物が存在すると、そうでない場所に比べて大トな振
幅の熱微小変位を生じる。 同様にして、クラック、相転移等構造の一様性が乱れで
いる場所では、そうでない場所に比べて異なった振幅の
、あるいはチョップの位相からずれた熱微小変位を生じ
る。第1図の装置は、その熱微小変位の変化をとらえて
、試料110を検査することが主な目的である。 さて、測定面112で反射された計測光LHと、積層圧
電アクチ1エータのアルミ(又は金)M着面で反射され
た参照光LRは、光路を逆進して偏光ビームスプリッタ
75によって光軸が一致させられた後、集光レンX′3
6を通過して定偏光光ファイバ20の2種類の伝送モー
ドIf Eご、およびHE′1にそれぞれ等分配されて
入射し、眞記熱微小変化の光路長変化に伴う位相変化に
よって互いに干渉させられる。このとき、上記計測光L
H1参照光LRは、それらの2つの伝送モードに対して
偏波面が45°傾斜した直線偏光で、且つ互いの偏波面
が直交しているため、計測光が21Ili類の伝送セー
ドHE 、’、、 HE乙に同じ位相で分配される配置
の場合、参照元は伝送モードIIEご、およびHE′、
に分配される際にその位相が互いに180°ずらされる
。このため、伝送モードtl E 、’、で伝送される
干渉光の光強度変化の位相と伝送モードIIE′1で伝
送される干渉光の光強度変化の位相は互いに180°ず
らされる。尚、これらの干渉光の光強度変化は前記熱微
小変化の光路長の変化に伴なう計測光LHの位相変化に
対応する。 それら2種類の干渉光は、光強度変化の位相が互いに1
80°ずらされたまま定偏波光ファイバ20によっで光
送受信部200まで伝送され、集光レンズ18により平
行光とされたのち偏光ビームスプリッタ16によって分
離され、前記第1光センサ24、第2光センサ28に入
射する。第1尤センサ24および第2光センサ28は一
対の光検出器を成すもので、2種類の光強度変化に対応
釘る計測信号MBS 1、MnS2を測定回路60に出
力する。 ここまでの動作を第4図、第5図に従って詳しく説明す
る。第4図は、検出用レーザ光が測定部112および積
層圧電7クチよエータ5Gに照射されるまでの往路を、
第5図は、そこから、光検出器24.28までの復路を
示す、尚、励起用レーザ光に関しては省略しである。第
4図の紙面に対して偏成面が45°傾いた状!!(図で
はこの状態をもであわらしている。)でレーザ光が出射
するように調整された検出mレーザ光源10を出射した
レーザ光は、そのようなレーザ光を通過するように配置
された偏光ビームスプリッタ12を通過し、偏波面を4
5°回松させる77ラデーローテータを通過後、偏波面
が紙面に平行にされ(図ではこの状態を111で表わし
ている。)、紙面に平行な直線偏光を通過するように配
置された偏光ビームスプリッタ16を通過し、集光レン
ズ18により、定偏波光ファイバ20のコア34に集光
される。定偏波光ファイバ20の端面は図4に示されて
いるように、耕めに研摩されており、端面で生じる反射
光がもとの光軸に戻らないようにされている。また、定
偏波光ファイバの向きは、第4図左下図に端面慣弐図が
示されているように、紙面に平行なレーザ光がHE乙モ
ードだけに入射するようにW4整されている。 HE乙モードを伝播し、光センサヘッド部202に到達
したレーザ光は、定偏波光ファイバ20の向きが第4図
右下図のように調整されているので、紙面に対して偏波
面が45゛傾いた状態で出射する。そのレーザ光は集光
レンズ3Gで平行にされ、偏光ビームスブリフタにより
、紙面に平行な偏光の計測光と、紙面に!I!直な偏光
(図ではこの状態を剰中で表わしている。)の参照元に
分岐される1分岐される手iivまでのレーザ光は、下
式により表わされる。 HE乙モードからの出力光Ey。 Eyo= Eexpl −i(wt+Φyo)l
(1)l E + ’:光源出力 ω”、2xr<rはレーザ光の周波数)Φyo;HE乙
モード伝播尤の、分岐される手前までの位相量。 光7アイパの状態によって時間変化するので定数でなく
、Φyo(L)。 HEご、モードからの出力光E X6 = 0尚、L式
あるいは以下の式で損失(吸収損失、光ファイバへの入
射損失、分岐損失等々)は省略する。 このあと、計測光は測定部112へ集光され、反射され
て光路を逆進し、定偏波光ファイバ2゜のコア34に集
光される。また、参照元も積層圧電アクチ↓エータで反
射され、光路を逆進してコア34に集光される。このと
き定偏波光ファイバの向きに対して、計測光、参照元の
偏光の方位は、第5図下布図に示すようになっているの
で、HEご、モードへの入射光E× Ex+=−Eexpl i(wL+Φy0+ΦI)o
+2k・ΔLIEexp(−i(wt+Φy0+Φ、、
+2に−ΔL)1・・・・・・(2) Φp0;計測尤計測の初期位相。具体的にはく75ΔL
;熱微小変位量、2倍されでいるのは、反射で2倍にな
るから。 Δl;l;積電圧電アクチュエータ位置量して頂きたい
。 HE +’+モードへの入射光EF Eyi= Eexpl −i(wL+Φy、+Φp、+
2に一ΔL)1+ Eexp(−i(wt+Φy0+Φ
汽、+ 2 k−Δi > + −・−・・(3) と表わされる。尚、光センサヘッド部側の定偏波光7フ
イパ端而も斜めに研磨されており、端面反射光が丸軸に
戻らないようになっている。 この後、HEご、モードを伝播して光送受信部200に
戻ったレーザ光は光検出!24に入射し、HE乙モード
を伝播したレーザ光は光検出器26へ入射する。それを
式で表わすと、 光検出□□□24への入射光EX2 EX2= −Eexpl−i(wt+Φyo+Φp、+
2 k −ΔL十Φx、)l+ Eexpl i(
wL+Φy0+ΦR6+2k・Δl+Φx+1 Φ×、;光センサヘッド側の光ファイバ端面から光検出
器24までの位相量=: (E exp(−H(JuL
JJL+k(ΔL−Δl )+;)l+ Eexpli
(9十k(ΔL−Δl )+t)l ) Xexpt
−i(wt+Φy、+Φ×、+ ? 十k(ΔL+
Δl)+f+・・・・・・(4) 光検出器28への入射光Ey2 EV2= Eexp(−i(wL+Φy0+ΦpO+2
k・Δ1.+Φy+ )l +E exp(−i(wL
+Φy0+Φ、、o+ 2 k−Δl十Φy、)1 Φyl;光センサヘッド側の光ファイバ端面から光検出
n 2 s * v y>位a fl = (E ex
p (−il[b*+k(ΔL−Δ1 )l+ E (
i (l?玩 十k(ΔL−Δ! ))l ) Xex
pl−i(wt+Φyo+@y、−4−IC1−+k(
Δ!、+Δf)l・・・・・・(5)となるが、光検出
器24.28により変換される電気信号MBS1.MB
S2は、上式(4)、(5)の−tを含まない項、いわ
ゆる光の振幅項の絶対値の2剰に比例するから、 MBS 1<E’−E2cosiΦ9+−Φp+。+2
k・(ΔL−Δり)・・・・・・(6) M B S 2 < E ’+ E ’costΦp0
−Φqo+2k・(ΔI、−Δり)・・・・・・(7) と表わされる。尚、厳密に言うと、(4)、<5)式の
atの含まれる項の位相量の差、ΦX、−ΦFl”Tか
ら、電気信号MSBIとMS[321よ、Δ、= 上ニ
L丘:1とLは上 、上 w 2π C C;光速 の遅延差を持つが、この差は、通常の使用には全く問題
のないレベルである。この後、電気信号MBSI、MB
S2は、第3図に示す測定回路60に入力され、その差
動が取られ、aOS(Φpo−ΦR0十2k・(ΔL−
Δり1に比例する信号が生成される。生成された信号の
平均値をとるため低域通過(ローパス)フィルタに通さ
れた後、積層電圧アクチエエータのバイアス電圧に反松
して加えられ(差動がとられ)、直流増幅されで積層電
圧アクチュエータ56に加えられる。このようにして、
MSBlとMSB2の差動信号の平均が常にrOJとな
るように、積層電圧7クチエエータに加えられる電圧が
制御されるわけである。 上記の制御系が正常に働くと、第8図(C)に示すよう
に、MSBlとMSB2の差動信号は、微小麦化ΔLに
比例した信号を生ずる。この場合、線型性よく測定でき
・る範囲は、 2にΔLl<÷÷2 ΔLl < 寺 λ;検出用レーザ光の波及程度であ
る。一方、制御がはずれると第8図(d)のようになり
、その範囲が狭まる。!¥S8図(C)の状態で得られ
る差動信号は、光検出1174の信号を参照信号として
ロックイン増幅器で位相弁別検波され、高いS/N比で
微小熱変位が検出されるわけである。 尚、積層圧WL7クチユエータにあらかじめバイアス重
圧を加えるのは、積層圧電アクチュエータの変位置が印
加電圧の絶対値によるためで、F!換えると士の印加電
圧に対して士に変位しないようにするためである。 以上は、シリコンウェハー上の欠陥を熱微小変位の異常
から検出しようとする利用例であるが、この他に、圧電
セラミックスの微小振動振幅や共振周波数の測定等にも
利用できる。 第2図は、本発明の別の実施例を示す。この場合、光セ
ンサヘッド部の偏光ビームスプリッタ−を無偏光ビーム
スプリッタ−38に交換し、計測光路側と、参照光路側
に各1枚、紙面垂直方向から、一方の光学軸を22.5
°、他方の光学軸を−22,5°傾けたλ/4@が入れ
である。λ/4@は、一方の光学軸を45°、他方の光
学軸を−45°傾けたλ/8板の組置き換えても良い。 その他の尤T系の構成は、第1図の実施例と同じであり
、2個の光検出器から得られる電気信号MSBI、MS
B2も同じである。ただ、この構成では、無偏光ビーム
スプリッタ−38で、計測光と参照光の光軸が再び合わ
される時に、半分が、第2図に示すように、定偏波光フ
アイバ−20に戻らない方向にぬけてしまうので、電気
信号の出力は、第1図の実施例の半分になる。しかし、
ぬけてしまった方のレーザ光は、光センサヘッド部の調
整時、あるいは計測光が測定面に正確に集光されている
かどうかを確認する際など、便利に利用できる。 [発明の効果] 以上詳述したことから明らかなように、本発明によれば
、干渉信号のスロープの最大傾斜点のレベルをあらかじ
め求める操作が不要で、且つ制御用の7クチエエータが
さらに小型で良い、簡便、小型な微小変位測定器が提供
できる。
て光を伝送するために光ファイバを用いる形式の光フア
イバセンサ装置に関するものである。 tve米tl術】 従来、光ファイバを利用し、光センサヘッド部を小型化
した各種センサが提案され、あるいは開発されている。 第6図に光熱変位量検出用光フアイバ干渉計の例を示す
、同図の!Il!では、励起用レーザのチaツブされた
パルス光を光7Tイバで1通常防R(除1x)台のとに
乗せられた光センサヘッド部(第6図では外枠が図示さ
れていない、)まで導き試料面に照射し、熱変位を起こ
させる。その熱変位量は検出用レーザの出力光により試
料面と光ファイバの光センサヘッド部側の端面との間で
生じる多重−F渉(フィゾー干渉あるいは)Tブリーペ
ロー干渉とも呼ばれる)効果を利用したアナログニー渉
信号から光干渉強度検出器により高分M能で読み取られ
る0Mみ取った変位信号は、励起用レーザ光のチ麹ツブ
されたパルス尤の一部を参照信号としてロックイン増幅
器で位相弁別検波され、高い信号対2を背比で試料面の
熱変位量が測定される。この装置は、シリコンウェハー
の測定面上をスキャニングすることにより、測定面ある
いは測定面近傍のシリコンウェハー内に混入する不純物
検出、クラック検出等に有効な*aとなりうる。また、
この方式では、検出感度を得るために、試料か、光セン
サヘシド部のどちらかに光軸方向の位置制御を加える必
要があるが、第6図の装置の場合、光センサヘッド部が
小型に構成で終るので、光センサヘッド部に位置制御を
加える場合は、アクチュエータが小型のもので良い。 [発明が解決しようとする課題1 しかしながら、第6図の装置の方式では、第7図に示し
た多重干渉信号のスロープの最大傾斜点(変曲、α)の
レベルをあらかじめ求め、位置制御系に入力しなければ
ならない操作上の手間が必要である。 尚、位置制御系は、多重干渉信号の平均値が、測定面を
スキャニングする同上記の入力したレベルに等しくなる
ように試料か、光センサヘッド部のどちらかに光軸方向
の位置制御を加えるわけである。 本発明は、上述した問題点を解決するためになされたも
のであり、干渉信号のスロープの最大傾斜点のレベルを
あらかじめ求める操作が必要で、かつ制御用の7クチ1
エータがさらに小型で良い、簡便、小型な微小変位測定
用の光フアイバセンサ装置の提供を目的としている。 [課題を解決するための手jffil この目的を達成するために本発明の光ファイバセンサ装
置では、測定対象によって計測光の位相が変化させられ
ることにより、その計測光と周波数が等しい参照光と干
渉させられ、前記位相の変化に対応して光強度が変化す
るとともにその光強度変化の位相が180°ずらされた
2種類のモ渉光を、一対の光検出器によってそれぞれ検
出して互いに180°位相がずらされた2種のアナログ
電気信号に変換した後、両信号の差動から検出信号を得
る。また、その検出信号を分岐し、ローパスフィルタに
通した信号が「0」になるように、参照光の光路長を変
化させる7クチユエータの伸縮を制御する制御系から構
成される。 1作用] 上記の構成を有する本発明の光フアイバセンサ*aでは
、7クチユエータを駆動する制御系は、信号rOJのト
ラッキングになるため、あらかじめ千))信号のスロー
プの最大傾斜点のレベルを求める操作が不要になる。 また、参照光の光路長を変化させるアクチュエータは、
はとんど無負荷状態の使用となるので、市販されている
小型の積層圧電7クチユ工−タ1個で良く、装置全体と
して小型になる。 E叉施例1 以下、本発明を具体化した一実施例を図面を参照して説
明する。 第1図において、半導体レーザなとのレーザ光1ioか
ら発射された単色のレーザ光は、光軸のまわりに45°
回転させて配置された偏光ビームスプリッタ12.77
ラデ一回転子14、偏光ビームスプリッタ16を通過し
た後、励起用(高出力)レーザ71から出射され、チ5
ツバ72で断続光にされたレーザ光とグイクロイックミ
ラー73で光軸が合わされ、そして集光レンズ18によ
り定偏波光7フイパ20の端面に入射させられる。 上記偏光ビームスプリッタ12.77ラデ一回転子14
、および偏光ビームスプリッタ16は、光アイソレータ
としても機能するものであり、反射光をレーザ光源10
へ入射させないようにする。 また、偏光ビームスプリッタ16は反射光を偏波面に従
って分割する機能をも備えており、偏光ビームスプリッ
タ16により反射された光は集光レンズ22により第1
光センサ24に入射させられ、偏光ビームスプリッタ1
Gを通過した反射光は7Tラデ一回転子14により偏波
面が光軸まわりに45°回転させられ、偏光ビームスプ
リγり12によって反射されたのち集光レンズ2Gによ
りPt52センサ28に入射させられる。 以上の光学素子および光センサによって光透受信部20
0が構成され、この送受信部200の図示しない機枠に
定偏波光ファイバ20の一端部が固定されている。 上記定偏波光7Tイバ20は、コア30とこのコア30
を挟む一対の応力付与部32と、それらを覆うクラッド
34とかC)構成されており、たとえば互いに直交する
偏波面にて光を伝送するIIEzxモードおよびHE+
+Fモードの2伝送モードにて偏波面を保存しつつ偏光
を伝送する。萌記のように定偏波光ファイバ20の一端
部に入射される検出用のレーザ光′a10から出射した
光は偏光ビームスプリッタ16を通過した直線偏光であ
るから、定偏波光7Tイバ20内においては2伝送モー
ドのうちの一方のモードにて伝送される。一方、レーザ
光源10の波長を1.5μ糟、定偏波光7Tイバ20を
1.5μ鶴川のものに選択すると、波長1.5μ論以下
の励起用レーザ光源であれば、定偏波光7アイパ20を
伝播する。ただし、そのレーザ光に対しては、定偏波光
ファイバ20は低次のマルチモード7アイパとなるが、
このl&置の使用目的には影響しない、また、定偏波光
ファイバ20のカットオフ波長以上の艮波長し−ザ尤は
伝播しない。尚、低次のマルチモード7アイパとは、伝
播可能なモード数が、コア径〜50μ鴎の高次のマルチ
モード7Tイバと比べるとずっと少な(%という意味で
あるが、低次のマルチモード7アイパを出射したレーザ
光の集光特性は、高次のマルチモード7アイパよりも良
いので、小面積を効率よく励起できる点で、この装置の
使用目的に適しでいる。 上記定偏波光7Tイバ20の他jII?lISは尤セン
サヘッドffl5202の図示しない機枠に伝送モード
の袖が紙面に対しで45°傾いた状態になるように固定
されており、このため2モードのうちの一方のモードに
て伝送され、且つ定偏波光ファイバ20の他端部から出
射された偏光方向が紙面に対して45°傾いた検出用レ
ーザの直線偏光は集光レンズ36を通って平行光に変換
され、偏光ビームスブリフタにより偏光方向が紙面に垂
直な参照光(直線偏光)LRと、偏光方向が紙面に手打
な計測光(直線偏光)LHに分離される。偏光ビームス
プリッタ75を通過した計測光LMは、対物(集光)レ
ンズ108を通って、試料110の測定面・112上に
集光されろ。 一方、上記偏光ビームスプリッタ75により反射された
参照光LRは、ミラー50により方向変換され、集光レ
ンズ52により端面が研摩後アルミ(又は金)蒸着され
た積層圧電アクチュエータ56の端面上に集光される0
本実施例では、この積層圧電7クチエエータ5Gが光路
長変更手段に相当するが、上記のように、はとんど無負
衡の状態で駆動される。 また、励起用のレーザ光は定偏波7Tイバ20を出射後
、集光レンズ36で平行光にされ、対物(集光)レンズ
108により、測定面112J二の検出用レーザ光が集
光される同じ位置に集光される。 チ11?プされた励起用レーザ光が、測定面112」−
に集光(照射)されると、その点を中心とする近傍表面
はチaツビングに、同期した熱微小変位を生じるが、測
定表面かその近傍内部に励起用レーザ光をよく吸収する
不純物が存在すると、そうでない場所に比べて大トな振
幅の熱微小変位を生じる。 同様にして、クラック、相転移等構造の一様性が乱れで
いる場所では、そうでない場所に比べて異なった振幅の
、あるいはチョップの位相からずれた熱微小変位を生じ
る。第1図の装置は、その熱微小変位の変化をとらえて
、試料110を検査することが主な目的である。 さて、測定面112で反射された計測光LHと、積層圧
電アクチ1エータのアルミ(又は金)M着面で反射され
た参照光LRは、光路を逆進して偏光ビームスプリッタ
75によって光軸が一致させられた後、集光レンX′3
6を通過して定偏光光ファイバ20の2種類の伝送モー
ドIf Eご、およびHE′1にそれぞれ等分配されて
入射し、眞記熱微小変化の光路長変化に伴う位相変化に
よって互いに干渉させられる。このとき、上記計測光L
H1参照光LRは、それらの2つの伝送モードに対して
偏波面が45°傾斜した直線偏光で、且つ互いの偏波面
が直交しているため、計測光が21Ili類の伝送セー
ドHE 、’、、 HE乙に同じ位相で分配される配置
の場合、参照元は伝送モードIIEご、およびHE′、
に分配される際にその位相が互いに180°ずらされる
。このため、伝送モードtl E 、’、で伝送される
干渉光の光強度変化の位相と伝送モードIIE′1で伝
送される干渉光の光強度変化の位相は互いに180°ず
らされる。尚、これらの干渉光の光強度変化は前記熱微
小変化の光路長の変化に伴なう計測光LHの位相変化に
対応する。 それら2種類の干渉光は、光強度変化の位相が互いに1
80°ずらされたまま定偏波光ファイバ20によっで光
送受信部200まで伝送され、集光レンズ18により平
行光とされたのち偏光ビームスプリッタ16によって分
離され、前記第1光センサ24、第2光センサ28に入
射する。第1尤センサ24および第2光センサ28は一
対の光検出器を成すもので、2種類の光強度変化に対応
釘る計測信号MBS 1、MnS2を測定回路60に出
力する。 ここまでの動作を第4図、第5図に従って詳しく説明す
る。第4図は、検出用レーザ光が測定部112および積
層圧電7クチよエータ5Gに照射されるまでの往路を、
第5図は、そこから、光検出器24.28までの復路を
示す、尚、励起用レーザ光に関しては省略しである。第
4図の紙面に対して偏成面が45°傾いた状!!(図で
はこの状態をもであわらしている。)でレーザ光が出射
するように調整された検出mレーザ光源10を出射した
レーザ光は、そのようなレーザ光を通過するように配置
された偏光ビームスプリッタ12を通過し、偏波面を4
5°回松させる77ラデーローテータを通過後、偏波面
が紙面に平行にされ(図ではこの状態を111で表わし
ている。)、紙面に平行な直線偏光を通過するように配
置された偏光ビームスプリッタ16を通過し、集光レン
ズ18により、定偏波光ファイバ20のコア34に集光
される。定偏波光ファイバ20の端面は図4に示されて
いるように、耕めに研摩されており、端面で生じる反射
光がもとの光軸に戻らないようにされている。また、定
偏波光ファイバの向きは、第4図左下図に端面慣弐図が
示されているように、紙面に平行なレーザ光がHE乙モ
ードだけに入射するようにW4整されている。 HE乙モードを伝播し、光センサヘッド部202に到達
したレーザ光は、定偏波光ファイバ20の向きが第4図
右下図のように調整されているので、紙面に対して偏波
面が45゛傾いた状態で出射する。そのレーザ光は集光
レンズ3Gで平行にされ、偏光ビームスブリフタにより
、紙面に平行な偏光の計測光と、紙面に!I!直な偏光
(図ではこの状態を剰中で表わしている。)の参照元に
分岐される1分岐される手iivまでのレーザ光は、下
式により表わされる。 HE乙モードからの出力光Ey。 Eyo= Eexpl −i(wt+Φyo)l
(1)l E + ’:光源出力 ω”、2xr<rはレーザ光の周波数)Φyo;HE乙
モード伝播尤の、分岐される手前までの位相量。 光7アイパの状態によって時間変化するので定数でなく
、Φyo(L)。 HEご、モードからの出力光E X6 = 0尚、L式
あるいは以下の式で損失(吸収損失、光ファイバへの入
射損失、分岐損失等々)は省略する。 このあと、計測光は測定部112へ集光され、反射され
て光路を逆進し、定偏波光ファイバ2゜のコア34に集
光される。また、参照元も積層圧電アクチ↓エータで反
射され、光路を逆進してコア34に集光される。このと
き定偏波光ファイバの向きに対して、計測光、参照元の
偏光の方位は、第5図下布図に示すようになっているの
で、HEご、モードへの入射光E× Ex+=−Eexpl i(wL+Φy0+ΦI)o
+2k・ΔLIEexp(−i(wt+Φy0+Φ、、
+2に−ΔL)1・・・・・・(2) Φp0;計測尤計測の初期位相。具体的にはく75ΔL
;熱微小変位量、2倍されでいるのは、反射で2倍にな
るから。 Δl;l;積電圧電アクチュエータ位置量して頂きたい
。 HE +’+モードへの入射光EF Eyi= Eexpl −i(wL+Φy、+Φp、+
2に一ΔL)1+ Eexp(−i(wt+Φy0+Φ
汽、+ 2 k−Δi > + −・−・・(3) と表わされる。尚、光センサヘッド部側の定偏波光7フ
イパ端而も斜めに研磨されており、端面反射光が丸軸に
戻らないようになっている。 この後、HEご、モードを伝播して光送受信部200に
戻ったレーザ光は光検出!24に入射し、HE乙モード
を伝播したレーザ光は光検出器26へ入射する。それを
式で表わすと、 光検出□□□24への入射光EX2 EX2= −Eexpl−i(wt+Φyo+Φp、+
2 k −ΔL十Φx、)l+ Eexpl i(
wL+Φy0+ΦR6+2k・Δl+Φx+1 Φ×、;光センサヘッド側の光ファイバ端面から光検出
器24までの位相量=: (E exp(−H(JuL
JJL+k(ΔL−Δl )+;)l+ Eexpli
(9十k(ΔL−Δl )+t)l ) Xexpt
−i(wt+Φy、+Φ×、+ ? 十k(ΔL+
Δl)+f+・・・・・・(4) 光検出器28への入射光Ey2 EV2= Eexp(−i(wL+Φy0+ΦpO+2
k・Δ1.+Φy+ )l +E exp(−i(wL
+Φy0+Φ、、o+ 2 k−Δl十Φy、)1 Φyl;光センサヘッド側の光ファイバ端面から光検出
n 2 s * v y>位a fl = (E ex
p (−il[b*+k(ΔL−Δ1 )l+ E (
i (l?玩 十k(ΔL−Δ! ))l ) Xex
pl−i(wt+Φyo+@y、−4−IC1−+k(
Δ!、+Δf)l・・・・・・(5)となるが、光検出
器24.28により変換される電気信号MBS1.MB
S2は、上式(4)、(5)の−tを含まない項、いわ
ゆる光の振幅項の絶対値の2剰に比例するから、 MBS 1<E’−E2cosiΦ9+−Φp+。+2
k・(ΔL−Δり)・・・・・・(6) M B S 2 < E ’+ E ’costΦp0
−Φqo+2k・(ΔI、−Δり)・・・・・・(7) と表わされる。尚、厳密に言うと、(4)、<5)式の
atの含まれる項の位相量の差、ΦX、−ΦFl”Tか
ら、電気信号MSBIとMS[321よ、Δ、= 上ニ
L丘:1とLは上 、上 w 2π C C;光速 の遅延差を持つが、この差は、通常の使用には全く問題
のないレベルである。この後、電気信号MBSI、MB
S2は、第3図に示す測定回路60に入力され、その差
動が取られ、aOS(Φpo−ΦR0十2k・(ΔL−
Δり1に比例する信号が生成される。生成された信号の
平均値をとるため低域通過(ローパス)フィルタに通さ
れた後、積層電圧アクチエエータのバイアス電圧に反松
して加えられ(差動がとられ)、直流増幅されで積層電
圧アクチュエータ56に加えられる。このようにして、
MSBlとMSB2の差動信号の平均が常にrOJとな
るように、積層電圧7クチエエータに加えられる電圧が
制御されるわけである。 上記の制御系が正常に働くと、第8図(C)に示すよう
に、MSBlとMSB2の差動信号は、微小麦化ΔLに
比例した信号を生ずる。この場合、線型性よく測定でき
・る範囲は、 2にΔLl<÷÷2 ΔLl < 寺 λ;検出用レーザ光の波及程度であ
る。一方、制御がはずれると第8図(d)のようになり
、その範囲が狭まる。!¥S8図(C)の状態で得られ
る差動信号は、光検出1174の信号を参照信号として
ロックイン増幅器で位相弁別検波され、高いS/N比で
微小熱変位が検出されるわけである。 尚、積層圧WL7クチユエータにあらかじめバイアス重
圧を加えるのは、積層圧電アクチュエータの変位置が印
加電圧の絶対値によるためで、F!換えると士の印加電
圧に対して士に変位しないようにするためである。 以上は、シリコンウェハー上の欠陥を熱微小変位の異常
から検出しようとする利用例であるが、この他に、圧電
セラミックスの微小振動振幅や共振周波数の測定等にも
利用できる。 第2図は、本発明の別の実施例を示す。この場合、光セ
ンサヘッド部の偏光ビームスプリッタ−を無偏光ビーム
スプリッタ−38に交換し、計測光路側と、参照光路側
に各1枚、紙面垂直方向から、一方の光学軸を22.5
°、他方の光学軸を−22,5°傾けたλ/4@が入れ
である。λ/4@は、一方の光学軸を45°、他方の光
学軸を−45°傾けたλ/8板の組置き換えても良い。 その他の尤T系の構成は、第1図の実施例と同じであり
、2個の光検出器から得られる電気信号MSBI、MS
B2も同じである。ただ、この構成では、無偏光ビーム
スプリッタ−38で、計測光と参照光の光軸が再び合わ
される時に、半分が、第2図に示すように、定偏波光フ
アイバ−20に戻らない方向にぬけてしまうので、電気
信号の出力は、第1図の実施例の半分になる。しかし、
ぬけてしまった方のレーザ光は、光センサヘッド部の調
整時、あるいは計測光が測定面に正確に集光されている
かどうかを確認する際など、便利に利用できる。 [発明の効果] 以上詳述したことから明らかなように、本発明によれば
、干渉信号のスロープの最大傾斜点のレベルをあらかじ
め求める操作が不要で、且つ制御用の7クチエエータが
さらに小型で良い、簡便、小型な微小変位測定器が提供
できる。
第1図は本発明の第1の実施例を説明する図であり、第
2図は別の実施例を説明する図であり、第3図は第1図
、第2図の測定回路内を説明した図であり、第4図は第
1図の実施例の動作を説明する図であり、第5図は第1
図の実施例の復路の動作を説明する図であり、第6図は
従来の光熱変位検出用光ファイバー:F渉計を説明する
図であり、第7図は第6図のvc置の光検出器から得ら
れる干渉信号の例を示す図であり、第8図はPIS1図
、第2図の実施例の測定回路内の信号を説明する図であ
る。 38.40.48・・・偏波面変更手段、56・・・光
路長変更手段、74・・・偏波面変更手段。
2図は別の実施例を説明する図であり、第3図は第1図
、第2図の測定回路内を説明した図であり、第4図は第
1図の実施例の動作を説明する図であり、第5図は第1
図の実施例の復路の動作を説明する図であり、第6図は
従来の光熱変位検出用光ファイバー:F渉計を説明する
図であり、第7図は第6図のvc置の光検出器から得ら
れる干渉信号の例を示す図であり、第8図はPIS1図
、第2図の実施例の測定回路内の信号を説明する図であ
る。 38.40.48・・・偏波面変更手段、56・・・光
路長変更手段、74・・・偏波面変更手段。
Claims (1)
- 1、偏波面が互いに直交する2伝送モードにて光を伝送
する単一の伝送用定偏波光ファイバと、参照光および計
測光を発生させるための光を前記定偏波光ファイバへ出
力し、該光を該定偏波光ファイバ内において前記2伝送
モードのうちの一方のモードにて伝送させるとともに、
該定偏波光ファイバを通して該2伝送モードにて戻され
た参照光および計測光を受けて、それら参照光および計
測光に基づいて該計測光の伝送パラメータの変化を検出
する光送受信部と、前記定偏波光ファイバにより伝送さ
れた光を一対の参照光および計測光に分離した後合波し
て該定偏波光ファイバへ戻すとともに、外部条件に関連
して少なくとも該計測光の伝送パラメータを変化させる
光センサヘッド部とから構成される光ファイバセンサ装
置において、該光センサヘッド部に設けられ、前記参照
光および計測光を互いに位相が180゜ずれ、且つ偏波
面が直交する直線偏光とすることにより、該参照光およ
び計測光が前記定偏波光ファイバにおいて前記2伝送モ
ードにて伝送されるようにする位相偏波面変更手段と、
前記参照光の光路長を変化させる光路長変更手段とを含
むことを特徴とする微小変位測定用の光ファイバセンサ
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18805289A JPH0351702A (ja) | 1989-07-19 | 1989-07-19 | 光ファイバセンサ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18805289A JPH0351702A (ja) | 1989-07-19 | 1989-07-19 | 光ファイバセンサ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0351702A true JPH0351702A (ja) | 1991-03-06 |
Family
ID=16216847
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18805289A Pending JPH0351702A (ja) | 1989-07-19 | 1989-07-19 | 光ファイバセンサ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0351702A (ja) |
-
1989
- 1989-07-19 JP JP18805289A patent/JPH0351702A/ja active Pending
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