JPH0344238B2 - - Google Patents

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JPH0344238B2
JPH0344238B2 JP59177898A JP17789884A JPH0344238B2 JP H0344238 B2 JPH0344238 B2 JP H0344238B2 JP 59177898 A JP59177898 A JP 59177898A JP 17789884 A JP17789884 A JP 17789884A JP H0344238 B2 JPH0344238 B2 JP H0344238B2
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JP
Japan
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vacuum
ejector unit
ejector
unit
pressure
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Shigekazu Nagai
Tetsuo Kukuminato
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SMC Corp
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SMC Corp
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04FPUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
    • F04F5/00Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow
    • F04F5/44Component parts, details, or accessories not provided for in, or of interest apart from, groups F04F5/02 - F04F5/42
    • F04F5/48Control
    • F04F5/52Control of evacuating pumps

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Jet Pumps And Other Pumps (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は真空発生装置に関し、一層詳細には圧
縮空気等の液体の供給源に真空度の異なる少なく
とも二つのエゼクタユニツトを並列に流体回路を
介して接続すると共にその前後に接続される分配
調整弁により前記流体回路を切り換え、且つ前記
二つのエゼクタユニツトのいずれか一方に、所
謂、多段ノズルを形成するように少なくとももう
一つのエゼクタユニツトを接続するよう構成した
真空発生装置に関する。
蒸気、空気あるいは水をノズルより噴出させて
空気を吸引し真空を得る装置として従来からエゼ
クタが用いられている。この種のエゼクタは一般
的にノズル部とデイフユーザ部とに分けることが
出来、ノズル部の出口側の圧力降下および運動の
エネルギによつて負圧を発生させるよう構成して
いる。
ところで、真空発生装置として、従来では、エ
ゼクタにおけるノズル部の特性上から、高真空が
得られるもの、または、低真空時において大きな
流量特性を持つものなど種々のものが提案されて
いる。然しながら、近年、装置のコンパクト化あ
るいはユニツト化に伴い、前記の異なつた真空特
性を一つの真空発生装置で得るようにした装置が
提案された。この場合、第1図に示すような、ノ
ズル部10の口径が小さい高真空型の第1のエゼ
クタユニツト12とノズル部14の口径が大きい
低真空型の第2のエゼクタユニツト16とを図外
の圧縮空気等の供給源にシリアルに流体回路を介
して接続し、低真空から高真空までの真空特性を
得るように構成している。
ところが、このような従来の真空発生装置にお
いては、前期の構造から高真空型の第1エゼクタ
ユニツト12を作動させた時には、必然的に、圧
縮空気等の流体の供給量を増大させなければなら
ず、結局、高真空時にはこの流体の消費量が増大
するという問題点があつた。また、前記の構造で
は高い真空度が実質的に単一のエゼクタユニツ
ト、すなわち、第1エゼクタユニツト12のノズ
ル特性で決定されることから、得られる高真空に
も自ずと限界があるという欠点もあつた。
ところで、従来では高真空を得る方法として、
第2図に示すように複数個のエゼクタユニツト1
8a乃至18cを加圧流体供給源19に対して多
段的に接続して、所謂、多段ノズルを形成する方
法があるが、この方法では高い真空度が得られる
半面低い真空度が得られないという不都合があ
る。
そこで、本発明者等は鋭意考究並びに工夫を重
ねた結果、圧縮空気等の流体の供給源に真空度の
異なる少なくとも二つのエゼクタユニツトを並列
に流体回路を介して接続し、これらのエゼクタユ
ニツトに流体を分配供給し、且つ前記二つのエゼ
クタユニツトのいずれか一方に少なくとももう一
つのエゼクタユニツトを多段的に接続するように
して前記二つのエゼクタユニツトを個別に作動さ
せると共にいずれか一方のエゼクタユニツト側
に、所謂、多段ノズルを形成するようにすれば、
一段と高い真空度が得られるにも拘らず前記流体
の消費量の少ない真空発生装置が得られ、前記の
不都合が一掃されることが判つた。
従つて、本発明の目的は低真空から高真空まで
の真空特性が得られ且つ圧縮空気等の加圧流体の
消費量が少なくて済む真空発生装置を提供するこ
とにある。
前記の目的を達成するために、本発明は加圧流
体供給源に真空発生特性の異なる少なくとも二つ
の第1、第2エゼクタユニツトを並列に流体回路
を介して接続し、 前記流体回路の各エゼクタユニツトへの分岐部
に真空取出管内の圧力が大なる場合に真空発生装
置の低いエゼクタユニツトに加圧流体を多く流し
その圧力が小なる場合には真空発生特性の高いエ
ゼクタユニツトに加圧流体を多く流すべく前記各
エゼクタユニツトへの加圧流体の分配量を自動的
に調整する分配調整弁を配設し、 且つ前記加圧流体供給源に第3のエゼクタユニ
ツトを流体回路を介して接続し、前記第3エゼク
タユニツトの排出流体を前記二つのエゼクタユニ
ツトのいずれか一方に吸引させることを特徴とす
る。
次に、本発明に係る真空発生装置について好適
な実施例を挙げ、添付の図面を参照しながら以下
詳細に説明する。
第3図において、参照符号20はコンプレツサ
等の圧縮空気供給源を示し、この圧縮空気供給源
20に対して第1のエゼクタユニツト22および
第2のセゼクタユニツト24が並列に流体回路、
すなわち、管路58を介して接続する。前記第1
エゼクタユニツト22はその本体部分に画成され
る室26とこの室26に臨設されるノズル部28
およびデイフユーザ部30と前記室26に開口さ
れる真空ボート32とを含む。この第1のエゼク
タユニツト22はそのノズル部28の口径が小さ
く形成されて、所謂、高真空型のエゼクタユニツ
トを構成する。
一方、前記第2エゼクタユニツト24はその本
体部分に画制される室34とこの室34に臨設さ
れるノズル部36およびデイフユーザ部38と前
記室34に開口される真空ポート40とを含む。
この第2エゼクタユニツト24は前記ノズル部3
6の口径が大きく形成されて、所謂、低真空型の
エゼクタユニツトを構成する。
さらに、前記圧縮空気供給源20には後述する
分配調整弁60の上流側に位置して第3のエゼク
タユニツト42が管路接続される。この第3エゼ
クタユニツト42はその本体部分に画成される室
44とこの室44に臨設されるノズル部46およ
びデイフユーザ部48と前記室44と開口される
真空ポート50とを含む。また、この第3エゼク
タユニツト42は前記ノズル部46の口径が小さ
く形成されて、所謂、高真空型のエゼクタユニツ
トを構成すると共にそのデイフユーザ部48の後
端部が前記第1エゼクタユニツト22の真空ポー
ト32に管路52を介して連通接続される。従つ
て、第3エゼクタユニツト42の排出空気は第1
エゼクタユニツト22に吸引されることになり、
これによつて、所謂、二段ノズルが形成される。
さらにまた、前記第3エゼクタユニツト42の真
空ポート50と前記第2エゼクタユニツト24の
真空ポート40とは両側逆止弁付管継手54を介
して真空取出管56に合流接続される。
一方、前記圧縮空気供給源20と前記第1のエ
ゼクタユニツト22および第2エゼクタユニツト
24とを結ぶ管路58の途中には当該管路58の
分岐管58aおよび58bの集合部に位置して前
記第1エゼクタユニツト22、第2エゼクタユニ
ツト24への圧縮空気の分配量を調整する分配調
整弁60が配設される。この分配調整弁60は前
記真空取出管56内の真空圧に直接応動して管路
58aと管路58bとを切り換えるスプール型の
負圧切換弁で構成される。すなわち、前記分配調
整弁60はその本体部分に画成されたシリング6
2内を第3図の矢印A、B方向に摺動して前記管
路58aと管路58bの開閉を切り換える弁体6
4と、この弁体64と一体的に動作するピストン
66によつて隔成される圧力室68と、この圧力
室68に収装されて前記弁体64を、常時、図中
の矢印A方向に付勢する弁スプリング70とを含
む。そして、前記圧力室68は圧力信号通路72
を介して前記真空取出管56に連通接続される。
本発明に係る真空発生装置は基本的には以上の
ように構成され、次にその作用および効果につい
て説明する。
先ず、圧縮空気供給源20より管路58を介し
て第1エゼクタユニツト22および第2エゼクタ
ユニツト24に向けて圧縮空気を供給するが、こ
の時、前記真空取出管56内の真空圧はまだ小さ
い。従つて、前記真空圧に応動する分配調整弁6
0はその弁体64が弁スプリング70の弾発力に
より図中の矢印A方向に移動し、第1エゼクタユ
ニツト22に接続する管路58aを遮断する。こ
れにより、分配調整弁60からの圧縮空気は開状
態にある管路58bを介して第2エゼクタユニツ
ト24のみに供給される。この第2エゼクタユニ
ツト24においては、前記圧縮空気がノズル部3
6によつて絞られ、次いでデイフユーザ部38に
向けて噴流として放出される。この時のノズル部
36の出口側の圧力降下および運動のエネルギに
よつて室34内には負圧が発生し、この負圧によ
つて真空ポート40および真空取出管56からの
空気も吸引されて、結局、真空取出管56側では
負圧が発生する。一方、これと同時に、圧縮空気
は前記分配調整弁60を経由しないで第3エゼク
タユニツトにも供給され、第2エゼクタユニツト
24と同様の原理で真空ポート50および真空取
出管56に負圧を発生させる。この結果、真空取
出管56で得られる負圧は第2エゼクタユニツト
24と第3エゼクタユニツト42とで発生させた
合成負圧となり、所期の目的とする負圧が得られ
る。すなわち、前記第2エゼクタユニツト24
は、そのノズル部36の口径が大きい低真空型で
形成されているために大きな流量特性を有した相
対的に低い真空が得られる。また、この際、第3
エゼクタユニツト42の排出空気は管路52を通
つて第1エゼクタユニツト22に供給されるが、
この第1エゼクタユニツト22にはまだ圧縮空気
が供給されていないので、第1エゼクタユニツト
22と第3エゼクタユニツト42との間で二段ノ
ズルとしての作用は行われない。
以上にように、前記真空取出管56内の真空度
が徐々に増大すると、圧力信号通路72を介して
前記分配調整弁60の圧力室68内の負圧力も増
大し、該圧力室68内の真空圧が所定値を越える
と、弁体64が弁スプリング70の弾発力に抗し
て第3図の矢印B方向へと移動し、管路58aを
開き始める。真空取出管56内の真空圧、換言す
れば、分配調整弁60の圧力室68内の負圧がさ
らに増大すると、前記分配調整弁60の弁体64
はその負圧力に応じて矢印B方向へと移動し、管
路58aの開度も増すに至る。このため、第1エ
ゼクタユニツト22の真空ポート32は負圧を生
起し、第3エゼクタユニツト42の排出側をさら
に吸引し、その真空ポート50は真空度を増大す
る。このように、真空取出管56内の負圧が増
し、最終的に第2エゼクタユニツト24に接続す
る管路58bは弁体64により全閉される一方、
第1エゼクタユニツト22に連結する管路58a
が全開される。この時、圧力室68では弁スプリ
ング70の弾発力に抗して第1エゼクタユニツト
22並びに第3エゼクタユニツト42の付勢作用
下に真空取出管56の負圧に対応して弁体64は
管路58aを開成しながらも矢印B方向に下降し
た位置にある。従つて、たとえ、第2エゼクタユ
ニツト24が付勢されない状態になつたとして
も、第1エゼクタユニツト22と第3エゼクタユ
ニツト42とが負圧を発生させていれば、真空取
出管56に通過する圧力信号通路72を介して圧
力室68は負圧状態を維持し、従つて、弁体64
は下降した位置を維持する。すなわち、分配調整
弁60からの圧縮空気は第1エゼクタユニツト2
2のみに供給され、第2エゼクタユニツト24と
同様の原理で真空ポートおよび管路52に負圧を
発生させる。これと同時に、分配調整弁60を経
由しない圧縮空気は第3エゼクタユニツト42に
供給され、前記第1エゼクタユニツト22と同じ
くその真空ポート50および真空取出管56に負
圧を発生させる。この時、第3エゼクタユニツト
42の排出空気が管路52を介して第1エゼクタ
ユニツト22で発生した負圧で強く吸引され、所
謂、二段ノズルの作用が喚起される。この結果、
第1エゼクタユニツト22と第3エゼクタユニツ
ト42とが、予め、ノズル部28,46の口径が
小さい高真空型に形成されていることと併せて負
圧取出管56では小さな流量特性を有した一段と
高い高真空が得られる。
このようにして、本実施例では低真空から一段
と高い高真空までの広い範囲の真空特性が得られ
る。また、従来技術に比較して分配調整弁60を
新設するだけで済むので装置のコンパクト化ある
いはユニツト化は従前通り十分達成可能となる。
なお、本実施例では前記分配調整弁60を真空
圧に直接応動して管路58aおよび58b切り換
える負圧切換弁で構成したが、出力側の真空圧を
検出する圧力センサからの信号に応動して管路5
8aおよび58bを切り換える電磁切換弁で構成
してもよいことは謂うまでもない。
以上説明したように、本発明では圧縮空気等の
加圧流体供給源に真空特性の異なる少なくとも二
つのエゼクタユニツトを並列に流体回路を介して
接続する一方、これらのエゼクタユニツトへ分配
調整弁を介して加圧流体を分配供給し且つ前記二
つのエゼクタユニツトのいずれか一方に少なくと
ももう一つのエゼクタユニツトを多段的に接続
し、前記二つのエゼクタユニツトを個別に作動さ
せると共にいずれか一方のエゼクタユニツトに多
段ノズルの機能を付与するようにしたので、圧縮
空気等の加圧流体の消費量を増大することなく低
真空から一段と高い高真空までの広範囲の真空特
性を単一の真空発生装置より得られるという効果
がある。
以上、本発明について好適な実施例を挙げて説
明したが、本発明は前記の実施例に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲にお
いて種々の改良並びに設計の変更が可能なことは
勿論である。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の真空発生装置の概略構成図、第
2図は従来の別の真空発生装置の概略構成図、第
3図は本発明に係る真空発生装置の一実施例を示
す概略構成図である。 20……圧縮空気供給源、22……第1エゼク
タユニツト、24……第2エゼクタユニツト、2
6……室、28……ノズル部、30……デイフユ
ーザ部、32……真空ポート、34……室、36
……ノズル部、38……デイフユーザ部、40…
…真空ポート、42……第3エゼクタユニツト、
44……室、46……ノズル部、48……デイフ
ユーザ部、50……真空ポート、52……管路、
54……両側逆止弁付管継手、56……真空取出
管、58……管路、60……分配調整弁、62…
…シリンダ、64……弁体、66……ピストン、
68……圧力室、70……弁スプリング、72…
…圧力信号通路。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 加圧流体供給源に真空発生特性の異なる少な
    くとも二つの第1、第2エゼクタユニツトを並列
    に流体回路を介して接続し、 前記流体回路の各エゼクタユニツトへの分岐部
    に真空取出管内の圧力が大なる場合に真空発生特
    性の低いエゼクタユニツトに加圧流体を多く流し
    その圧力が小なる場合には真空発生特性の高いエ
    ゼクタユニツトに加圧流体を多く流すべく前記各
    エゼクタユニツトへの加圧流体の分配量を自動的
    に調整する分配調整弁を配設し、 且つ前記加圧流体供給源に第3のエゼクタユニ
    ツトを流体回路を介して接続し、前記第3エゼク
    タユニツトの排出流体を前記二つのエゼクタユニ
    ツトのいずれか一方に吸引させることを特徴とす
    る真空発生装置。
JP17789884A 1984-08-27 1984-08-27 真空発生装置 Granted JPS6155400A (ja)

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JPS6155400A JPS6155400A (ja) 1986-03-19
JPH0344238B2 true JPH0344238B2 (ja) 1991-07-05

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