JPH034335B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH034335B2 JPH034335B2 JP57001231A JP123182A JPH034335B2 JP H034335 B2 JPH034335 B2 JP H034335B2 JP 57001231 A JP57001231 A JP 57001231A JP 123182 A JP123182 A JP 123182A JP H034335 B2 JPH034335 B2 JP H034335B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- machining
- pattern
- workpiece
- electrode
- control
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 71
- 238000013459 approach Methods 0.000 claims description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 3
- 238000009760 electrical discharge machining Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H7/00—Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
- B23H7/26—Apparatus for moving or positioning electrode relatively to workpiece; Mounting of electrode
- B23H7/28—Moving electrode in a plane normal to the feed direction, e.g. orbiting
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は加工電極と被加工体に相対的接近送り
を与えて加工する放電加工装置に関する。
を与えて加工する放電加工装置に関する。
例えば、電極の送り方向と垂直な平面内で被加
工体との間に相対的な揺動運動をさせて電極形状
と相似な形状穴の加工を放電加工により行なうこ
とが知られている。この相対的揺動運動を行なわ
せる場合、例えば所定半径の公転運動をさせる場
合、公転半径が大きい加工速度が公転運動速度に
追従できないからアーク、短絡が発生して安定加
工できない。したがつて公転半径を1μm程度の微
小値で徐々に増加させて目的の所定半径まで拡大
させるとか、加工間隙の信号、例えば電圧を検出
してサーボ制御しながら徐々に加工拡大していく
よう制御する方式がとられる。そして所定半径ま
で拡大したところで公転運動半径の増加を停止し
て仕上げる。しかしこの揺動加工中、電極と被加
工体との加工間隙には一定加工条件のパルスが加
えられ、荒加工条件で加工すれば加工速度は早い
が加工面粗さ、加工精度が悪く、仕上加工条件で
は加工速度が遅い欠点がある。
工体との間に相対的な揺動運動をさせて電極形状
と相似な形状穴の加工を放電加工により行なうこ
とが知られている。この相対的揺動運動を行なわ
せる場合、例えば所定半径の公転運動をさせる場
合、公転半径が大きい加工速度が公転運動速度に
追従できないからアーク、短絡が発生して安定加
工できない。したがつて公転半径を1μm程度の微
小値で徐々に増加させて目的の所定半径まで拡大
させるとか、加工間隙の信号、例えば電圧を検出
してサーボ制御しながら徐々に加工拡大していく
よう制御する方式がとられる。そして所定半径ま
で拡大したところで公転運動半径の増加を停止し
て仕上げる。しかしこの揺動加工中、電極と被加
工体との加工間隙には一定加工条件のパルスが加
えられ、荒加工条件で加工すれば加工速度は早い
が加工面粗さ、加工精度が悪く、仕上加工条件で
は加工速度が遅い欠点がある。
本発明はこのような点に鑑みて提案されるもの
で、電極と被加工体間に加工パルスを供給する加
工用電源と、前記電極と被加工体間に設定したパ
ターンにしたがつて相対的接近動作を徐々に前記
パターンを拡大しながら与えるNC制御装置と、
該NC制御装置に前記パターンの最終的拡大値を
設定する装置と、前記電極と被加工体間の間隙の
広がりを検出判別する装置と、前記加工用電源の
荒加工条件から仕上加工条件に少なくとも２段階
に切換える切換装置とから成り、前記間隙の広が
り検出判別装置の信号にしたがつて前記NC制御
装置の制御により行なう加工が前記パターンの最
終的拡大値まで進まられたとき、前記切換装置に
より前記加工用電源を最終仕上加工条件に切換え
ると共に、前記NC制御装置により前記パターン
の拡大制御を停止した状態で相対的接近動作を与
えながら仕上加工するようにしたことを特徴とす
るものである。
で、電極と被加工体間に加工パルスを供給する加
工用電源と、前記電極と被加工体間に設定したパ
ターンにしたがつて相対的接近動作を徐々に前記
パターンを拡大しながら与えるNC制御装置と、
該NC制御装置に前記パターンの最終的拡大値を
設定する装置と、前記電極と被加工体間の間隙の
広がりを検出判別する装置と、前記加工用電源の
荒加工条件から仕上加工条件に少なくとも２段階
に切換える切換装置とから成り、前記間隙の広が
り検出判別装置の信号にしたがつて前記NC制御
装置の制御により行なう加工が前記パターンの最
終的拡大値まで進まられたとき、前記切換装置に
より前記加工用電源を最終仕上加工条件に切換え
ると共に、前記NC制御装置により前記パターン
の拡大制御を停止した状態で相対的接近動作を与
えながら仕上加工するようにしたことを特徴とす
るものである。
以下図面の一実施例によつて本発明を説明す
る。１は加工形状をした電極、２は被加工体で、
予じめ穴が形成され、そこに図示するよう電極１
を挿入し、所定半径の相対的公転運動を行なわせ
ている。３は被加工体２を固定する加工テーブ
ル、４，５はＸ軸及びＹ軸駆動装置で、複数の基
本パターンをメモリに記憶しているNC制御装置
６によつて制御する。７は出力パルスをNC制御
装置に供給するパルス発生回路、８は相対的公転
運動の最終半径を設定するプリセツト装置、９は
加工間隙の電圧信号を判別して判別信号を供給す
る判別回路、１０は加工パルスを発生するオン、
オフスイツチ素子、１１が直流電源、１２は高周
波のパルス発生回路、１３は低周波のパルス発生
回路で、この両出力パルスをインドゲート１４で
結合したパルスをスイツチ素子１０に加えてオ
ン、オフ制御する。１５はNC制御装置６から出
力する公転半径の変化に対応した信号を検出して
前記パルス発生回路１３の出力パルス巾、休止
巾、またはその両方の切換制御回路である。
る。１は加工形状をした電極、２は被加工体で、
予じめ穴が形成され、そこに図示するよう電極１
を挿入し、所定半径の相対的公転運動を行なわせ
ている。３は被加工体２を固定する加工テーブ
ル、４，５はＸ軸及びＹ軸駆動装置で、複数の基
本パターンをメモリに記憶しているNC制御装置
６によつて制御する。７は出力パルスをNC制御
装置に供給するパルス発生回路、８は相対的公転
運動の最終半径を設定するプリセツト装置、９は
加工間隙の電圧信号を判別して判別信号を供給す
る判別回路、１０は加工パルスを発生するオン、
オフスイツチ素子、１１が直流電源、１２は高周
波のパルス発生回路、１３は低周波のパルス発生
回路で、この両出力パルスをインドゲート１４で
結合したパルスをスイツチ素子１０に加えてオ
ン、オフ制御する。１５はNC制御装置６から出
力する公転半径の変化に対応した信号を検出して
前記パルス発生回路１３の出力パルス巾、休止
巾、またはその両方の切換制御回路である。
以上により電極１、被加工体２の間隙に加えら
れる加工パルスは発生回路１２の発生する高周波
パルス列とパルス発生回路１３の発生する低周波
パルスとがアンドゲート１４でアンド結合するか
ら、低周波パルスのパルス巾に相当する時間高周
波パルス列が続き、低周波パルスの休止巾に相当
する時間高周波パルス列が中断する制御パルスが
スイツチ１０に加わり直流電源１１をオン、オフ
して制御パルスに相当する繰返数の加工パルスを
加工間隙に加えて放電加工が行なわれる。電極１
と被加工体２間にはNC制御により相対的公転運
動が行なわれる。公転運動は第２図に示すように
電極１の点ｐが回転中心ｏ、半径ｒをもつて回転
するように公転運動を与えｐ点が被加工体２に接
近動作を繰返すことにより電極全周が対応する被
加工体２の各部に接近動作し放電加工が行なわれ
ることによつて電極１形状に相似する拡大形状の
加工穴が被加工体２に形成される。なお、公転半
径ｒは最終設定値になるまで徐々に拡大する。最
終設定値は装置８によりプリセツトしNC装置６
内のメモリーに保存されていて、回路９からの加
工間隙の広がりを検出判別した信号に従つて徐々
に最終設定値まで拡大することになる。運動パタ
ーンは相対的接近運動の軌道の複数の基本パター
ンをNC制御装置６のメモリに記憶してあり、そ
れを図示しないスイツチで選択し選択パターンを
指定入力することによつて指定パターンの接近運
動を行なわせることができ、第２図の公転運動を
指定することにより基本パターンの一種としての
相対的公転運動が行なえるわけである。指定され
た公転運動のパターンとプリセツト装置８によつ
て設定された最終拡大値である公転半径ｒとが
NC制御装置６内のCPU等により論理、演算の処
理が行なわれ、軌跡データがメモリされ、放電加
工のスタートにより発振回路７が作動しパルスを
NC制御装置６のプログラムカウンタ等に入力
し、分配信号をＸ，Ｙ軸制御回路に出力して駆動
装置４，５を制御しテーブル３を電極１の対向方
向に垂直Ｘ−Ｙ平面に移動制御し相対的公転運動
を与えることになる。公転運動による被加工体２
の加工進行によつて電極１と被加工体２間の間隙
が広がりこれに伴なつて電圧等の検出信号が増大
し判別回路９から判別出力が入力してこの信号に
したがつて公転半径が徐々に拡大し、設定値まで
拡大するとストツプする。公転半径の拡大制御が
停止した状態で公転運動による加工が続けられ最
終仕上間隙に至ると判別回路９の出力で公転運動
も停止し加工完了する。この公転運動による加工
中、公転半径の変更に伴なう信号がNC制御装置
６から順次出される。
れる加工パルスは発生回路１２の発生する高周波
パルス列とパルス発生回路１３の発生する低周波
パルスとがアンドゲート１４でアンド結合するか
ら、低周波パルスのパルス巾に相当する時間高周
波パルス列が続き、低周波パルスの休止巾に相当
する時間高周波パルス列が中断する制御パルスが
スイツチ１０に加わり直流電源１１をオン、オフ
して制御パルスに相当する繰返数の加工パルスを
加工間隙に加えて放電加工が行なわれる。電極１
と被加工体２間にはNC制御により相対的公転運
動が行なわれる。公転運動は第２図に示すように
電極１の点ｐが回転中心ｏ、半径ｒをもつて回転
するように公転運動を与えｐ点が被加工体２に接
近動作を繰返すことにより電極全周が対応する被
加工体２の各部に接近動作し放電加工が行なわれ
ることによつて電極１形状に相似する拡大形状の
加工穴が被加工体２に形成される。なお、公転半
径ｒは最終設定値になるまで徐々に拡大する。最
終設定値は装置８によりプリセツトしNC装置６
内のメモリーに保存されていて、回路９からの加
工間隙の広がりを検出判別した信号に従つて徐々
に最終設定値まで拡大することになる。運動パタ
ーンは相対的接近運動の軌道の複数の基本パター
ンをNC制御装置６のメモリに記憶してあり、そ
れを図示しないスイツチで選択し選択パターンを
指定入力することによつて指定パターンの接近運
動を行なわせることができ、第２図の公転運動を
指定することにより基本パターンの一種としての
相対的公転運動が行なえるわけである。指定され
た公転運動のパターンとプリセツト装置８によつ
て設定された最終拡大値である公転半径ｒとが
NC制御装置６内のCPU等により論理、演算の処
理が行なわれ、軌跡データがメモリされ、放電加
工のスタートにより発振回路７が作動しパルスを
NC制御装置６のプログラムカウンタ等に入力
し、分配信号をＸ，Ｙ軸制御回路に出力して駆動
装置４，５を制御しテーブル３を電極１の対向方
向に垂直Ｘ−Ｙ平面に移動制御し相対的公転運動
を与えることになる。公転運動による被加工体２
の加工進行によつて電極１と被加工体２間の間隙
が広がりこれに伴なつて電圧等の検出信号が増大
し判別回路９から判別出力が入力してこの信号に
したがつて公転半径が徐々に拡大し、設定値まで
拡大するとストツプする。公転半径の拡大制御が
停止した状態で公転運動による加工が続けられ最
終仕上間隙に至ると判別回路９の出力で公転運動
も停止し加工完了する。この公転運動による加工
中、公転半径の変更に伴なう信号がNC制御装置
６から順次出される。
しかし図においては装置８でプリセツトした公
転半径になつたときだけ信号出力し制御回路１５
に加える。制御回路１５はそのときパルス発生回
路１３の切換えを行ないパルス巾、休止巾の切換
制御をする。加工に開始時にはパルス発生回路１
３はパルス巾を大きくし、または休止巾を小さく
設定し、パルス発生回路１２の発生するパルス列
の継続時間を長く、または中断時間を短かくした
荒加工条件に設定してあり、この荒加工条件での
放電加工が続けられるが、最終的に公転半径が設
定値に達したときはパルス列の継続時間が短か
く、または中断時間を長くなるようプリセツトし
た仕上加工条件に切換えを行ないこの仕上加工条
件で加工を行なつて終了させる。したがつて始め
には荒加工条件で高速度の加工をし最終的には仕
上加工条件で表面粗さを良好に精度良く仕上げて
加工完了させることができ、加工能率を極めて向
上させることができる。勿論加工条件は２段階の
切換えに限らず、３段階以上の加工条件をパルス
発生回路１３、制御回路１５にプリセツトしてお
き、NC制御装置６から順次出される信号によつ
て制御回路１５が作動してパルス発生回路１３の
加工条件の切換をするようにすることができる。
又加工条件の変更はパルス発生回路１２の出力す
るパルスの切換え変更とか、電源１１の電圧とか
スイツチ素子１０の並列数或いは回路抗の変更制
御によつて放電パルスは波高値を制御し波高値の
大きい荒加工条件から波高値の小さい仕上げ加工
条件への切換えを行なうようにすることができ
る。なお以上は一実施例によつて説明したが、パ
ルス発生回路７を加工間隙の状態、即ち電圧信号
等によつて発振状態を制御すれば、公転運動が加
工間隙の状態により制御され、間隙が狭まつたと
きは速度が低下し、広がつたときは速度が速くな
り、或いはこの逆にも制御できるが、公転運動を
加工間隙の状態によつてサーボにより行なわせる
ことができ、安定した加工ができる。また公転運
動半径の拡大を加工条件に対して予じめ実験した
量及び回転数をもつてマニアル設定にしたがつて
広げながら加工するようにしてもよい。
転半径になつたときだけ信号出力し制御回路１５
に加える。制御回路１５はそのときパルス発生回
路１３の切換えを行ないパルス巾、休止巾の切換
制御をする。加工に開始時にはパルス発生回路１
３はパルス巾を大きくし、または休止巾を小さく
設定し、パルス発生回路１２の発生するパルス列
の継続時間を長く、または中断時間を短かくした
荒加工条件に設定してあり、この荒加工条件での
放電加工が続けられるが、最終的に公転半径が設
定値に達したときはパルス列の継続時間が短か
く、または中断時間を長くなるようプリセツトし
た仕上加工条件に切換えを行ないこの仕上加工条
件で加工を行なつて終了させる。したがつて始め
には荒加工条件で高速度の加工をし最終的には仕
上加工条件で表面粗さを良好に精度良く仕上げて
加工完了させることができ、加工能率を極めて向
上させることができる。勿論加工条件は２段階の
切換えに限らず、３段階以上の加工条件をパルス
発生回路１３、制御回路１５にプリセツトしてお
き、NC制御装置６から順次出される信号によつ
て制御回路１５が作動してパルス発生回路１３の
加工条件の切換をするようにすることができる。
又加工条件の変更はパルス発生回路１２の出力す
るパルスの切換え変更とか、電源１１の電圧とか
スイツチ素子１０の並列数或いは回路抗の変更制
御によつて放電パルスは波高値を制御し波高値の
大きい荒加工条件から波高値の小さい仕上げ加工
条件への切換えを行なうようにすることができ
る。なお以上は一実施例によつて説明したが、パ
ルス発生回路７を加工間隙の状態、即ち電圧信号
等によつて発振状態を制御すれば、公転運動が加
工間隙の状態により制御され、間隙が狭まつたと
きは速度が低下し、広がつたときは速度が速くな
り、或いはこの逆にも制御できるが、公転運動を
加工間隙の状態によつてサーボにより行なわせる
ことができ、安定した加工ができる。また公転運
動半径の拡大を加工条件に対して予じめ実験した
量及び回転数をもつてマニアル設定にしたがつて
広げながら加工するようにしてもよい。
NC制御装置による揺動パターンは公転運動に
限らず、Ｘ軸、Ｙ軸方向に寄せる場合、Ｘ−Ｙ平
面を任意の放射形状に移動させる場合、Ｘ−Ｙ平
面を少なくとも４象限に分け、各象限別に各パタ
ーンを組合せて移動させる場合等が考えられる。
又Ｘ、Ｙ、Ｚの３軸のパターンを制御することも
できる。加工間隙に加工パルスを加える電源は他
の公知のパルス又電源を利用することができる。
限らず、Ｘ軸、Ｙ軸方向に寄せる場合、Ｘ−Ｙ平
面を任意の放射形状に移動させる場合、Ｘ−Ｙ平
面を少なくとも４象限に分け、各象限別に各パタ
ーンを組合せて移動させる場合等が考えられる。
又Ｘ、Ｙ、Ｚの３軸のパターンを制御することも
できる。加工間隙に加工パルスを加える電源は他
の公知のパルス又電源を利用することができる。
電極は断面が総型形状をしたもの、先端が総型
形状のも、或いは単純形の棒状、線状、パイプ状
のものを用いることができ、抜型、底付、ワイヤ
ーカツト等の加工態様の加工が任意にでき、いず
れも高能率に高精度に加工することができる。
形状のも、或いは単純形の棒状、線状、パイプ状
のものを用いることができ、抜型、底付、ワイヤ
ーカツト等の加工態様の加工が任意にでき、いず
れも高能率に高精度に加工することができる。
以上のように、本発明は最終仕上加工すると
き、設定パターンの拡大制御をすることなく、拡
大制御を停止した状態で相対的接近運動を与えて
加工するものであるから、前の荒加工工程で設定
された最終的拡大値まで加工が進められた後の加
工表面の仕上加工が簡単に短時間にでき、又最終
仕上加工は設定パターンの拡大制御を停止した状
態で加工するから加工拡大して最終仕上精度が低
下するようなことがなく、所定パターンの精密、
高精度の放電加工をすることができる。
き、設定パターンの拡大制御をすることなく、拡
大制御を停止した状態で相対的接近運動を与えて
加工するものであるから、前の荒加工工程で設定
された最終的拡大値まで加工が進められた後の加
工表面の仕上加工が簡単に短時間にでき、又最終
仕上加工は設定パターンの拡大制御を停止した状
態で加工するから加工拡大して最終仕上精度が低
下するようなことがなく、所定パターンの精密、
高精度の放電加工をすることができる。
第１図は本発明装置の一実施例回路構成図、第
２図は相対的接近動作を説明する断面図である。 １…電極、２…被加工体、４，５…駆動装置、
６…NC制御装置、８…接近距離設定装置、１
０，１１，１２，１３，１４…加工用電源、１５
…加工条件切換装置。
２図は相対的接近動作を説明する断面図である。 １…電極、２…被加工体、４，５…駆動装置、
６…NC制御装置、８…接近距離設定装置、１
０，１１，１２，１３，１４…加工用電源、１５
…加工条件切換装置。
Claims (1)
- １ 電極と被加工体間に加工パルスを供給する加
工用電源と、前記電極と被加工体間に設定したパ
ターンにしたがつて相対的接近動作を徐々に前記
パターンを拡大しながら与えるNC制御装置と、
該NC制御装置に前記パターンの最終的拡大値を
設定する装置と、前記電極と被加工体間の相対的
接近状態を検出判別する装置と、前記加工用電源
の加工条件を荒加工条件から仕上加工条件に少な
くとも２段階に切換える切換装置とから成り、前
記相対的接近状態検出判別装置の信号にしたがつ
て前記NC制御装置により制御され、加工が予め
設定された前記パターンの最終拡大値に達したと
き、前記NC装置による前記パターンの拡大制御
を停止すると共に前記切換装置により前記加工用
電源を最終仕上加工条件に切換えてなることを特
徴とする放電加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP123182A JPS58120427A (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | 放電加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP123182A JPS58120427A (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | 放電加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58120427A JPS58120427A (ja) | 1983-07-18 |
| JPH034335B2 true JPH034335B2 (ja) | 1991-01-22 |
Family
ID=11495694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP123182A Granted JPS58120427A (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | 放電加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58120427A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH078457B2 (ja) * | 1984-05-30 | 1995-02-01 | 三菱電機株式会社 | 放電加工方法 |
| JPH03251315A (ja) * | 1990-03-01 | 1991-11-08 | Shizuoka Seiki Co Ltd | 電解仕上げ加工における電極位置制御方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54157396A (en) * | 1978-06-01 | 1979-12-12 | Cegedur | Spark erosion working method |
-
1982
- 1982-01-06 JP JP123182A patent/JPS58120427A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54157396A (en) * | 1978-06-01 | 1979-12-12 | Cegedur | Spark erosion working method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58120427A (ja) | 1983-07-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2008246594A (ja) | 自由曲面の加工データ算出方法及び自由曲面の作製方法 | |
| JPS5866629A (ja) | 放電加工装置 | |
| US4628173A (en) | Fabricating machine | |
| US6448529B1 (en) | Electro discharge machining apparatus | |
| US4606007A (en) | NC electroerosion method and apparatus | |
| JP2020192647A (ja) | 工作機械及びこの工作機械の制御装置 | |
| JPH034335B2 (ja) | ||
| US4453071A (en) | Electric discharge machine including rocking motion fine machining and controls therefore | |
| US4367391A (en) | Method for pattern controlled electrode movement for E.D.M. | |
| JP2669682B2 (ja) | 細形状加工用電極の製造装置 | |
| JPS59169717A (ja) | 放電加工装置 | |
| US4370537A (en) | Electric discharge machine | |
| JP2635431B2 (ja) | 放電加工機の揺動制御方法 | |
| JPS6119372B2 (ja) | ||
| JP2000354914A (ja) | 放電加工機 | |
| JPH0125656B2 (ja) | ||
| JPS6119373B2 (ja) | ||
| JPH01228727A (ja) | ワイヤ放電加工方法 | |
| JP2969028B2 (ja) | 放電加工方法及び装置 | |
| KR100417076B1 (ko) | 와이어 방전가공기의 와이어 수직 설정방법 | |
| GB2138340A (en) | Numerically controlled electroerosion method and apparatus | |
| JPH0379236A (ja) | 放電加工装置 | |
| JP2741860B2 (ja) | ワイヤ放電加工機の制御装置 | |
| JPS6119374B2 (ja) | ||
| JPS60255324A (ja) | 放電加工方法 |