JPS60263917A - 非点収差補正光学装置 - Google Patents

非点収差補正光学装置

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JPS60263917A
JPS60263917A JP12112884A JP12112884A JPS60263917A JP S60263917 A JPS60263917 A JP S60263917A JP 12112884 A JP12112884 A JP 12112884A JP 12112884 A JP12112884 A JP 12112884A JP S60263917 A JPS60263917 A JP S60263917A
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JP
Japan
Prior art keywords
lens
astigmatism
cylindrical
laser beam
optical device
Prior art date
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Pending
Application number
JP12112884A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Kamata
洋 鎌田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Iwatsu Electric Co Ltd
Iwasaki Tsushinki KK
Original Assignee
Iwatsu Electric Co Ltd
Iwasaki Tsushinki KK
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Publication date
Application filed by Iwatsu Electric Co Ltd, Iwasaki Tsushinki KK filed Critical Iwatsu Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はレーザビームを集光させるための非点収差補正
光学装置に関するものである。とくに半導体レーザの出
射するレーザビームを小さなスポットに集光する光学装
置に関する。このような装置はたとえば、レーザプリン
タやシート状材料等の検査をする表面検査システムに用
いられる。
(従来の技術) 半導体レーザは安価であるため、これをレーザプリンタ
や表面検査システム等のレーザ走査装置に組み込んで使
用される。
ところが半導体レーザは一般につぎに説明する非点隔差
を有するため、その出射ビームを小さなスポットに集光
することは必ずしも容易ではなく高価であった。その理
由について以下図面を用いて説明する。
第6図は半導体レーザの出射するレーザビームの状態を
説明する図である。11は半導体レーザ、12は半導体
レーザ11の接合面であって、第6図(a)および(b
)はそれぞれ半導体レーザ11の平面図および側面図を
あられし、レーザビーム21および22はそれぞれ接合
面12と同一方向(以後り方向という)および垂直な方
向(以後H方向という)におけるビームをあられす。こ
\で点23および24はそれぞれL方向およびH方向の
レーザビーム21および22の仮想的な出射位置をあら
れす。点23は半導体レーザ11の深部にあり、点24
は端部のあたりにある。
この点23と24の間隔を非点隔差Asとい\、通常は
0〜5μmの大きさで半導体レーザの個々にばらついた
値となっている。
このような性質を有するレーザビームを平行光とするた
めに、第7図に示すように、コリメートレンズ13を通
し集光レンズ14で集光したときL方向およびH方向の
レーザビーム21および22はそれぞれの収束点25お
よび26に差異Δを生ずる。この差異Δを非点収差とい
う。このためにレーザビームを小さく絞れないという問
題があった。
たとえば、コリメートレンズ13および集光レンズ14
の焦点距離をそれぞれfc、fとするとΔ#(f/f、
)2As ’ (1) となる。一方弁点収差を無視した場合の焦点深度d(ス
ポット径が最小となる位置からスポット径が最小の値よ
シ5チ大きくなる前後の位置間の距離をいう。)は、 2 d # −−XλF2×0,5 伐) となる。こ\でλはレーザ光の波長であり、Fは集光レ
ンズ14のFナンバーである。具体例として、Al1−
5μm、、f/fc=50、 F−50、λ=0.83
nmのとき、 d = 1.4mm (3) Δ= 12.5mm (4) となり、非点収差Δが焦点深度dより大となって、スポ
ット径を小さく絞れないことになる。
これを°改善するだめに、従来は第8図に示すようにコ
リメートレンズ13と集光レンズ14との間にシリンド
リカルレンズ15を使用していた(たとえば、テレビジ
ョン学会技術報告VOL。6. NO,18゜1982
年、15頁)。この場合のシリンドリカルレンズの焦点
距離fSLは、非点収差が補正可能であるためには、 fsL# fc”/As (5) でなければならない。具体例としてfc = 5mmA
l1=5μmのとき、 fsL# 5rn (6) と々る。
(発明が解決しようとする問題点) このような長焦点のシリンドリカルレンズを製作するこ
とが困難であることがこの方法の第1の欠点であった。
第2の欠点は、(1)式かられかるように非点隔差A、
のばらつきが原因して非点収差Δのばらつきを生じ、こ
の非点収差Δを補正するためにシリンドリカルレンズの
焦点距離fSL も各種製作する必要があり、実用上は
極めて困難な問題であった。
(問題点を解決するだめの手段) 本発明はシリンドリカルレンズを従来のごとくコリメー
トレンズ13と集光レンズ14との間に配設せずに、結
像面の近くに配設することによって前述の問題を解決し
た。
(作 用) シリンドリカルレンズは結像面の近傍に配設されるため
、短焦点のものでよく、壕だレーザビームがかなり細く
絞られてきているので、シリンドリカルレンズの中心部
付近のみを通過するため、暗いもの、すなわちFナンバ
の大きなレンズで十分な作用をなすものである。
以下実施例により説明する 〔実施例〕 その1゜ 第1図に示すように、シリンドリカルレンズ17をH方
向に曲率をもつように集光レンズ14と結像面16の間
に配設すると、収差補正が可能な条件は、近軸解析によ
り、 となり、(7)式からZをめると を得る。こ\でZ(l−iシリンドリカノビレンズ17
と結像面16との距離Cあシ、非点収差Δは(1)式か
ら得られる。
この(8)式は第2図に示すようになる。fsLが10
0100Oと300mmの場合について示しである。こ
の第2図かられかることは、(6)式の場合に較べ短焦
点距離のシリンドリカルレンズにより収差の補正が可能
であることである。以上のことは、シリンドリカルレン
ズにかえて、シリンドリカルミラーを用いてもよいこと
は明らかであろう。
さらに第2図から明らかなことは、シリンドリカルレン
ズまたはシリンドリカルミラーと結像面との距離Zを調
整することにょシ非点隔差ASのばらつきに容易に対処
できることである。
その2゜ 第3図は凹面のシリンドリカルレンズ17を用いた場合
の実施例で、シリンドリカルレンズの曲面はL方向に対
して曲率をもたせればよい。
たとえば、As==5μrn、 fc−5mm、 f−
300mmのとき、Z=74mm、 fsL=1000
mmで結像面16上でのレーザビームのスポット径は6
0μmが得られる。
その3゜ 第4図はL方向に対して曲率をもった凸面のシリンドリ
カルミラー17を用いた場合を示す。本実施例では像面
16が光学部属類の光軸と命ならないように配設するこ
とが可能で、シリンドリカルミラー17の光軸を傾ける
ことによって、結像面16の位置ないしは方向を選択で
きる。
その4゜ 第5図は本発明をレーザビームスキャナに応用した例で
、集光レンズ14は通常f6レンズが使用され、ビーム
を偏向するために、図示されていないモータにより高速
回転する回転多面鏡18が使用される。第5図ではH方
向が走査方向と一致しており、この場合は凹面のシリン
ドリカルレンズで走査方向と垂直な方向に曲率を有して
おればよい。
まだシリンドリカルレンズに替えてシリンドリカルミラ
ーを用いることもできる。実用上はシリンドリカルミラ
ーの方がシリンドリカルレンズよりも製作し易い。走査
方向がL方向に一致している場合は、凹面ではなく凸面
のシリンドリカルレンズまたは凹面のシリンドリカルミ
ラーを用いればよい。
具体例として、A11=5 μm、 fc=5’mm、
 f=300rnm。
集光レンズ14と像面16までの距離が350mmのと
き、成形品の凸面のシリンドリカルミラー (fsL= 100100O)を像面から74rnmの
場所に配設することにより、結像面上でのレーザビーム
の走査幅が300mmの間でスポット径60.〜65μ
mを得ることができた。
(発明の効果) 以上の実施例から明らかなように、本発明において使用
するシリンダ状の光学手段すなわちシリンドリカルレン
ズまたはシリンドリカルミラーは、コリメートレンズや
集光レンズ等を含む集光手段よりも結像面の近くに配設
されるため、レンズの明るさをあられ、すFナンバーの
値が大きい、すなわち暗いレンズでよく、このため曲面
の精度は従来例にくらべて大幅に悪るいものでも使用可
能であり、そのためプラスチック等の成形品を用いるこ
ともできる。捷だ、半導体レーザの非点隔差のばらつき
に対しても容易に調整が可能である。したがって本発明
を、レーザプリンタや表面検査システムのレーザスキャ
ナに応用するならば、スポット径を小さくし、高品質で
ありながら低価格を実現できるという極めて大きな効果
が期待できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の詳細な説明するだめの第1の実施例を
示す図、第2図は第1の実施例を説明するための図、第
3図は本発明の第2の実施例を示す図、第4図は本発明
の第3の実施例を示す図、第5図は本発明の第4の実施
例を説明するだめの図、第6図は半導体レーザビームを
説明するだめの図、第7図は非点収差を説明するための
図、第8図は従来例を示す図である。 11・・・半導体レーザ、12・・・接合面、13・・
・コリメートレンズ、14II・・集光レンズ、1−5
.17・・・シリンドリカルレンズ、16・Φ・結像面
、21.22・・・レーザビーム、代理人 内田公三 第1図 11・・・半導体レーザ、12・・・接合面、13・・
・コリメートレンズ1.4・・・集光レンズ、17・・
・シリンドリカルレンズ、16・・・結像面第3図 2 第2図 第6図 第4図 第5図

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) レーザビームを出射する半導体レーザと、前記
    レーザビームを集光するだめの集光手段と、前記集光手
    段により前記レーザビームが結像される結像面と前記集
    光手段との間に配設される71ノンダ状の光学手段とを
    含むことを特徴とする非点収差補正光学装置。
  2. (2) 前記集光手段が、コリン、−トレンズおよび集
    光レンズを含む特許請求の範囲第1項記載の非点収差補
    正光学装置。
  3. (3)前記集光手段が、コリメートレンズと、回転多面
    鏡と、集光レンズとを含む特許請求の範囲第1項記載の
    非点収差補正光学装置。
  4. (4)前記シリンダ状の光学手段が、シリンタ゛レンズ
    からなる特許請求の範囲第1項記載の非点収差補正光学
    装置。、
  5. (5) 前記シリンダ状の光学手段が、シリンタ゛ミラ
    ーからなる特許請求の範囲第1項記載の非点収差補正光
    学装置。
  6. (6)前記集光レンズがfθレンズからなる特許請求の
    範囲第2項または第3項記載の非点収差補正光学装置。
JP12112884A 1984-06-12 1984-06-12 非点収差補正光学装置 Pending JPS60263917A (ja)

Priority Applications (1)

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JP12112884A JPS60263917A (ja) 1984-06-12 1984-06-12 非点収差補正光学装置

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JP12112884A JPS60263917A (ja) 1984-06-12 1984-06-12 非点収差補正光学装置

Publications (1)

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JPS60263917A true JPS60263917A (ja) 1985-12-27

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ID=14803570

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12112884A Pending JPS60263917A (ja) 1984-06-12 1984-06-12 非点収差補正光学装置

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JP (1) JPS60263917A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63216018A (ja) * 1987-03-05 1988-09-08 Sankyo Seiki Mfg Co Ltd 光走査装置
JP2017142450A (ja) * 2016-02-12 2017-08-17 古河電気工業株式会社 光結合装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS63216018A (ja) * 1987-03-05 1988-09-08 Sankyo Seiki Mfg Co Ltd 光走査装置
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