JPH0348900B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0348900B2 JPH0348900B2 JP4607184A JP4607184A JPH0348900B2 JP H0348900 B2 JPH0348900 B2 JP H0348900B2 JP 4607184 A JP4607184 A JP 4607184A JP 4607184 A JP4607184 A JP 4607184A JP H0348900 B2 JPH0348900 B2 JP H0348900B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- benzene ring
- doublet
- perfluoroalkenyloxybenzamide
- item
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical group CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical group CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 claims description 3
- 150000008331 benzenesulfonamides Chemical class 0.000 claims description 3
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 2
- PBVZTJDHQVIHFR-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,3,3,3-hexafluoroprop-1-ene Chemical compound FC(F)=C(F)C(F)(F)F.FC(F)=C(F)C(F)(F)F PBVZTJDHQVIHFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- VJRSWIKVCUMTFK-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,3,3,3-hexafluoroprop-1-ene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F.FC(F)=C(F)C(F)(F)F.FC(F)=C(F)C(F)(F)F VJRSWIKVCUMTFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 20
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N p-toluidine Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1 RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 5
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 5
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 5
- 238000002076 thermal analysis method Methods 0.000 description 5
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 5
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- 150000001555 benzenes Chemical group 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 3
- KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N Benzenesulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 2
- 238000010137 moulding (plastic) Methods 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MLPVBIWIRCKMJV-UHFFFAOYSA-N 2-ethylaniline Chemical compound CCC1=CC=CC=C1N MLPVBIWIRCKMJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMKPQMFZCBTTAT-UHFFFAOYSA-N 3-ethylaniline Chemical compound CCC1=CC=CC(N)=C1 AMKPQMFZCBTTAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N 3-methylaniline Chemical compound CC1=CC=CC(N)=C1 JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRXZRAXKKNUKRF-UHFFFAOYSA-N 4-ethylaniline Chemical compound CCC1=CC=C(N)C=C1 HRXZRAXKKNUKRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001448 anilines Chemical class 0.000 description 1
- 230000003796 beauty Effects 0.000 description 1
- 150000003857 carboxamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 238000007033 dehydrochlorination reaction Methods 0.000 description 1
- -1 fluoric acid halides Chemical class 0.000 description 1
- 229960002050 hydrofluoric acid Drugs 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- RNVCVTLRINQCPJ-UHFFFAOYSA-N o-toluidine Chemical compound CC1=CC=CC=C1N RNVCVTLRINQCPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- BHAAPTBBJKJZER-UHFFFAOYSA-N p-anisidine Chemical compound COC1=CC=C(N)C=C1 BHAAPTBBJKJZER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000088 plastic resin Substances 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
本発明はパーフルオロアルケニルオキシベンズ
アミド並びにベンゼンスルホンアミド誘導体およ
びその製法に関する。 パーフルオロアルキル基またはパーフルオロア
ルケニル基は疎水性であると同時に疎油性でもあ
るので、両基を有する界面活性剤は、水のみなら
ず有機溶媒中でも表面活性を示すことはよく知ら
れている。また、上記弗素含有化合物は固体液体
であるプラスチツクに添加して、その表面エネル
ギーを下げることができ、プラスチツク表面に弗
素樹脂と同じ様な特性を与えることも知られてい
る。 従つて、多くの含弗素化合物が開発され、種々
の目的に応用されている。 しかしながら、一般に含弗素化合物は樹脂類、
油類、溶媒類に対する溶解性や混和性が悪く、特
にプラスチツクの表面改質に用いられる場合に均
一な混和性が得られず、成形品の美感、性能が悪
くなる。 かかる樹脂に対する溶解性および混和性を高め
るために、化合物内に親油性基を導入することが
考えられるが、化合物全体の熱分解温度が低下
し、プラスチツク成形時に分解・発煙し、その作
業性および成品の美感、性能を著しく損なうこと
が多い。 本発明者等はプラスチツク樹脂との混和、溶融
性が高く、通常のプラスチツクの成形温度である
250℃より高い熱分解点を有し、更にそのプラス
チツク表面の表面エネルギーを下げて、潤滑性、
耐熱性を向上させる含弗素化合物を得るべく研究
を重ねた結果、パーフルオロアルケニルオキシベ
ンズアミドおよびベンゼンスルホンアミドが優れ
た効果を有する事を見出した。 即ち、本発明は 一般式
アミド並びにベンゼンスルホンアミド誘導体およ
びその製法に関する。 パーフルオロアルキル基またはパーフルオロア
ルケニル基は疎水性であると同時に疎油性でもあ
るので、両基を有する界面活性剤は、水のみなら
ず有機溶媒中でも表面活性を示すことはよく知ら
れている。また、上記弗素含有化合物は固体液体
であるプラスチツクに添加して、その表面エネル
ギーを下げることができ、プラスチツク表面に弗
素樹脂と同じ様な特性を与えることも知られてい
る。 従つて、多くの含弗素化合物が開発され、種々
の目的に応用されている。 しかしながら、一般に含弗素化合物は樹脂類、
油類、溶媒類に対する溶解性や混和性が悪く、特
にプラスチツクの表面改質に用いられる場合に均
一な混和性が得られず、成形品の美感、性能が悪
くなる。 かかる樹脂に対する溶解性および混和性を高め
るために、化合物内に親油性基を導入することが
考えられるが、化合物全体の熱分解温度が低下
し、プラスチツク成形時に分解・発煙し、その作
業性および成品の美感、性能を著しく損なうこと
が多い。 本発明者等はプラスチツク樹脂との混和、溶融
性が高く、通常のプラスチツクの成形温度である
250℃より高い熱分解点を有し、更にそのプラス
チツク表面の表面エネルギーを下げて、潤滑性、
耐熱性を向上させる含弗素化合物を得るべく研究
を重ねた結果、パーフルオロアルケニルオキシベ
ンズアミドおよびベンゼンスルホンアミドが優れ
た効果を有する事を見出した。 即ち、本発明は 一般式
【式】または
〔式中、Rfは炭素数2〜20のパーフルオロアル
ケニル基、Xは水素またはアリール基、Yは水素
またはアルキル基を示す〕で表わされるパーフル
オロアルケニルオキシベンズアミドおよびベンゼ
ンスルホンアミド誘導体を提供する。 また、本発明のアミド誘導体はパーフルオロア
ルケニルオキシベンゾイルハライドまたはパーフ
ルオロアルケニルオキシベンゼンスルホニルハラ
イドとフエニルアミンまたはその誘導体を非水溶
媒中、塩基性触媒の存在下に脱ハロゲン化水素反
応させることにより調製される。反条温度は一般
に10〜50℃である。 反応に用いるパーフルオロアルケニルオキシベ
ンゾイルハライドまたはパーフルオロアルケニル
オキシベンゼンスルホニルハライドは、例えば特
開昭51−11084号公報に記載する方法により容易
に得ることができる。 フエニルアミン誘導体の例としては第1級アミ
ン、例えばo−、m−またはp−メチルアニリ
ン、o−、m−またはp-エチルアニリン等;第
2級アミン、例えばジフエルアミン等が挙げられ
る。これらは上記含フツ素酸ハライドど同当量用
いる。 非水溶媒は反応物を溶解し得るものであつて、
例としてはN,N−ジメチルホルムアミド、ジグ
リム、アセトニトリル、テトラヒドフラン、テト
ラヒドロピラン、ジメチルカルビトール、または
ジエチルエーテル等が挙げられる。 反応に用いる塩基性触媒は反応の脱塩化水素を
促進し、生じた塩化水素を吸収する水溶性のもの
であつて、好ましくは炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、トリエチルアミン、トリメチルアミン等が
例示される。塩基性触媒は上記酸ハライドと同当
量用いるのが好ましい。 本発明化合物の骨格をなすスルホンアミドまた
はカルボキシアミドは、耐熱性に優れ、またその
極性基の構造から、エステル結合、他のアミド結
合と水素結合を作り易く、ポリエステル、ポリウ
レタン、ポリアミド樹脂等の殆んどの樹脂への溶
融、混合性に優れている。 本発明化合物は潤滑油添加剤、離型剤、樹脂内
添加離型剤、樹脂表面改質剤等の多くの用途に使
用し得る。 本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。 実施例 1 撹拌機、温度計、還流冷却器および滴下ロート
を備えた300mlフラスコにパラメチルアニリン0.1
モル、トリエチルアミン0.1モルおよびジエチル
エーテル50mlを仕込んだ。還流下に特開昭51−
11084号公報の実施例4(1)で得たp−パーフルオ
ロノネニルオキシベンゾイルクロリド0.1モルと
ジエチルエーテル50ml混合物を徐々に滴下した。
滴下終了後約3時間撹拌を続け、反応混合物をロ
過し、溶媒を除去した後、残渣を水で洗浄後粗生
成物をアルコールで再結晶し、N−(p−メチル
フエニル)−p−パーフルオロノネニルオキシベ
ンズアミドを得た(収量77%)。 生成物の物性は以下の通りであつた。 外観:白色固体 融点:163〜164℃ 赤外吸収スペクトル イミノ基に基づく吸収 3400cm-1 カルボニル基に基づく吸収 1655cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 1600cm-1 1500cm-1 C−Fに基づく吸収 1100−1400cm-1 1H−NMR分析(δppm内部標準物質TMS、溶
媒CDCI3) 7.87(Doublet、2H、ベンゼン環カルボニル基
オルト位プロトン、J=8.8Hz) 6.88(Doublet、2H、ベンゼン環エーテル基オ
ルト位プロトン、J=8.8Hz) 7.43(Doublet、2H、ベンゼン環イミノ基オル
ト位プロトン、J=8.4Hz) 7.03(Doublet、2H、ベンゼン環メチル基オル
ト位プロトン、J=8.4Hz) 8.3(Droad、1H、>N−H) 2.25(Singlet、3H、−CH3) 19F−NMR分析(δppm内部標準CCI3F、溶媒
CDCI3) +56(1)(Doublet、J=56.4Hz(2)) +72(1)(Triplet、J=37.4Hz(2)) +166(1)(Multiplet) (1) CCI3Fの吸収線より高磁場側を正の符号で示
した。 (2) みかけ上の結合定数。 熱分析 TG.10%重量減少温度288℃ 実施例 2 p−メチルアニリンに代えてジフエニルアミン
(0.1モル)を用いる以外実施例1と同様にして、
N,N−ジフエニル−p−パーフルオロノネニル
オキシベンズアミド(収量74%)を得た。 生成物の物性は以下の通りであつた。 外観:白色結晶 融点:143〜145℃ 赤外吸収スペクトル 芳香族C−Hに基づく吸収 3000〜3100cm-1 カルボニル基に基づく吸収 1663cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 1600cm-1 1500cm-1 C−Fに基づく吸収 1100〜1350cm-1 1H−NMR(δppm内部標準TMS、溶媒CDCI3) 7.43(Doublet、2H、ベンゼ環カルボニル基オ
ルト位プロトン、J=8.8Hz) 6.68(Doublet、2H、ベンゼン環エーテル基オ
ルト位プロトン、J=8.8Hz) 7.2(Multiplet、N−置換ベンゼン環) 19F−NMR分析(δppm内部標準CCI3F、溶媒
CDCI3) +56(1)(Doublet、J=56.4Hz(2)) +72(1)(Triplet、J=37.4Hz(2)) +166(1)(Multiplet) (1)および(2):実施例1と同じ 熱分析 TG10%重量減少温度275℃ 実施例 3 p−メチルアニリンに代えてp−アニシジン
(0.1モル)を用いる以外実施例1と同様にして、
N−(p−メトキシフエニル)−p−パーフルオロ
ノネニルオキシベンズアミド(収量80%)を得
た。生成物の物性は以下の通りであつた。 外観:白色結晶 融点:139〜140℃ 赤外吸収スペクトル N−H基に基づく吸収 3300cm-1 カルボニル基に基づく吸収 1643cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 1603cm-1 1520cm-1 C−Fに基づく吸収 1100〜1350cm-1 1H−NMR(δppm内部標準TMS、溶媒CDCI3) 7.95(Doublet、2H、ベンゼン環カルボニル基
オルト位プロトン、J=9.0Hz) 7.00(Doublet、2H、ベンゼン環カルボニル基
メタ位プロトン、J=9.0Hz) 7.53(Doublet、2H、ベンゼン環イミノ基オル
ト位プロトン、J=8.8Hz) 6.90(Doublet、2H、ベンゼン環イミノ基メタ
位プロトン、J=8.8Hz) 8.1(Broad、1H、>N−H) 3.79(Singlet、3H、−OCH3) 19F−NMR分析(δppm内部標準CCI3F、溶媒ア
セトン−D6) +56(1)(Doublet、J=56.4Hz(2)) +72(1)(Triplet、J=37.4Hz(2)) +166(1)(Multiplet) (1) CCI3Fの吸収線より高磁場側を正の符号で示
した。 (2) みかけ上の結合定数 熱分析 TG10%重量減少温度246℃ 実施例 4 p−パーフルオロノネニルオキシベンゾイルク
ロリドの代わりに、特開昭51−11084号公報の実
施例1(1)で得たp−パーフルオロノネニルオキシ
ベンゼンスルホニルクロリド(0.1モル)を用い
る以外は実施例1と同様にして、N−フエニル−
p−パーフルオロノネニルオキシベンゼンスルホ
ンアミドを得た(収量73%)。生成物の物性は以
下の通りであつた。 外観:白色固体 融点:131.5〜132.5℃ 赤外吸収スペクトル イミノ基に基づく吸収 3260cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 1590cm-1 1495cm-1 C−Fおよびスルホニル基 1100〜1400cm-1 に基づく吸収 1H−NMR分析(δppm内部標準物質TMS、溶
媒CDCI3) 7.85(Doublet、2H、ベンゼン環スルホニル基
オルト位プロトン、J=9.0Hz) 6.91(Doublet、2H、ベンゼン環エーテル基オ
ルト位プロトン、J=9.0Hz) 7.1(Multiplet、5H、N−置換ベンゼン環) 7.2(Droad、1H、イミノプロトン) 19F−NMR分析(δppm内部標準CCI3F、溶媒
CDCI3) +56(1)(Doublet、J=56.4Hz(2)) +72(1)(Triplet、J=37.4Hz(2)) +166(1)(Multiplet) (1)および(2)は実施例1と同じ 熱分析 TG10%重量減少温度274℃ 実施例 5 p−メチルアニリンに代えてジフエニルアミン
(0.1モル)を用いる以外は実施例4と同様にして
N,N−ジフエニル−p−パーフルオロアルケニ
ルオキシベンゼンスルホンアミドを得た(収量60
%)。生成分の物性は以下の通りであつた。 外観:白色結晶 融点:121〜122℃ 赤外吸収スペクトル 芳香族C−Hに基づく吸収 3110cm-1 3075cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 1590cm-1 1495cm-1 C−Fおよびスルホニル基 1100〜1400cm-1 に基づく吸収 1H−NMR分析(δppm内部標準物質TMS、溶
媒(CDCI3) 7.57(Doublet、2H、ベンゼン環スルホニル基
オルト位プロトン、J=8.8Hz) 6.81(Doublet、2H、ベンゼン環エーテル基オ
ルト位プロトン、J=8.8PH) 7.1(Multiplet、10H、N−置換ベンゼン環) 19F−NMR分析(δppm内部標準CCI3F、溶媒
CDCI3) +56(1)(Doublet、J=56.4Hz(2)) +72(1)(Triplet、J=37.4Hz(2)) +166(1)(Multiplet) (1)および(2)は実施例1と同じ。 熱分析 TG10%重量減少温度288℃
ケニル基、Xは水素またはアリール基、Yは水素
またはアルキル基を示す〕で表わされるパーフル
オロアルケニルオキシベンズアミドおよびベンゼ
ンスルホンアミド誘導体を提供する。 また、本発明のアミド誘導体はパーフルオロア
ルケニルオキシベンゾイルハライドまたはパーフ
ルオロアルケニルオキシベンゼンスルホニルハラ
イドとフエニルアミンまたはその誘導体を非水溶
媒中、塩基性触媒の存在下に脱ハロゲン化水素反
応させることにより調製される。反条温度は一般
に10〜50℃である。 反応に用いるパーフルオロアルケニルオキシベ
ンゾイルハライドまたはパーフルオロアルケニル
オキシベンゼンスルホニルハライドは、例えば特
開昭51−11084号公報に記載する方法により容易
に得ることができる。 フエニルアミン誘導体の例としては第1級アミ
ン、例えばo−、m−またはp−メチルアニリ
ン、o−、m−またはp-エチルアニリン等;第
2級アミン、例えばジフエルアミン等が挙げられ
る。これらは上記含フツ素酸ハライドど同当量用
いる。 非水溶媒は反応物を溶解し得るものであつて、
例としてはN,N−ジメチルホルムアミド、ジグ
リム、アセトニトリル、テトラヒドフラン、テト
ラヒドロピラン、ジメチルカルビトール、または
ジエチルエーテル等が挙げられる。 反応に用いる塩基性触媒は反応の脱塩化水素を
促進し、生じた塩化水素を吸収する水溶性のもの
であつて、好ましくは炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、トリエチルアミン、トリメチルアミン等が
例示される。塩基性触媒は上記酸ハライドと同当
量用いるのが好ましい。 本発明化合物の骨格をなすスルホンアミドまた
はカルボキシアミドは、耐熱性に優れ、またその
極性基の構造から、エステル結合、他のアミド結
合と水素結合を作り易く、ポリエステル、ポリウ
レタン、ポリアミド樹脂等の殆んどの樹脂への溶
融、混合性に優れている。 本発明化合物は潤滑油添加剤、離型剤、樹脂内
添加離型剤、樹脂表面改質剤等の多くの用途に使
用し得る。 本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。 実施例 1 撹拌機、温度計、還流冷却器および滴下ロート
を備えた300mlフラスコにパラメチルアニリン0.1
モル、トリエチルアミン0.1モルおよびジエチル
エーテル50mlを仕込んだ。還流下に特開昭51−
11084号公報の実施例4(1)で得たp−パーフルオ
ロノネニルオキシベンゾイルクロリド0.1モルと
ジエチルエーテル50ml混合物を徐々に滴下した。
滴下終了後約3時間撹拌を続け、反応混合物をロ
過し、溶媒を除去した後、残渣を水で洗浄後粗生
成物をアルコールで再結晶し、N−(p−メチル
フエニル)−p−パーフルオロノネニルオキシベ
ンズアミドを得た(収量77%)。 生成物の物性は以下の通りであつた。 外観:白色固体 融点:163〜164℃ 赤外吸収スペクトル イミノ基に基づく吸収 3400cm-1 カルボニル基に基づく吸収 1655cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 1600cm-1 1500cm-1 C−Fに基づく吸収 1100−1400cm-1 1H−NMR分析(δppm内部標準物質TMS、溶
媒CDCI3) 7.87(Doublet、2H、ベンゼン環カルボニル基
オルト位プロトン、J=8.8Hz) 6.88(Doublet、2H、ベンゼン環エーテル基オ
ルト位プロトン、J=8.8Hz) 7.43(Doublet、2H、ベンゼン環イミノ基オル
ト位プロトン、J=8.4Hz) 7.03(Doublet、2H、ベンゼン環メチル基オル
ト位プロトン、J=8.4Hz) 8.3(Droad、1H、>N−H) 2.25(Singlet、3H、−CH3) 19F−NMR分析(δppm内部標準CCI3F、溶媒
CDCI3) +56(1)(Doublet、J=56.4Hz(2)) +72(1)(Triplet、J=37.4Hz(2)) +166(1)(Multiplet) (1) CCI3Fの吸収線より高磁場側を正の符号で示
した。 (2) みかけ上の結合定数。 熱分析 TG.10%重量減少温度288℃ 実施例 2 p−メチルアニリンに代えてジフエニルアミン
(0.1モル)を用いる以外実施例1と同様にして、
N,N−ジフエニル−p−パーフルオロノネニル
オキシベンズアミド(収量74%)を得た。 生成物の物性は以下の通りであつた。 外観:白色結晶 融点:143〜145℃ 赤外吸収スペクトル 芳香族C−Hに基づく吸収 3000〜3100cm-1 カルボニル基に基づく吸収 1663cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 1600cm-1 1500cm-1 C−Fに基づく吸収 1100〜1350cm-1 1H−NMR(δppm内部標準TMS、溶媒CDCI3) 7.43(Doublet、2H、ベンゼ環カルボニル基オ
ルト位プロトン、J=8.8Hz) 6.68(Doublet、2H、ベンゼン環エーテル基オ
ルト位プロトン、J=8.8Hz) 7.2(Multiplet、N−置換ベンゼン環) 19F−NMR分析(δppm内部標準CCI3F、溶媒
CDCI3) +56(1)(Doublet、J=56.4Hz(2)) +72(1)(Triplet、J=37.4Hz(2)) +166(1)(Multiplet) (1)および(2):実施例1と同じ 熱分析 TG10%重量減少温度275℃ 実施例 3 p−メチルアニリンに代えてp−アニシジン
(0.1モル)を用いる以外実施例1と同様にして、
N−(p−メトキシフエニル)−p−パーフルオロ
ノネニルオキシベンズアミド(収量80%)を得
た。生成物の物性は以下の通りであつた。 外観:白色結晶 融点:139〜140℃ 赤外吸収スペクトル N−H基に基づく吸収 3300cm-1 カルボニル基に基づく吸収 1643cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 1603cm-1 1520cm-1 C−Fに基づく吸収 1100〜1350cm-1 1H−NMR(δppm内部標準TMS、溶媒CDCI3) 7.95(Doublet、2H、ベンゼン環カルボニル基
オルト位プロトン、J=9.0Hz) 7.00(Doublet、2H、ベンゼン環カルボニル基
メタ位プロトン、J=9.0Hz) 7.53(Doublet、2H、ベンゼン環イミノ基オル
ト位プロトン、J=8.8Hz) 6.90(Doublet、2H、ベンゼン環イミノ基メタ
位プロトン、J=8.8Hz) 8.1(Broad、1H、>N−H) 3.79(Singlet、3H、−OCH3) 19F−NMR分析(δppm内部標準CCI3F、溶媒ア
セトン−D6) +56(1)(Doublet、J=56.4Hz(2)) +72(1)(Triplet、J=37.4Hz(2)) +166(1)(Multiplet) (1) CCI3Fの吸収線より高磁場側を正の符号で示
した。 (2) みかけ上の結合定数 熱分析 TG10%重量減少温度246℃ 実施例 4 p−パーフルオロノネニルオキシベンゾイルク
ロリドの代わりに、特開昭51−11084号公報の実
施例1(1)で得たp−パーフルオロノネニルオキシ
ベンゼンスルホニルクロリド(0.1モル)を用い
る以外は実施例1と同様にして、N−フエニル−
p−パーフルオロノネニルオキシベンゼンスルホ
ンアミドを得た(収量73%)。生成物の物性は以
下の通りであつた。 外観:白色固体 融点:131.5〜132.5℃ 赤外吸収スペクトル イミノ基に基づく吸収 3260cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 1590cm-1 1495cm-1 C−Fおよびスルホニル基 1100〜1400cm-1 に基づく吸収 1H−NMR分析(δppm内部標準物質TMS、溶
媒CDCI3) 7.85(Doublet、2H、ベンゼン環スルホニル基
オルト位プロトン、J=9.0Hz) 6.91(Doublet、2H、ベンゼン環エーテル基オ
ルト位プロトン、J=9.0Hz) 7.1(Multiplet、5H、N−置換ベンゼン環) 7.2(Droad、1H、イミノプロトン) 19F−NMR分析(δppm内部標準CCI3F、溶媒
CDCI3) +56(1)(Doublet、J=56.4Hz(2)) +72(1)(Triplet、J=37.4Hz(2)) +166(1)(Multiplet) (1)および(2)は実施例1と同じ 熱分析 TG10%重量減少温度274℃ 実施例 5 p−メチルアニリンに代えてジフエニルアミン
(0.1モル)を用いる以外は実施例4と同様にして
N,N−ジフエニル−p−パーフルオロアルケニ
ルオキシベンゼンスルホンアミドを得た(収量60
%)。生成分の物性は以下の通りであつた。 外観:白色結晶 融点:121〜122℃ 赤外吸収スペクトル 芳香族C−Hに基づく吸収 3110cm-1 3075cm-1 ベンゼン環に基づく吸収 1590cm-1 1495cm-1 C−Fおよびスルホニル基 1100〜1400cm-1 に基づく吸収 1H−NMR分析(δppm内部標準物質TMS、溶
媒(CDCI3) 7.57(Doublet、2H、ベンゼン環スルホニル基
オルト位プロトン、J=8.8Hz) 6.81(Doublet、2H、ベンゼン環エーテル基オ
ルト位プロトン、J=8.8PH) 7.1(Multiplet、10H、N−置換ベンゼン環) 19F−NMR分析(δppm内部標準CCI3F、溶媒
CDCI3) +56(1)(Doublet、J=56.4Hz(2)) +72(1)(Triplet、J=37.4Hz(2)) +166(1)(Multiplet) (1)および(2)は実施例1と同じ。 熱分析 TG10%重量減少温度288℃
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 【式】または 〔式中、Rfは炭素数2〜20のパーフルオロアル
ケニル基、Xは水素またはアリール基、Yは水素
またはアルキル基を示す〕で表わされるパーフル
オロアルケニルオキシベンズアミドおよびベンゼ
ンスルホンアミド誘導体。 2 Rfがヘキサフルオロプロペン二量体または
三量体残基である第1項記載の誘導体。 3 パーフルオロアルケニルオキシベンゾイルハ
ライドまたはパーフルオロアルケニルオキシベン
ゼンスルホニルハライドとフエニルアミンまたは
その誘導体を非水溶媒中、塩基性触媒の存在下に
脱ハロゲン化水素反応させることを特徴とするパ
ーフルオロアルケニルオキシベンズアミドおよび
ベンゼンスルホンアミド誘導体の製造方法。 4 非水溶媒がジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、アセトニトリル、N,N−ジメチルホル
ムアミドまたはジメチルカルビトールである第3
項記載の製法。 5 塩基性触媒がトリエチルアミン、トリメチル
アミン、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムであ
る第3項記載の製法。 6 反応が20〜50℃で行われる第3項記載の製
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4607184A JPS60190747A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | パ−フルオロアルケニルオキシベンズアミド並びにベンゼンスルホンアミド誘導体およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4607184A JPS60190747A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | パ−フルオロアルケニルオキシベンズアミド並びにベンゼンスルホンアミド誘導体およびその製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60190747A JPS60190747A (ja) | 1985-09-28 |
JPH0348900B2 true JPH0348900B2 (ja) | 1991-07-25 |
Family
ID=12736761
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4607184A Granted JPS60190747A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | パ−フルオロアルケニルオキシベンズアミド並びにベンゼンスルホンアミド誘導体およびその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60190747A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3567957B2 (ja) * | 1996-12-03 | 2004-09-22 | 日本精工株式会社 | グリース組成物及び転がり軸受 |
-
1984
- 1984-03-09 JP JP4607184A patent/JPS60190747A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60190747A (ja) | 1985-09-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2004124711A (ru) | Способ получения производных индолинона | |
EP0171205B1 (en) | Fluoroalkylaryliodonium compounds | |
KR20100092938A (ko) | 플루오로알킬기 유도체를 함유하는 겔화제 | |
JPH0338272B2 (ja) | ||
JPH0348900B2 (ja) | ||
EP0003501B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Thiazolderivaten | |
JPH0430387B2 (ja) | ||
JPH0348901B2 (ja) | ||
US2562151A (en) | Halogenated nitro ethers | |
JP5408820B2 (ja) | 5,6,7,8−テトラ置換−1,4−ジアルコキシ−2,3−ジシアノ−ナフタレン誘導体 | |
JPH0853399A (ja) | 芳香族フツ素化化合物の製造方法および新規なジアミド | |
US6855825B2 (en) | Short synthesis of pyridine-based pharmaceutical intermediates | |
EP1045848B1 (en) | Process for preparation of 2-aminothiazolecarboxamide derivatives | |
EP0008097A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Indoleninen | |
JPH01313481A (ja) | ソルビトール化合物 | |
JP2794241B2 (ja) | 芳香族アミン誘導体の製造方法 | |
JPS5832199B2 (ja) | 含フツ素界面活性剤およびその製法 | |
US3502726A (en) | Hydrazine derivatives of oligomers of tetrafluoroethylene and hexafluoropropene | |
JPS58152857A (ja) | フルオロアシル尿素類又はフルオロアシルチオ尿素類 | |
JPH0672142B2 (ja) | 4−アミノ−1,2,4−トリアゾリン−5−チオン系化合物の製造方法 | |
EP1013637A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Fluor enthaltenden Phenethylaminen sowie Fluor enthaltende Beta-Iminovinyl- und Beta-Iminoethylbenzole | |
DE69717822T2 (de) | 3-(4-Tert-butylphenyl)-1H-1,2,4-triazol-5-ylessigsäure und ihre Verwendungen, insbesondere zur Herstellung von fotographischen Kupplern | |
KR101142283B1 (ko) | 2-아미노티아졸 카르복사미드 유도체의 신규한 제조방법 | |
JPH1112204A (ja) | 9,10−ジクロロアントラセン類および9,10−ジハロアントラセン類の製造方法 | |
KR830000125B1 (ko) | 1,2-디치환-1-페닐-사이클로프로판류의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |