JPH0332368Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0332368Y2 JPH0332368Y2 JP1986143114U JP14311486U JPH0332368Y2 JP H0332368 Y2 JPH0332368 Y2 JP H0332368Y2 JP 1986143114 U JP1986143114 U JP 1986143114U JP 14311486 U JP14311486 U JP 14311486U JP H0332368 Y2 JPH0332368 Y2 JP H0332368Y2
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- JP
- Japan
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- electrode plate
- dielectric material
- area
- treatment
- electromagnetic waves
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
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- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 11
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 claims description 11
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Landscapes
- Electrotherapy Devices (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
［考案の目的］
（産業上の利用分野）
本考案は、電磁波誘電加熱法による温熱治療装
置の構造に関するものである。
置の構造に関するものである。
（従来の技術）
従来、誘電加熱法における温熱治療装置の一つ
として２枚の電極板を対向させた構造のものが知
られている。これは第３図に示すように、２枚の
電極板１０Ａ，１０Ｂを被検体Ｐを挾むように配
置し、両電極間に電圧を印加することによつて電
磁波を発生させ、治療部位P1に電磁波を照射し
て治療を行うものである。
として２枚の電極板を対向させた構造のものが知
られている。これは第３図に示すように、２枚の
電極板１０Ａ，１０Ｂを被検体Ｐを挾むように配
置し、両電極間に電圧を印加することによつて電
磁波を発生させ、治療部位P1に電磁波を照射し
て治療を行うものである。
（考案が解決しようとする問題点）
しかしながら、照射電磁波の周波数を数百ＭHz
乃至マイクロ波帯に設定した場合には電磁波の浸
透の深さ（スキンデツプス）が小さいため、治療
部位の表面を加熱するだけとなり、また逆に前記
周波数を数ＭHz乃至数十ＭHz（この範囲は一般に
RF帯と呼ばれている）に設定すれば治療部位の
深部迄加熱することができるが、この場合の電磁
波の到達深さは電極板の大きさに比例するため、
図に示すように電極板１０Ａ，１０Ｂ全体の範囲
に電磁界１１が発生することになり、必要治療部
位である斜線領域P1（局所）以外の部分迄加熱さ
れてしまい、被検体に苦痛を与えるという大きな
問題がある。
乃至マイクロ波帯に設定した場合には電磁波の浸
透の深さ（スキンデツプス）が小さいため、治療
部位の表面を加熱するだけとなり、また逆に前記
周波数を数ＭHz乃至数十ＭHz（この範囲は一般に
RF帯と呼ばれている）に設定すれば治療部位の
深部迄加熱することができるが、この場合の電磁
波の到達深さは電極板の大きさに比例するため、
図に示すように電極板１０Ａ，１０Ｂ全体の範囲
に電磁界１１が発生することになり、必要治療部
位である斜線領域P1（局所）以外の部分迄加熱さ
れてしまい、被検体に苦痛を与えるという大きな
問題がある。
本考案は前記事情に鑑みてなされたものであ
り、被検体の厚み方向に深く電磁界を供給できる
ものでありながら電極板の面積よりも小さな特定
の範囲（局所）のみの加熱を行なうことができる
温熱治療装置を提供することを目的とするもので
ある。
り、被検体の厚み方向に深く電磁界を供給できる
ものでありながら電極板の面積よりも小さな特定
の範囲（局所）のみの加熱を行なうことができる
温熱治療装置を提供することを目的とするもので
ある。
［考案の構成］
（課題を解決するための手段）
前記目的を達成するための本考案の概要は、一
対の電極板を被検体を挾んで配置し、マイクロ波
帯よりも低い周波数の高周波磁界を印加して治療
部位に電磁波を照射する温熱治療装置において、
各対向電極板に部分的に前記電極板よりも小面積
を有する高誘電率の誘電体を設け、この誘電体に
電磁界を供給可能に構成されたことを特徴とする
ものである。
対の電極板を被検体を挾んで配置し、マイクロ波
帯よりも低い周波数の高周波磁界を印加して治療
部位に電磁波を照射する温熱治療装置において、
各対向電極板に部分的に前記電極板よりも小面積
を有する高誘電率の誘電体を設け、この誘電体に
電磁界を供給可能に構成されたことを特徴とする
ものである。
（作用）
以上の構成を採用すれば、マイクロ波帯よりも
低い周波数帯（RF帯）である13.56MHz以下の高
周波磁界を発生させることができるので電極板間
の電磁界と同等になり分布は静電磁界となり、被
検体の厚さ方向を通過するような深さに電磁波を
供給可能となると共に、各電極板の電磁波進行方
向側にそれぞれ高誘電体を設置することにより電
界集中を起させることができるので電磁波をビー
ム状に絞ることができ、電極板の面積よりも小さ
な所定の範囲（局所）の加熱治療を有効に行なう
ことができる。
低い周波数帯（RF帯）である13.56MHz以下の高
周波磁界を発生させることができるので電極板間
の電磁界と同等になり分布は静電磁界となり、被
検体の厚さ方向を通過するような深さに電磁波を
供給可能となると共に、各電極板の電磁波進行方
向側にそれぞれ高誘電体を設置することにより電
界集中を起させることができるので電磁波をビー
ム状に絞ることができ、電極板の面積よりも小さ
な所定の範囲（局所）の加熱治療を有効に行なう
ことができる。
（実施例）
第１図は本考案の温熱治療装置の側面図、第２
図はその正面図である。
図はその正面図である。
第１図において５Ａ，５Ｂは被検体（図示せ
ず）を挾んで対向配置された一対のアプリケータ
であり、各アプリケータは、円板状電極板２と、
この電極板２に半球状に組立てて取付けられた支
持部材３及びこの支持部材３の頂部に取付けられ
た球状誘電体１とによつて構成されている。誘電
体１は高誘電率のものが使用されている。この誘
電体１は前記電極板２よりも小面積のものとなつ
ている。
ず）を挾んで対向配置された一対のアプリケータ
であり、各アプリケータは、円板状電極板２と、
この電極板２に半球状に組立てて取付けられた支
持部材３及びこの支持部材３の頂部に取付けられ
た球状誘電体１とによつて構成されている。誘電
体１は高誘電率のものが使用されている。この誘
電体１は前記電極板２よりも小面積のものとなつ
ている。
前記支持部材３は、第２図に示すように弧状に
湾曲させた２本の条片３Ａ，３Ｂを交差させて電
極板２に取付けられており、その交差点に誘電体
１の支持用凹部３Ｄを設けたものである。
湾曲させた２本の条片３Ａ，３Ｂを交差させて電
極板２に取付けられており、その交差点に誘電体
１の支持用凹部３Ｄを設けたものである。
尚、図示していないが、この装置の一対の電極
板２，２間には前記従来例と同様に高周波磁界が
印加され、電磁波を発生するようになつている。
このときの高周波磁界の周波数は後述するように
マイクロ波帯よりも低い周波数、例えば６［ＭHz］
乃至13.56［ＭHz］（いわゆるRF帯）となるように
設定される。
板２，２間には前記従来例と同様に高周波磁界が
印加され、電磁波を発生するようになつている。
このときの高周波磁界の周波数は後述するように
マイクロ波帯よりも低い周波数、例えば６［ＭHz］
乃至13.56［ＭHz］（いわゆるRF帯）となるように
設定される。
以上の構成の温熱治療装置であれば、電磁界分
布を限られた範囲に集中するように変更すること
が可能になり、必要な治療部位に照射電磁波をビ
ーム条に絞ることができる。即ち、前述したよう
に、例えばこの方式による癌治療等に使われる周
波数は、６［ＭHz］乃至13.56［ＭHz］程度のRF帯
であり、この程度の周波数では波長は十分に長く
電極板間の電磁界分布は静電磁界と同じように考
えることができるので、第１図に示すように高誘
電率の誘電体１，１間に電磁界４が集中するため
上述の如き結果を得ることができるわけである。
布を限られた範囲に集中するように変更すること
が可能になり、必要な治療部位に照射電磁波をビ
ーム条に絞ることができる。即ち、前述したよう
に、例えばこの方式による癌治療等に使われる周
波数は、６［ＭHz］乃至13.56［ＭHz］程度のRF帯
であり、この程度の周波数では波長は十分に長く
電極板間の電磁界分布は静電磁界と同じように考
えることができるので、第１図に示すように高誘
電率の誘電体１，１間に電磁界４が集中するため
上述の如き結果を得ることができるわけである。
この結果、従来のように電極板全面に亘つて平
行電磁波が発生してしまうという問題がなくな
り、特定の範囲（局所）のみに絞ることができ、
局所加熱治療が可能となる。また、このときの電
磁波はRF帯の周波数となつているので、被検体
の厚みを通過できるような深さを有する。
行電磁波が発生してしまうという問題がなくな
り、特定の範囲（局所）のみに絞ることができ、
局所加熱治療が可能となる。また、このときの電
磁波はRF帯の周波数となつているので、被検体
の厚みを通過できるような深さを有する。
本考案は前記実施例に限定されず種々の変形実
施が可能である。例えば前記実施例では電極板の
中央部に誘電体を設けたが、複数の誘電体を列状
に並べたり、マトリクス状、あるいは円形状に配
列して広い範囲の治療部位に対応できるようにし
てもよい。また、支持部材は必ずしも半球状にす
る必要はなく、種々の形状を採用することができ
る。
施が可能である。例えば前記実施例では電極板の
中央部に誘電体を設けたが、複数の誘電体を列状
に並べたり、マトリクス状、あるいは円形状に配
列して広い範囲の治療部位に対応できるようにし
てもよい。また、支持部材は必ずしも半球状にす
る必要はなく、種々の形状を採用することができ
る。
［考案の効果］
以上詳述した温熱治療装置であれば、電極板に
部分的に誘電体を配置することにより必要な治療
部位に対応して電磁界分布を変更することがてき
るので、局所加熱を有効に行うことができる。従
つて、電極板周縁部の過剰加熱を防止でき、ま
た、不要部分を加熱することがないので被検体に
苦痛を与えることもない。
部分的に誘電体を配置することにより必要な治療
部位に対応して電磁界分布を変更することがてき
るので、局所加熱を有効に行うことができる。従
つて、電極板周縁部の過剰加熱を防止でき、ま
た、不要部分を加熱することがないので被検体に
苦痛を与えることもない。
第１図は本考案装置の一例を示す側面図、第２
図はその正面図、第３図は従来の装置の説明図で
ある。 １……高誘電率の誘電体、２……電極板、３…
…支持部材、５Ａ，５Ｂ……アプリケータ。
図はその正面図、第３図は従来の装置の説明図で
ある。 １……高誘電率の誘電体、２……電極板、３…
…支持部材、５Ａ，５Ｂ……アプリケータ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 一対の電極板を被検体を挾んで配置し、マイ
クロ波帯よりも低い周波数の高周波磁界を印加
して治療部位に電磁波を照射する温熱治療装置
において、各対向電極板に部分的に前記電極板
よりも小面積を有する高誘電率の誘電体を設
け、この誘電体に電磁界を供給可能に構成され
た温熱治療装置。 (2) 前記一対の電極板にそれぞれ半球状支持部材
を設け、頂部が対向するように配置すると共
に、前記各頂部に高誘電体を支持させた実用新
案登録請求の範囲第１項記載の温熱治療装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986143114U JPH0332368Y2 (ja) | 1986-09-18 | 1986-09-18 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986143114U JPH0332368Y2 (ja) | 1986-09-18 | 1986-09-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6350346U JPS6350346U (ja) | 1988-04-05 |
| JPH0332368Y2 true JPH0332368Y2 (ja) | 1991-07-09 |
Family
ID=31052488
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986143114U Expired JPH0332368Y2 (ja) | 1986-09-18 | 1986-09-18 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0332368Y2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60190975A (ja) * | 1984-03-04 | 1985-09-28 | 菊地 眞 | 加温療法用アプリケ−タ |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5296588U (ja) * | 1976-01-19 | 1977-07-19 | ||
| JPS59182348U (ja) * | 1983-05-19 | 1984-12-05 | 新日本無線株式会社 | マイクロ波加温装置 |
-
1986
- 1986-09-18 JP JP1986143114U patent/JPH0332368Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60190975A (ja) * | 1984-03-04 | 1985-09-28 | 菊地 眞 | 加温療法用アプリケ−タ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6350346U (ja) | 1988-04-05 |
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