JPH0331286A - ホルミル基の脱離法 - Google Patents
ホルミル基の脱離法Info
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- JPH0331286A JPH0331286A JP16459189A JP16459189A JPH0331286A JP H0331286 A JPH0331286 A JP H0331286A JP 16459189 A JP16459189 A JP 16459189A JP 16459189 A JP16459189 A JP 16459189A JP H0331286 A JPH0331286 A JP H0331286A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の目的
本発明は、セファロスポリン誘専体の窒素原子の保護基
であるホルミル基の脱離反応に関する。
であるホルミル基の脱離反応に関する。
本発明により得られる化合物(2)は優れた抗菌剤(特
開昭57−62287および特開昭60−67483号
公報)であり、化合物(2)は化合物(1)のホルミル
基を脱離(特開昭60−67483号公報)することに
より得られる。その方法は化合物(1)を鉱酸で処理す
る方法であり、この方法では副生物の生成ならびに化合
物(1)および/または化合物(2)の分解により化合
物(2)の純度が低下する 発明者等は化合物(1)をメタンスルホン酸またはトリ
フルオロメタンスルホン酸で処理すると高純度の化合物
(2)が得られることを見出し本発明を完成した。
開昭57−62287および特開昭60−67483号
公報)であり、化合物(2)は化合物(1)のホルミル
基を脱離(特開昭60−67483号公報)することに
より得られる。その方法は化合物(1)を鉱酸で処理す
る方法であり、この方法では副生物の生成ならびに化合
物(1)および/または化合物(2)の分解により化合
物(2)の純度が低下する 発明者等は化合物(1)をメタンスルホン酸またはトリ
フルオロメタンスルホン酸で処理すると高純度の化合物
(2)が得られることを見出し本発明を完成した。
発明の構成
本発明は、
式
を有する化合物またはその塩の製法である。
上記式中、
を示し、R2は1−アルコキシカルボニルオキシエチル
基またはアニオンを示し、R3はアルコキシ基または置
換基を有してもよいチアゾリオ基を示しその置換基はア
ルキル基および7またはヒドロキシアルキル基を示し、
R4は水素原子またはを有する化合物をメタンスルホン
酸またはトリフルオロスルホン酸で処理することを特徴
とするR2の1−アルコキシカルボニルオキシエチル基
、R3のアルコキシ基およびチアゾリオ基の置換基のヒ
ドロキシアルキル基のアルキル部分のアルキル基ならび
にR3のチアゾリオ基の置換基のアルキル基は、たとえ
ばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、S−ブチルまたはt−ブチルがあげられる
。
基またはアニオンを示し、R3はアルコキシ基または置
換基を有してもよいチアゾリオ基を示しその置換基はア
ルキル基および7またはヒドロキシアルキル基を示し、
R4は水素原子またはを有する化合物をメタンスルホン
酸またはトリフルオロスルホン酸で処理することを特徴
とするR2の1−アルコキシカルボニルオキシエチル基
、R3のアルコキシ基およびチアゾリオ基の置換基のヒ
ドロキシアルキル基のアルキル部分のアルキル基ならび
にR3のチアゾリオ基の置換基のアルキル基は、たとえ
ばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、S−ブチルまたはt−ブチルがあげられる
。
化合物(2)の塩としては、たとえば塩酸塩、硫酸塩、
メタンスルホン酸塩またはトリフルオロメタンスルホン
酸塩があげられる。
メタンスルホン酸塩またはトリフルオロメタンスルホン
酸塩があげられる。
化合物(2)は下記の方法により得られる。
化合物(1)を溶媒に懸濁または溶がし、これに1〜5
当量好ましくは2〜3当量のメタンスルホン酸またはト
リフルオロメタンスルホン酸を加え、この溶液を0〜5
0℃好ましくは20〜40℃に10分間〜2時間保ち、
この反応混合物を常法に従って処理すると化合物(2)
が得られる。
当量好ましくは2〜3当量のメタンスルホン酸またはト
リフルオロメタンスルホン酸を加え、この溶液を0〜5
0℃好ましくは20〜40℃に10分間〜2時間保ち、
この反応混合物を常法に従って処理すると化合物(2)
が得られる。
本反応に使用される溶媒は、たとえばメタノール、エタ
ノール、プロパツール、イソプロパツール2.テトラヒ
ドロフラン、アセトニトリル、N。
ノール、プロパツール、イソプロパツール2.テトラヒ
ドロフラン、アセトニトリル、N。
N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトア
ミド、ジオキサンまたはトルエンがあげられる。
ミド、ジオキサンまたはトルエンがあげられる。
発明の効果
従来法に比較して反応条件が緩和であるためFこ副生成
物および分解生成物が少なく、高純度の化合物(2)が
得られ、かつ副生成物および分解物が少ないので化合物
(2)の収率もよい。
物および分解生成物が少なく、高純度の化合物(2)が
得られ、かつ副生成物および分解物が少ないので化合物
(2)の収率もよい。
以下に実施例をあげ本発明を具体的に示す。
実施例1
乾燥した原料ホルミル体32.6gをメタノール197
m1に懸濁させ、内温を25℃±1℃に保つ様にしなが
らメタンスルホン酸10.6g(2eq)を加え同温度
を保ちながら攪拌を続ける。30分で均一溶液となり反
応も完結する。反応液に水650m1と活性炭6.抛を
加え十分攪拌した後ろ過し、ろ液をアンモニア水又は炭
酸水でpH5,5〜6.0に調整し10℃に冷却し1時
間攪拌した後ろ取、水で洗浄後減圧上乾燥し目的物28
.0g (収率90%、含量96%)を得た。
m1に懸濁させ、内温を25℃±1℃に保つ様にしなが
らメタンスルホン酸10.6g(2eq)を加え同温度
を保ちながら攪拌を続ける。30分で均一溶液となり反
応も完結する。反応液に水650m1と活性炭6.抛を
加え十分攪拌した後ろ過し、ろ液をアンモニア水又は炭
酸水でpH5,5〜6.0に調整し10℃に冷却し1時
間攪拌した後ろ取、水で洗浄後減圧上乾燥し目的物28
.0g (収率90%、含量96%)を得た。
なおこの操作中に62体および7−置換部分の8体(ア
ンチ体)が0.1〜0゜2%副生する。これにたいして
鉱酸、例えば塩酸で反応を行った場合、反応が完結する
まで4時間もかかり、Δ2体および8体(アンチ体)が
1%も副生じ、他の分解物も生成するため、本方法に比
較して化合物(2)の純度の低下が認められた。
ンチ体)が0.1〜0゜2%副生する。これにたいして
鉱酸、例えば塩酸で反応を行った場合、反応が完結する
まで4時間もかかり、Δ2体および8体(アンチ体)が
1%も副生じ、他の分解物も生成するため、本方法に比
較して化合物(2)の純度の低下が認められた。
核磁気共鳴スペクトル(CDC13,δpprn) :
1.33(6H,d、J:5Hz)、 1゜59 (3
H、d 、J=5Hz) 。
1.33(6H,d、J:5Hz)、 1゜59 (3
H、d 、J=5Hz) 。
3.34(3H,s)、 3.58(2H,s)、 4
.04(3H,s)。
.04(3H,s)。
4.35(2H,s)、 4.92(IH,m)、
5.08(It(、d、J−3,5Hz)。
5.08(It(、d、J−3,5Hz)。
5.27(2H,d、J=3.5Hz)、 6.01(
IH,m)、 6.88(ILs)。
IH,m)、 6.88(ILs)。
6.95(IH,q、J=6Hz)、 7.31(IH
,d、J=4Hz)実施例2 7−アミノ−3−3−4−メチル−3−(2−ヒドロキ
シエチル)チアゾリオコメチル−原料ホルミル体塩酸塩
32.8gをメタノール330m1に溶解しメタンスル
ホン酸15gを滴下し40℃で40分反応後、0〜5℃
に冷却しトリエチルアミン15,8gを同温度で加えさ
らに1.5時間攪拌を続ける。析出した結晶をろ取し、
冷メタノール66m1で洗浄し減圧上乾燥し目的物20
.2gを得た。
,d、J=4Hz)実施例2 7−アミノ−3−3−4−メチル−3−(2−ヒドロキ
シエチル)チアゾリオコメチル−原料ホルミル体塩酸塩
32.8gをメタノール330m1に溶解しメタンスル
ホン酸15gを滴下し40℃で40分反応後、0〜5℃
に冷却しトリエチルアミン15,8gを同温度で加えさ
らに1.5時間攪拌を続ける。析出した結晶をろ取し、
冷メタノール66m1で洗浄し減圧上乾燥し目的物20
.2gを得た。
核磁気共鳴スペクトル(d’−DMSO,δppm)
:2.47(3H,s) 、 2.8〜4.0(6H,
m) 。
:2.47(3H,s) 、 2.8〜4.0(6H,
m) 。
5.10(IH,d、J=4.5Hz)、 5.35(
2H,br)。
2H,br)。
5.62(IH,d、J=4.5Hz)、 10.20
(IH,s)実施例3 7−ホルムアミド−5−(3−チアゾリオ)メチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート塩酸塩3.6gをエ
タノール50m1に溶解し、これにメタンスルホン酸1
.5gを滴下後40℃で30分間攪拌する。
(IH,s)実施例3 7−ホルムアミド−5−(3−チアゾリオ)メチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート塩酸塩3.6gをエ
タノール50m1に溶解し、これにメタンスルホン酸1
.5gを滴下後40℃で30分間攪拌する。
次いで0〜5℃に冷却し1〜リエチルアミン1..58
gを加えさらに1時間攪拌後析出した結晶をろ取し、冷
エタノール10m1で洗浄後減圧上乾燥し目的物2゜8
7gを得た。
gを加えさらに1時間攪拌後析出した結晶をろ取し、冷
エタノール10m1で洗浄後減圧上乾燥し目的物2゜8
7gを得た。
核磁気共鳴スペクトル(d’−DMSO,δppm)
:2.8〜3.5(2t() 、 5.02(IH,d
、J=4.5Hz) 。
:2.8〜3.5(2t() 、 5.02(IH,d
、J=4.5Hz) 。
5.1〜5.5(2H)、 5.70(IH,m)、
7.10(2H,br)。
7.10(2H,br)。
8.1〜8.4(IH,m)、 8.7〜9.L(IH
,m)。
,m)。
10.3〜10,6(IH,m)
実施例4
メタノール100m1で洗浄後減圧上乾燥し目的物33
区を得た。
区を得た。
核磁気共鳴スペクトル(d6−DMSO,δppm)
:2.39(3H,s)、 3.20(2)(、t、J
=5Hz)、 3.38(214,s)。
:2.39(3H,s)、 3.20(2)(、t、J
=5Hz)、 3.38(214,s)。
3.65(3H,t、J=5t(z) 、 3.83(
3H,s) 。
3H,s) 。
5.18(18,d、J:5Hz)、 5.39〜5.
54(2H,m)。
54(2H,m)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を有する化合物をメタンスルホン酸またはトリフルオロ
メタンスルホン酸で処理することを特徴とする 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を有する化合物またはその塩の製法。 上記式中、 R^1はホルミル基または▲数式、化学式、表等があり
ます▼基 を示し、R^2は1−アルコキシカルボニルオキシエチ
ル基またはアニオンを示し、R^3はアルコキシ基また
は置換基を有してもよいチアゾリオ基を示しその置換基
はアルキル基および/またはヒドロキシアルキル基を示
し、R^4は水素原子または▲数式、化学式、表等があ
ります▼基を示す。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16459189A JPH0331286A (ja) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | ホルミル基の脱離法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16459189A JPH0331286A (ja) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | ホルミル基の脱離法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0331286A true JPH0331286A (ja) | 1991-02-12 |
Family
ID=15796094
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16459189A Pending JPH0331286A (ja) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | ホルミル基の脱離法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0331286A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000066594A1 (en) * | 1999-05-05 | 2000-11-09 | Biochemie Gesellschaft M.B.H. | Crystalline beta-lactam intermediate |
KR20020034557A (ko) * | 2000-11-02 | 2002-05-09 | 양영한 | 외국어 교육용 시계 |
-
1989
- 1989-06-27 JP JP16459189A patent/JPH0331286A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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