JPH034640B2 - - Google Patents
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- JPH034640B2 JPH034640B2 JP21728086A JP21728086A JPH034640B2 JP H034640 B2 JPH034640 B2 JP H034640B2 JP 21728086 A JP21728086 A JP 21728086A JP 21728086 A JP21728086 A JP 21728086A JP H034640 B2 JPH034640 B2 JP H034640B2
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
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Landscapes
- Control Of Voltage And Current In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
産業上の利用分野
本発明は、物品等の表面に電気メツキ等の電解
処理を施す方法に関する。
処理を施す方法に関する。
従来の技術
物品等の表面に対して電気メツキや電解研磨等
の電解処理を行なうに当つて被処理面の電流密度
を適切な範囲内に調整することは、良好な電解処
理面を得るために欠くことができない。このよう
な電解処理において電流密度を知るために、被処
理面の面積と通電全電流値とから算出する方法が
あるが、被処理面の形状が一様でないときにはそ
の凸部や端部などに電流が集中し、また凹部や裏
面などには少ししか電流が廻らないという問題が
あり、前記のような平均電流密度を知るのみでは
良好な電解処理面は得られない。
の電解処理を行なうに当つて被処理面の電流密度
を適切な範囲内に調整することは、良好な電解処
理面を得るために欠くことができない。このよう
な電解処理において電流密度を知るために、被処
理面の面積と通電全電流値とから算出する方法が
あるが、被処理面の形状が一様でないときにはそ
の凸部や端部などに電流が集中し、また凹部や裏
面などには少ししか電流が廻らないという問題が
あり、前記のような平均電流密度を知るのみでは
良好な電解処理面は得られない。
そこで、電解処理を行なうに当つて、被処理導
電体と電解浴との接液面におけるそれぞれ異つた
場所での局所的電流密度を知ることが重要となる
が、このような接液面の局所的電流密度を知る手
段としては、実験室的に測定する方法はあつたと
しても、工業的に操業現場で利用し得る測定方法
は未だに無いのが現実であつた。
電体と電解浴との接液面におけるそれぞれ異つた
場所での局所的電流密度を知ることが重要となる
が、このような接液面の局所的電流密度を知る手
段としては、実験室的に測定する方法はあつたと
しても、工業的に操業現場で利用し得る測定方法
は未だに無いのが現実であつた。
これに対して、本発明者の１人は、対になつた
互に絶縁された導電体電極を所定距離を隔てて対
向配置したバイポーラ電極型センサーを電流密度
測定対象導電体の接液面に近接させて電解液中に
位置させ、電解液中を流れる電流によつて液中に
発生する液中電流密度に比例した電位傾度を前記
センサーの電極間の電位差として検出し、この電
位差信号をあらかじめ同じ電解液について測定し
て得た電位差−電流密度の関数に代入することに
よつて測定対象導電体の接液面付近の液中電流密
度を求め、これによつて該接液面の特定個所を通
過する電流の密度を近似的に測定する手段が、工
業的に実用可能であることを見出した。そして、
この原理に基づく電流密度測定装置を発明し、別
途特許出願している（特開昭62−27655号）。
互に絶縁された導電体電極を所定距離を隔てて対
向配置したバイポーラ電極型センサーを電流密度
測定対象導電体の接液面に近接させて電解液中に
位置させ、電解液中を流れる電流によつて液中に
発生する液中電流密度に比例した電位傾度を前記
センサーの電極間の電位差として検出し、この電
位差信号をあらかじめ同じ電解液について測定し
て得た電位差−電流密度の関数に代入することに
よつて測定対象導電体の接液面付近の液中電流密
度を求め、これによつて該接液面の特定個所を通
過する電流の密度を近似的に測定する手段が、工
業的に実用可能であることを見出した。そして、
この原理に基づく電流密度測定装置を発明し、別
途特許出願している（特開昭62−27655号）。
しかしながら、このような手段によつて接液面
における電流密度を知り得ても、電解処理対象物
品に対して最適の通電をするためには、電解技術
者の判断に基づいて通電電流の制御を行なつた上
電解処理時間を調整することが必要とされてい
た。
における電流密度を知り得ても、電解処理対象物
品に対して最適の通電をするためには、電解技術
者の判断に基づいて通電電流の制御を行なつた上
電解処理時間を調整することが必要とされてい
た。
解決しようとする問題点
前述のように、従来技術による物品の電解処理
法にあつては、電流密度の正確な測定手段が知ら
れて居らずまた平均電流密度の推定精度も充分で
なかつたので、電解処理の完全を期すためにはど
うしても余裕をみて通電電流量が過大となるよう
な操業条件を設定しなければならなかつた。
法にあつては、電流密度の正確な測定手段が知ら
れて居らずまた平均電流密度の推定精度も充分で
なかつたので、電解処理の完全を期すためにはど
うしても余裕をみて通電電流量が過大となるよう
な操業条件を設定しなければならなかつた。
そのため、処理物品についてはたとえばメツキ
被膜が厚すぎるなどの過剰品質を与えることにな
り、また一方では原料やエネルギーの無駄と操業
効率の低迷とを招いていた。
被膜が厚すぎるなどの過剰品質を与えることにな
り、また一方では原料やエネルギーの無駄と操業
効率の低迷とを招いていた。
そこで本発明は、さきに本発明者らが発明した
電流密度測定方法を利用して、処理対象物品に対
して良質かつ経済的な電解処理を実施できる信頼
性の高い電解処理法を提供しようとするものであ
る。
電流密度測定方法を利用して、処理対象物品に対
して良質かつ経済的な電解処理を実施できる信頼
性の高い電解処理法を提供しようとするものであ
る。
問題点を解決するための手段
かかる目的を達成できる本発明の電解処理法
は、互に絶縁された状態で所定距離を隔てて設け
られた２個の接液電極を有する電流密度測定用セ
ンサを電解処理対象物品の表面に近接させて設
け、該センサからの出力信号値を演算して積分通
電量信号を発生する積分回路と、該積分通電量信
号を予め入力・記憶された設定値と比較して設定
通電量以上に達したときに制御信号を発生する比
較回路と、該制御信号をうけて電解電流を遮断す
る電流制御回路と、を少くとも備えた制御装置を
介して該電解処理対象物品に対して電流を供給す
ることを、特徴とするものである。
は、互に絶縁された状態で所定距離を隔てて設け
られた２個の接液電極を有する電流密度測定用セ
ンサを電解処理対象物品の表面に近接させて設
け、該センサからの出力信号値を演算して積分通
電量信号を発生する積分回路と、該積分通電量信
号を予め入力・記憶された設定値と比較して設定
通電量以上に達したときに制御信号を発生する比
較回路と、該制御信号をうけて電解電流を遮断す
る電流制御回路と、を少くとも備えた制御装置を
介して該電解処理対象物品に対して電流を供給す
ることを、特徴とするものである。
実施例
以下、本発明を第１図によつて更に説明する。
本発明において使用される電流密度測定用セン
サＳは、たとえば絶縁性の筒状体１の先端部に、
互に絶縁された状態で所定距離たとえば５mm程度
を隔てて２個の接液電極２を設けてなるものが用
いられる。かかる接液電極２は、たとえば白金な
どの耐食性金属か、または電解液中に含有される
イオンと同種の金属などで構成されるのが望まし
く、たとえ溶出しても電解液を汚染しないような
金属であることが好ましい。また、かかる接液電
極には、検出した電圧信号を送出するための電線
３が接続され、電解処理槽Ｂの外部などへ導かれ
るように構成される。
サＳは、たとえば絶縁性の筒状体１の先端部に、
互に絶縁された状態で所定距離たとえば５mm程度
を隔てて２個の接液電極２を設けてなるものが用
いられる。かかる接液電極２は、たとえば白金な
どの耐食性金属か、または電解液中に含有される
イオンと同種の金属などで構成されるのが望まし
く、たとえ溶出しても電解液を汚染しないような
金属であることが好ましい。また、かかる接液電
極には、検出した電圧信号を送出するための電線
３が接続され、電解処理槽Ｂの外部などへ導かれ
るように構成される。
また、本発明において使用される制御装置Ｒ
は、電解電流の通電時間を制御するためのもの
で、所定の電解処理効果を得るに充分な積分通電
量が得られたときに電源Ｅからの電流供給を遮断
する機能を備えているものである。かかる制御装
置Ｒは、電流密度測定用センサＳで検出された出
力電圧信号を受けてこれを演算し積分通電量に対
応する信号を発生する積分回路４と、一方、所定
の電解処理効果を得るに必要な積分通電量の設定
入力を受けてこれを記憶する領域５′を有し、積
分回路４で発生した積分通電量信号を受けて前記
の設定値と比較し、設定値以上となつたときに電
解電流を遮断するための制御信号を発生する比較
回路５と、前記の制御信号を受けて電解電流を遮
断するように作動する電流制御回路６とを備えて
いる。
は、電解電流の通電時間を制御するためのもの
で、所定の電解処理効果を得るに充分な積分通電
量が得られたときに電源Ｅからの電流供給を遮断
する機能を備えているものである。かかる制御装
置Ｒは、電流密度測定用センサＳで検出された出
力電圧信号を受けてこれを演算し積分通電量に対
応する信号を発生する積分回路４と、一方、所定
の電解処理効果を得るに必要な積分通電量の設定
入力を受けてこれを記憶する領域５′を有し、積
分回路４で発生した積分通電量信号を受けて前記
の設定値と比較し、設定値以上となつたときに電
解電流を遮断するための制御信号を発生する比較
回路５と、前記の制御信号を受けて電解電流を遮
断するように作動する電流制御回路６とを備えて
いる。
本発明の電解処理法を実施するに当つては、電
解槽Ｂ中に電極Ａと対向させて電解処理対象物品
Ｃを浸漬するが、それに先立つて処理対象物品Ｃ
と同じ形状の試料について電解処理を受けるとき
その接液面の各部の電流密度がどのように異るか
を予め調査して、代表的な電流密度たとえば最低
の電流密度を示す位置を選定しておく。そして、
処理対象物品Ｃの代表的位置にセンサＳの接液電
極２を近接させて固定し、センサＳと制御装置Ｒ
とを接続し、また電源Ｅから制御装置Ｒの電源制
御回路６を経て処理対象物品Ｃへ電解電流が流れ
るように結線して、電解処理を行なう。
解槽Ｂ中に電極Ａと対向させて電解処理対象物品
Ｃを浸漬するが、それに先立つて処理対象物品Ｃ
と同じ形状の試料について電解処理を受けるとき
その接液面の各部の電流密度がどのように異るか
を予め調査して、代表的な電流密度たとえば最低
の電流密度を示す位置を選定しておく。そして、
処理対象物品Ｃの代表的位置にセンサＳの接液電
極２を近接させて固定し、センサＳと制御装置Ｒ
とを接続し、また電源Ｅから制御装置Ｒの電源制
御回路６を経て処理対象物品Ｃへ電解電流が流れ
るように結線して、電解処理を行なう。
このようにして電解電流が流れると、処理対象
物品Ｃの接液面の近傍では電解液中にはその通電
抵抗と電流密度とに対応した電位傾度が生ずる
が、センサＳの先端部に所定距離を隔てて設けら
れた２個の接液電極２には、上述の電位傾度に対
応する電位差が検出され、これが電線３を経て電
圧信号として積分回路４に入力される。
物品Ｃの接液面の近傍では電解液中にはその通電
抵抗と電流密度とに対応した電位傾度が生ずる
が、センサＳの先端部に所定距離を隔てて設けら
れた２個の接液電極２には、上述の電位傾度に対
応する電位差が検出され、これが電線３を経て電
圧信号として積分回路４に入力される。
積分回路４に入力された電圧信号は、用いられ
たセンサＳの特性定数および用いられた電解液の
特性定数を含む関数によつて電流密度に変換さ
れ、さらに時間の経過と共に積分されて積分通電
量値が演算結果として出力される。この積分通電
量信号は比較回路５に入力されるが、その記憶領
域５′には、所定の電解処理効果たとえばメツキ
の場合には所定の厚さのメツキ被膜を得るに必要
な通電量が設定されていて、積分通電量信号が設
定値と比較される。そして積分通電量信号が設定
値よりも小である間は出力がなく、設定値以上と
なると制御信号が出力される。
たセンサＳの特性定数および用いられた電解液の
特性定数を含む関数によつて電流密度に変換さ
れ、さらに時間の経過と共に積分されて積分通電
量値が演算結果として出力される。この積分通電
量信号は比較回路５に入力されるが、その記憶領
域５′には、所定の電解処理効果たとえばメツキ
の場合には所定の厚さのメツキ被膜を得るに必要
な通電量が設定されていて、積分通電量信号が設
定値と比較される。そして積分通電量信号が設定
値よりも小である間は出力がなく、設定値以上と
なると制御信号が出力される。
制御信号が電流制御回路６に入力されると、電
源Ｅから処理対象物品Ｃへ供給される電解電流を
遮断するよう電流制御回路６、たとえばリレー回
路が作動し、電解処理が終了する。
源Ｅから処理対象物品Ｃへ供給される電解電流を
遮断するよう電流制御回路６、たとえばリレー回
路が作動し、電解処理が終了する。
このほか、電解処理の終了に続いて処理対象物
品Ｃの電解槽Ｂからの取出しや次工程への送出、
あるいは未処理物品の電解処理操作の開始などを
自動的に制御する機能が加わつていてもよい。
品Ｃの電解槽Ｂからの取出しや次工程への送出、
あるいは未処理物品の電解処理操作の開始などを
自動的に制御する機能が加わつていてもよい。
作 用
本発明の電解処理法によれば、電解処理対象物
品の代表的位置が、あらかじめ設定された通電量
に対応する電解処理を受けるまで通電され、そし
て自動的に処理が終了する。従つて、たとえば最
低電流密度を示す位置を選定してセンサを取付け
て、たとえば金属メツキ処理を行なつた場合に
は、メツキ被膜の最も薄い部分が設定値以上の厚
さとなるように自動的に運転を行なうことができ
る。そして、電解処理実施中に電源電圧の変動や
同時に並列処理される物品数の変動などによつて
電流密度が変動することがあつても、その変動は
自動的に補償され、一定の電解処理効果が得られ
る。
品の代表的位置が、あらかじめ設定された通電量
に対応する電解処理を受けるまで通電され、そし
て自動的に処理が終了する。従つて、たとえば最
低電流密度を示す位置を選定してセンサを取付け
て、たとえば金属メツキ処理を行なつた場合に
は、メツキ被膜の最も薄い部分が設定値以上の厚
さとなるように自動的に運転を行なうことができ
る。そして、電解処理実施中に電源電圧の変動や
同時に並列処理される物品数の変動などによつて
電流密度が変動することがあつても、その変動は
自動的に補償され、一定の電解処理効果が得られ
る。
本発明の電解処理法は、電解処理対象物品の接
液面における電流密度を検出して通電量を積算
し、個々の物品、さらには各部分の表面に対する
通電量の積分値が所定の値に達するまで電解処理
が継続されるから、電源電圧の変動や同時に並行
して処理を受ける物品の数の変動などの予期しな
い電流密度の変動も自動的に補償される。そし
て、常に一定の通電量に達するまでの電解処理が
保証されるので、電解処理された物品の品質は高
精度で一定になる。
液面における電流密度を検出して通電量を積算
し、個々の物品、さらには各部分の表面に対する
通電量の積分値が所定の値に達するまで電解処理
が継続されるから、電源電圧の変動や同時に並行
して処理を受ける物品の数の変動などの予期しな
い電流密度の変動も自動的に補償される。そし
て、常に一定の通電量に達するまでの電解処理が
保証されるので、電解処理された物品の品質は高
精度で一定になる。
従つて、品質のバラツキが減ると共に過剰品質
も発生せず、高効率で経済的な電解処理ができ
る。
も発生せず、高効率で経済的な電解処理ができ
る。
第１図は本発明の電解処理法の構成を説明する
ためのブロツク図である。 Ａ……電極、Ｂ……電解槽、Ｃ……電解処理対
象物品、Ｅ……電源、Ｓ……電流密度測定用セン
サ、Ｒ……制御装置、１……筒状体、２……接液
電極、３……電線、４……積分回路、５……比較
回路、６……電流制御回路。
ためのブロツク図である。 Ａ……電極、Ｂ……電解槽、Ｃ……電解処理対
象物品、Ｅ……電源、Ｓ……電流密度測定用セン
サ、Ｒ……制御装置、１……筒状体、２……接液
電極、３……電線、４……積分回路、５……比較
回路、６……電流制御回路。
Claims (1)
- １ 互に絶縁された状態で所定距離を隔てて設け
られた２個の接液電極を有する電流密度測定用セ
ンサを電解処理対象物品の表面に近接させて設
け、該センサからの出力信号値を演算して積分通
電量信号を発生する積分回路と、該積分通電量信
号を予め入力・記憶された設定値と比較して設定
通電量以上に達したときに制御信号を発生する比
較回路と、該制御信号をうけて電解電流を遮断す
る電流制御回路と、を少くとも備えた制御装置を
介して該電解処理対象物品に対して電流を供給す
ること、を特徴とする電解処理法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21728086A JPS6372899A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | 電解処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21728086A JPS6372899A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | 電解処理法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6372899A JPS6372899A (ja) | 1988-04-02 |
| JPH034640B2 true JPH034640B2 (ja) | 1991-01-23 |
Family
ID=16701663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21728086A Granted JPS6372899A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | 電解処理法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6372899A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01222097A (ja) * | 1988-03-02 | 1989-09-05 | Pioneer Electron Corp | めっき装置の制御回路 |
| JPH0378308U (ja) * | 1989-12-04 | 1991-08-08 |
-
1986
- 1986-09-17 JP JP21728086A patent/JPS6372899A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6372899A (ja) | 1988-04-02 |
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