JPH0331286A - ホルミル基の脱離法 - Google Patents

ホルミル基の脱離法

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JPH0331286A
JPH0331286A JP16459189A JP16459189A JPH0331286A JP H0331286 A JPH0331286 A JP H0331286A JP 16459189 A JP16459189 A JP 16459189A JP 16459189 A JP16459189 A JP 16459189A JP H0331286 A JPH0331286 A JP H0331286A
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JP
Japan
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formula
compound
group
acid
methanesulfonic acid
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Pending
Application number
JP16459189A
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English (en)
Inventor
Mitsunori Hashimoto
橋本 光紀
Toshiaki Aizawa
相沢 俊昭
Sueo Shiozawa
塩沢 末男
Tomio Sasao
笹尾 富夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 本発明は、セファロスポリン誘専体の窒素原子の保護基
であるホルミル基の脱離反応に関する。
本発明により得られる化合物(2)は優れた抗菌剤(特
開昭57−62287および特開昭60−67483号
公報)であり、化合物(2)は化合物(1)のホルミル
基を脱離(特開昭60−67483号公報)することに
より得られる。その方法は化合物(1)を鉱酸で処理す
る方法であり、この方法では副生物の生成ならびに化合
物(1)および/または化合物(2)の分解により化合
物(2)の純度が低下する 発明者等は化合物(1)をメタンスルホン酸またはトリ
フルオロメタンスルホン酸で処理すると高純度の化合物
(2)が得られることを見出し本発明を完成した。
発明の構成 本発明は、 式 を有する化合物またはその塩の製法である。
上記式中、 を示し、R2は1−アルコキシカルボニルオキシエチル
基またはアニオンを示し、R3はアルコキシ基または置
換基を有してもよいチアゾリオ基を示しその置換基はア
ルキル基および7またはヒドロキシアルキル基を示し、
R4は水素原子またはを有する化合物をメタンスルホン
酸またはトリフルオロスルホン酸で処理することを特徴
とするR2の1−アルコキシカルボニルオキシエチル基
、R3のアルコキシ基およびチアゾリオ基の置換基のヒ
ドロキシアルキル基のアルキル部分のアルキル基ならび
にR3のチアゾリオ基の置換基のアルキル基は、たとえ
ばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、S−ブチルまたはt−ブチルがあげられる
化合物(2)の塩としては、たとえば塩酸塩、硫酸塩、
メタンスルホン酸塩またはトリフルオロメタンスルホン
酸塩があげられる。
化合物(2)は下記の方法により得られる。
化合物(1)を溶媒に懸濁または溶がし、これに1〜5
当量好ましくは2〜3当量のメタンスルホン酸またはト
リフルオロメタンスルホン酸を加え、この溶液を0〜5
0℃好ましくは20〜40℃に10分間〜2時間保ち、
この反応混合物を常法に従って処理すると化合物(2)
が得られる。
本反応に使用される溶媒は、たとえばメタノール、エタ
ノール、プロパツール、イソプロパツール2.テトラヒ
ドロフラン、アセトニトリル、N。
N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトア
ミド、ジオキサンまたはトルエンがあげられる。
発明の効果 従来法に比較して反応条件が緩和であるためFこ副生成
物および分解生成物が少なく、高純度の化合物(2)が
得られ、かつ副生成物および分解物が少ないので化合物
(2)の収率もよい。
以下に実施例をあげ本発明を具体的に示す。
実施例1 乾燥した原料ホルミル体32.6gをメタノール197
m1に懸濁させ、内温を25℃±1℃に保つ様にしなが
らメタンスルホン酸10.6g(2eq)を加え同温度
を保ちながら攪拌を続ける。30分で均一溶液となり反
応も完結する。反応液に水650m1と活性炭6.抛を
加え十分攪拌した後ろ過し、ろ液をアンモニア水又は炭
酸水でpH5,5〜6.0に調整し10℃に冷却し1時
間攪拌した後ろ取、水で洗浄後減圧上乾燥し目的物28
.0g (収率90%、含量96%)を得た。
なおこの操作中に62体および7−置換部分の8体(ア
ンチ体)が0.1〜0゜2%副生する。これにたいして
鉱酸、例えば塩酸で反応を行った場合、反応が完結する
まで4時間もかかり、Δ2体および8体(アンチ体)が
1%も副生じ、他の分解物も生成するため、本方法に比
較して化合物(2)の純度の低下が認められた。
核磁気共鳴スペクトル(CDC13,δpprn) :
1.33(6H,d、J:5Hz)、 1゜59 (3
H、d 、J=5Hz) 。
3.34(3H,s)、 3.58(2H,s)、 4
.04(3H,s)。
4.35(2H,s)、  4.92(IH,m)、 
 5.08(It(、d、J−3,5Hz)。
5.27(2H,d、J=3.5Hz)、 6.01(
IH,m)、 6.88(ILs)。
6.95(IH,q、J=6Hz)、 7.31(IH
,d、J=4Hz)実施例2 7−アミノ−3−3−4−メチル−3−(2−ヒドロキ
シエチル)チアゾリオコメチル−原料ホルミル体塩酸塩
32.8gをメタノール330m1に溶解しメタンスル
ホン酸15gを滴下し40℃で40分反応後、0〜5℃
に冷却しトリエチルアミン15,8gを同温度で加えさ
らに1.5時間攪拌を続ける。析出した結晶をろ取し、
冷メタノール66m1で洗浄し減圧上乾燥し目的物20
.2gを得た。
核磁気共鳴スペクトル(d’−DMSO,δppm) 
:2.47(3H,s) 、 2.8〜4.0(6H,
m) 。
5.10(IH,d、J=4.5Hz)、 5.35(
2H,br)。
5.62(IH,d、J=4.5Hz)、 10.20
(IH,s)実施例3 7−ホルムアミド−5−(3−チアゾリオ)メチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート塩酸塩3.6gをエ
タノール50m1に溶解し、これにメタンスルホン酸1
.5gを滴下後40℃で30分間攪拌する。
次いで0〜5℃に冷却し1〜リエチルアミン1..58
gを加えさらに1時間攪拌後析出した結晶をろ取し、冷
エタノール10m1で洗浄後減圧上乾燥し目的物2゜8
7gを得た。
核磁気共鳴スペクトル(d’−DMSO,δppm) 
:2.8〜3.5(2t() 、 5.02(IH,d
、J=4.5Hz) 。
5.1〜5.5(2H)、 5.70(IH,m)、 
7.10(2H,br)。
8.1〜8.4(IH,m)、 8.7〜9.L(IH
,m)。
10.3〜10,6(IH,m) 実施例4 メタノール100m1で洗浄後減圧上乾燥し目的物33
区を得た。
核磁気共鳴スペクトル(d6−DMSO,δppm) 
:2.39(3H,s)、 3.20(2)(、t、J
=5Hz)、 3.38(214,s)。
3.65(3H,t、J=5t(z) 、 3.83(
3H,s) 。
5.18(18,d、J:5Hz)、 5.39〜5.
54(2H,m)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を有する化合物をメタンスルホン酸またはトリフルオロ
    メタンスルホン酸で処理することを特徴とする 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を有する化合物またはその塩の製法。 上記式中、 R^1はホルミル基または▲数式、化学式、表等があり
    ます▼基 を示し、R^2は1−アルコキシカルボニルオキシエチ
    ル基またはアニオンを示し、R^3はアルコキシ基また
    は置換基を有してもよいチアゾリオ基を示しその置換基
    はアルキル基および/またはヒドロキシアルキル基を示
    し、R^4は水素原子または▲数式、化学式、表等があ
    ります▼基を示す。
JP16459189A 1989-06-27 1989-06-27 ホルミル基の脱離法 Pending JPH0331286A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000066594A1 (en) * 1999-05-05 2000-11-09 Biochemie Gesellschaft M.B.H. Crystalline beta-lactam intermediate
KR20020034557A (ko) * 2000-11-02 2002-05-09 양영한 외국어 교육용 시계

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