JPH0345209Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0345209Y2 JPH0345209Y2 JP1983098913U JP9891383U JPH0345209Y2 JP H0345209 Y2 JPH0345209 Y2 JP H0345209Y2 JP 1983098913 U JP1983098913 U JP 1983098913U JP 9891383 U JP9891383 U JP 9891383U JP H0345209 Y2 JPH0345209 Y2 JP H0345209Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- lens
- deflection
- imaging lens
- scanning device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
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Landscapes
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は被走査面上に光束を走査する光学走査
装置に関する。
装置に関する。
如上の光学走査装置は、例えば電子写真感光体
に、被記録情報信号に対応して変調されたレーザ
ービームを走査して画像記録を行う、レーザービ
ームプリンタに使用される。斯かる装置において
は、レーザービーム等の光束を感光体上に微小ス
ポツトに収斂する、つまり光束を結像するレンズ
系が使用されている。このレンズ系は通常2枚以
上のレンズで構成されているが、それらのレンズ
が、各レンズ光軸の高さにばらつきがあるような
状態で支持体に支持されている時、光束を正常に
結像できず、画像のボケやゆがみが生ずる。従来
はこの不都合を避ける為組立時に複雑な微調整を
施していた為、時間がかかり、また調整も困難で
精度も出しにくかつた。
に、被記録情報信号に対応して変調されたレーザ
ービームを走査して画像記録を行う、レーザービ
ームプリンタに使用される。斯かる装置において
は、レーザービーム等の光束を感光体上に微小ス
ポツトに収斂する、つまり光束を結像するレンズ
系が使用されている。このレンズ系は通常2枚以
上のレンズで構成されているが、それらのレンズ
が、各レンズ光軸の高さにばらつきがあるような
状態で支持体に支持されている時、光束を正常に
結像できず、画像のボケやゆがみが生ずる。従来
はこの不都合を避ける為組立時に複雑な微調整を
施していた為、時間がかかり、また調整も困難で
精度も出しにくかつた。
本考案の目的は上述の不都合を容易に解決でき
る構成の簡単な装置を提供することである。上記
目的を達成する本考案は、レーザービームを出射
するレーザー出射手段と、レーザー出射手段から
出射されたレーザービームで被走査面を走査する
ためにレーザービームを偏向する偏向手段と、こ
の偏向手段により偏向されたレーザービームを被
走査面に結像させるための光軸を一致して設けら
れた少なくとも2つの結像レンズと、この結像レ
ンズ群を支持する基体と、を有する光学走査装置
において、 上記結像レンズ群は夫々、偏向手段による偏向
方向に長い扁平形状で、且つ、レンズ光軸から同
一距離に平面部を有すると共に、結像レンズ群
夫々の平面部を上方より基体側に押圧する単一の
押圧部材を有することを特徴とするものである。
る構成の簡単な装置を提供することである。上記
目的を達成する本考案は、レーザービームを出射
するレーザー出射手段と、レーザー出射手段から
出射されたレーザービームで被走査面を走査する
ためにレーザービームを偏向する偏向手段と、こ
の偏向手段により偏向されたレーザービームを被
走査面に結像させるための光軸を一致して設けら
れた少なくとも2つの結像レンズと、この結像レ
ンズ群を支持する基体と、を有する光学走査装置
において、 上記結像レンズ群は夫々、偏向手段による偏向
方向に長い扁平形状で、且つ、レンズ光軸から同
一距離に平面部を有すると共に、結像レンズ群
夫々の平面部を上方より基体側に押圧する単一の
押圧部材を有することを特徴とするものである。
以下図面を参照して本考案の実施例を説明す
る。
る。
第1図は本考案の一実施例の平面図、第2図は
第1図の−線断面図である。図において1は
周面に電子写真感光体を有し、矢印方向に回転す
るドラムで、その回転路に沿つて帯電手段、レー
ザービーム走査露光手段、現像手段、転写手段、
クリーニング手段を有している。2は被記録画像
信号により変調されたレーザービームを射出する
光源装置で、自己変調可能な半導体レーザーと該
半導体レーザーからのレーザービーム断面の形状
を補正すると共にレーザービームをアフオーカル
光とする様なビーム整形光学系から成る。4は光
源装置2からのレーザービームを走査する偏向器
であるところの回転多面鏡、3c,3b,3cは
レーザービームを感光ドラム1に結像するための
結像レンズ系を構成するレンズである。この結像
レンズ群3a,3b,3cは特開昭57−144514号
公報に提案されたレーザ光を回転多面鏡4の偏向
反射面に線像として結像する第1の結像レンズ
(シリンドリカルレンズ3a)と、回転多面鏡4
で偏向された光束を感光ドラム5a表面に結像し
て等速度で走査する第2の結像レンズ(球面レン
ズ3bとトーリツクレンズ3c)から構成されて
いる。第1図、第2図に示される通り球面レンズ
3bとトーリツクレンズ3cは回転多面鏡により
偏向されるレーザービームの偏向方向に長い偏平
形状である。5はレーザービームがドラム1に向
けて出射するガラス窓である。前記レンズ3c,
3b,3c、多面鏡から成る光学系は防塵箱6中
に配置されている。防塵箱6は支持基体7とこの
基体7の上部を塞ぐ蓋板8と前記ガラス窓5を有
している。
第1図の−線断面図である。図において1は
周面に電子写真感光体を有し、矢印方向に回転す
るドラムで、その回転路に沿つて帯電手段、レー
ザービーム走査露光手段、現像手段、転写手段、
クリーニング手段を有している。2は被記録画像
信号により変調されたレーザービームを射出する
光源装置で、自己変調可能な半導体レーザーと該
半導体レーザーからのレーザービーム断面の形状
を補正すると共にレーザービームをアフオーカル
光とする様なビーム整形光学系から成る。4は光
源装置2からのレーザービームを走査する偏向器
であるところの回転多面鏡、3c,3b,3cは
レーザービームを感光ドラム1に結像するための
結像レンズ系を構成するレンズである。この結像
レンズ群3a,3b,3cは特開昭57−144514号
公報に提案されたレーザ光を回転多面鏡4の偏向
反射面に線像として結像する第1の結像レンズ
(シリンドリカルレンズ3a)と、回転多面鏡4
で偏向された光束を感光ドラム5a表面に結像し
て等速度で走査する第2の結像レンズ(球面レン
ズ3bとトーリツクレンズ3c)から構成されて
いる。第1図、第2図に示される通り球面レンズ
3bとトーリツクレンズ3cは回転多面鏡により
偏向されるレーザービームの偏向方向に長い偏平
形状である。5はレーザービームがドラム1に向
けて出射するガラス窓である。前記レンズ3c,
3b,3c、多面鏡から成る光学系は防塵箱6中
に配置されている。防塵箱6は支持基体7とこの
基体7の上部を塞ぐ蓋板8と前記ガラス窓5を有
している。
上記支持基体7の底板部7′には、同一平面上
に形成されたレンズ支持平面7a,7b,7c
(7aは図示せず)が設けられている。このレン
ズ支持平面7a,7b,7cに前記レンズ3c,
3b,3cが夫々載せられる。而してレンズ3
a,3b,3cの上記支持平面に当接せしめられ
る面は切削により平面3a′,3b′,3c′(3a′は図
示せず)に形成されている。この平面3a′,3
b′,3c′は夫々のレンズのレンズ光軸からの高さ
(レンズ光軸からの距離)が同一であるように切
削形成されている。そして各平面3a,3b,3
cは夫々レンズのレンズ光軸と平行である。
に形成されたレンズ支持平面7a,7b,7c
(7aは図示せず)が設けられている。このレン
ズ支持平面7a,7b,7cに前記レンズ3c,
3b,3cが夫々載せられる。而してレンズ3
a,3b,3cの上記支持平面に当接せしめられ
る面は切削により平面3a′,3b′,3c′(3a′は図
示せず)に形成されている。この平面3a′,3
b′,3c′は夫々のレンズのレンズ光軸からの高さ
(レンズ光軸からの距離)が同一であるように切
削形成されている。そして各平面3a,3b,3
cは夫々レンズのレンズ光軸と平行である。
かくして各レンズ3a,3b,3cを、前記底
板部7′の支持平面7a,7b,7cに載せるだ
けで各レンズの光軸の高さは一致することになる
から、各レンズの位置調節としては横方向、即ち
上記平面に平行な方向への調節だけで済むことに
なる。
板部7′の支持平面7a,7b,7cに載せるだ
けで各レンズの光軸の高さは一致することになる
から、各レンズの位置調節としては横方向、即ち
上記平面に平行な方向への調節だけで済むことに
なる。
尚、支持基体7はガラス繊維強化ポリカーボネ
イト樹脂等の材料を用いた精密成形品である。こ
の成形用金型の製作時において平面7a,7b,
7cを形成する金型面同一高さの位置精度は極め
て高いものが容易に得られるものであるから、前
記支持平面7a,7b,7cの高さ精度は高精度
で得られる。また基体7を鋳造部材(アルミ鋳物
等)としても、該支持面が同一の高さにあるた
め、機械加工により高精度の基準面が容易に得ら
れる。
イト樹脂等の材料を用いた精密成形品である。こ
の成形用金型の製作時において平面7a,7b,
7cを形成する金型面同一高さの位置精度は極め
て高いものが容易に得られるものであるから、前
記支持平面7a,7b,7cの高さ精度は高精度
で得られる。また基体7を鋳造部材(アルミ鋳物
等)としても、該支持面が同一の高さにあるた
め、機械加工により高精度の基準面が容易に得ら
れる。
尚、9は各レンズ3a,3b,3cの上面を押
圧して固定する押圧部材としての固定板であり、
ビス10により基体7に固着されている。第1図
から明らかな通りビス10は結像レンズ間の位置
で基台に固定され、更にはレーザービームの走査
範囲外に設けられている。各レンズの厚み、つま
り前記平面3a′,3b′,3c′からの各レンズの高
さを同一とし、また各レンズの上面3a″,3b″,
3c″(3a″は図示せず)を平面に切削しておけば、
上記固定板9は単純な形状のものですみ、また単
一の部材ですむ。
圧して固定する押圧部材としての固定板であり、
ビス10により基体7に固着されている。第1図
から明らかな通りビス10は結像レンズ間の位置
で基台に固定され、更にはレーザービームの走査
範囲外に設けられている。各レンズの厚み、つま
り前記平面3a′,3b′,3c′からの各レンズの高
さを同一とし、また各レンズの上面3a″,3b″,
3c″(3a″は図示せず)を平面に切削しておけば、
上記固定板9は単純な形状のものですみ、また単
一の部材ですむ。
また本実施例においては、箱8内に、光学走査
装置の各構成部材が一体的に収容されているが、
該結像レンズ系のみを独立させた構成において
も、同様の効果が得られることは勿論である。ま
た本考案はレーザービームプリンタ以外の光学走
査装置にも適用できる。
装置の各構成部材が一体的に収容されているが、
該結像レンズ系のみを独立させた構成において
も、同様の効果が得られることは勿論である。ま
た本考案はレーザービームプリンタ以外の光学走
査装置にも適用できる。
いずれにせよ本考案によれば結像レンズ群の各
各の高さ方向の相対位置を高精度に形成すること
ができ、また同時に偏平レンズに歪み等を発生さ
せることなく、複数のレンズを一度に固定できる
という効果が得られる。
各の高さ方向の相対位置を高精度に形成すること
ができ、また同時に偏平レンズに歪み等を発生さ
せることなく、複数のレンズを一度に固定できる
という効果が得られる。
第1図、第2図とも本考案の実施例の説明図に
して、1は感光ドラム、2は光源装置、3a,3
b,3cはレンズ、4は多面鏡、7は支持基体、
3b′,3c′はレンズの下平面、7b,7Cは支持
平面である。
して、1は感光ドラム、2は光源装置、3a,3
b,3cはレンズ、4は多面鏡、7は支持基体、
3b′,3c′はレンズの下平面、7b,7Cは支持
平面である。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 レーザービームを出射するレーザー出射手段
と、レーザー出射手段から出射されたレーザービ
ームで被走査面を走査するためにレーザービーム
を偏向する偏向手段と、この偏向手段により偏向
されたレーザービームを被走査面に結像させるた
めの光軸を一致して設けられた少なくとも2つの
結像レンズと、この結像レンズ群を支持する基体
と、を有する光学走査装置において、 上記結像レンズ群は夫々、偏向手段による偏向
方向に長い扁平形状で、且つ、レンズ光軸から同
一距離に平面部を有すると共に、結像レンズ群
夫々の平面部を上方より基体側に押圧する単一の
押圧部材を有することを特徴とする光学走査装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9891383U JPS608916U (ja) | 1983-06-27 | 1983-06-27 | 光学走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9891383U JPS608916U (ja) | 1983-06-27 | 1983-06-27 | 光学走査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS608916U JPS608916U (ja) | 1985-01-22 |
JPH0345209Y2 true JPH0345209Y2 (ja) | 1991-09-25 |
Family
ID=30234632
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9891383U Granted JPS608916U (ja) | 1983-06-27 | 1983-06-27 | 光学走査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS608916U (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS634172Y2 (ja) * | 1985-04-15 | 1988-02-02 | ||
EP0236080B1 (en) * | 1986-02-28 | 1991-01-16 | Mita Industrial Co. Ltd. | Laser beam printer |
JP4642205B2 (ja) * | 1999-09-30 | 2011-03-02 | キヤノン株式会社 | 走査光学装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57105640A (en) * | 1980-12-23 | 1982-07-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Controlling device of direction of flow |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53118644U (ja) * | 1977-02-28 | 1978-09-20 |
-
1983
- 1983-06-27 JP JP9891383U patent/JPS608916U/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57105640A (en) * | 1980-12-23 | 1982-07-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Controlling device of direction of flow |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS608916U (ja) | 1985-01-22 |
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