JPH0348494B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0348494B2
JPH0348494B2 JP56089187A JP8918781A JPH0348494B2 JP H0348494 B2 JPH0348494 B2 JP H0348494B2 JP 56089187 A JP56089187 A JP 56089187A JP 8918781 A JP8918781 A JP 8918781A JP H0348494 B2 JPH0348494 B2 JP H0348494B2
Authority
JP
Japan
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developer
chamber
water
development
photomask substrate
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP56089187A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS57204039A (en
Inventor
Katsuyuki Arii
Shinya Kato
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPS57204039A publication Critical patent/JPS57204039A/ja
Publication of JPH0348494B2 publication Critical patent/JPH0348494B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03D5/00—Liquid processing apparatus in which no immersion is effected; Washing apparatus in which no immersion is effected
    • G03D5/04—Liquid processing apparatus in which no immersion is effected; Washing apparatus in which no immersion is effected using liquid sprays

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は露光後のフオトマスク基板の現像を高
湿度中で行なうスプレー現像に関する。
上記のスプレー現像は水溶性アルカリ現像液を
霧状にしてフオトマスク基板に吹きつける方法で
従来第１図に示すようなチヤンバー内で行なわれ
る。なお、第１図において１はチヤンバー、２は
フオトマスク基板、３はスプレーノズル、４はフ
イルタ、５はポンプ、６は現像液タンクである。
現像液はスプレーノズル３で霧状にされ、チヤ
ンバー１内で回転するフオトマスク基板２に吹き
つけられるが、チヤンバー１内の水蒸気圧が飽和
状態でないため水溶性現像液中の水分が蒸発して
しまい、現像液の濃度を安定に保つことが難しく
また一般に現像液はわずかな濃度変化でも現像能
力がかわつてしまうため、パターン寸法にバラツ
キが生じてしまう。
また、複数枚のフオトマスクの基板を現像する
場合、フオトマスク基板を交換する間にスプレー
ノズル３付近に残つている現像液の水分が蒸発し
てしまい、現像液の濃度が高くなり、現像開始時
に高濃度の現像液が吹きつけられるため、一部で
現像が進みすぎピンホール発生の原因となつてい
る。
本発明は上記の欠点を解消することを目的と
し、露光後のフオトマスク基板を水溶性現像液を
使用して現像するスプレー現像方法において、現
像を行うチヤンバー内に高湿度空気を吹き込み該
チヤンバー内の水蒸気圧を飽和状態に保ち現像を
行うことを特徴とするものである。
以下に図を用いて本発明を詳細に説明する。
第２図は本発明の一実施例である。本図におい
て７は高湿度空気吹き出し口、８はポンプであ
る。なお第１図と同一番号は同一部位を示す。
本発明においては高湿度の空気をチヤンバー１
内に吹き込み、水蒸気圧を飽和状態に保つことに
より、現像液中の水分の蒸発を防ぎ現像液の濃度
の安定化をはかつている。
このようにすることにより安定した濃度の現像
液が吹きてけられるためパターン寸法のバラツキ
が減少し、またスプレーノズル３付近に残つてい
る現像液の乾燥を防ぎピンホールの発生を防止す
ることが可能である。
以上説明したように本発明によればパターン寸
法のバラツキの少なく、ピンホールのないフオト
マスク基板を製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来のスプレー現像装置、第２図は本
発明の一実施例である。 １……チヤンバー、２……フオトマスク基板、
３……スプレーノズル、４……フイルタ、５……
ポンプ、６……現像液タンク、７……高湿度空気
吹き出し口、８……ポンプ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ 露光後のフオトマスク基板を水溶性現像液を
    使用して現像するスプレー現像方法において、現
    像を行うチヤンバー内に高湿度空気を吹き込み該
    チヤンバー内の水蒸気圧を飽和状態に保ち現像を
    行うことを特徴とするフオトマスク基板のスプレ
    ー現像方法。
JP8918781A 1981-06-10 1981-06-10 Spray developing method Granted JPS57204039A (en)

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JPS57204039A JPS57204039A (en) 1982-12-14
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JPH0452989Y2 (ja) * 1987-09-29 1992-12-14

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57173839A (en) * 1981-04-21 1982-10-26 Oki Electric Ind Co Ltd Resist coating device

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JPS57173839A (en) * 1981-04-21 1982-10-26 Oki Electric Ind Co Ltd Resist coating device

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JPS57204039A (en) 1982-12-14

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