JPH03294272A - 高純度のテトラカルボン酸二無水物の製造法 - Google Patents
高純度のテトラカルボン酸二無水物の製造法Info
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- JPH03294272A JPH03294272A JP9642990A JP9642990A JPH03294272A JP H03294272 A JPH03294272 A JP H03294272A JP 9642990 A JP9642990 A JP 9642990A JP 9642990 A JP9642990 A JP 9642990A JP H03294272 A JPH03294272 A JP H03294272A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、耐熱性の高いポリイミド樹脂等の原料である
高純度のテトラカルボン酸二無水物を得る方法に関する
ものである。
高純度のテトラカルボン酸二無水物を得る方法に関する
ものである。
従来、テトラカルボン酸二無水物は耐熱性の高いポリイ
ミド樹脂等の原料として使用されている。
ミド樹脂等の原料として使用されている。
最近、テトラカルボン酸二無水物の純度が年々高純度の
ものが要求されるようになった。
ものが要求されるようになった。
一般に、テトラカルボン酸二無水物の製造方法には種々
の提案がなされている。その主な方法としては、ピロメ
リット酸二無水物(以下、PMDAと略す)の場合、テ
トラアルキル化したベンゼン、例えば、ジュレンを気相
酸化で生じるピロメリット酸二無水物は若干の副生成で
よごれる。この副生成の一部は無色の不純物のトリメリ
ット酸無水物、ジメチル−、モノメチルフタル酸無水物
及びフタル酸無水物などである。これらの不純物の他に
無機物及びそのイオンなどの種々の不純物の一部が混入
するため、純度が必ずしも高くならない。これらの不純
物を除くのには精製が必要である。
の提案がなされている。その主な方法としては、ピロメ
リット酸二無水物(以下、PMDAと略す)の場合、テ
トラアルキル化したベンゼン、例えば、ジュレンを気相
酸化で生じるピロメリット酸二無水物は若干の副生成で
よごれる。この副生成の一部は無色の不純物のトリメリ
ット酸無水物、ジメチル−、モノメチルフタル酸無水物
及びフタル酸無水物などである。これらの不純物の他に
無機物及びそのイオンなどの種々の不純物の一部が混入
するため、純度が必ずしも高くならない。これらの不純
物を除くのには精製が必要である。
従来、この粗ピロメリット酸(以下、PMAと略す)を
脱水精製により純度の高いPMDAを得る方法には、無
水酢酸のような脂肪族の酸無水物等の存在下での脱水す
る方法、また粗PMA又は粗PMDAを昇華して混合気
相から冷却してPMDAを得る方法(特公平1−429
53号)が知られている。
脱水精製により純度の高いPMDAを得る方法には、無
水酢酸のような脂肪族の酸無水物等の存在下での脱水す
る方法、また粗PMA又は粗PMDAを昇華して混合気
相から冷却してPMDAを得る方法(特公平1−429
53号)が知られている。
前者は粗PMAを多量の無水酢酸のような脂肪族の酸無
水物と共に還流、脱水してPMDAにすると共に同時に
溶解度の差によって不純物等を溶解除去してPMDAの
純度を高める方法である。
水物と共に還流、脱水してPMDAにすると共に同時に
溶解度の差によって不純物等を溶解除去してPMDAの
純度を高める方法である。
しかしながら、刺激臭の強い無水酢酸等を取り扱うため
に取り扱い方が不便であり、また無水酢酸を使用するた
めコスト高になる。
に取り扱い方が不便であり、また無水酢酸を使用するた
めコスト高になる。
後者は昇華による脱水と精製を同時に行なうものである
。しかしながら、大規模な装置を必要するためにPMD
Aのコスト高となる。また無色の不純物のトリメリット
酸無水物、ジメチル−、モノメチルフタル酸無水物及び
フタル酸無水物等も同時に昇華するのでこの精製に特別
の工夫を要する。
。しかしながら、大規模な装置を必要するためにPMD
Aのコスト高となる。また無色の不純物のトリメリット
酸無水物、ジメチル−、モノメチルフタル酸無水物及び
フタル酸無水物等も同時に昇華するのでこの精製に特別
の工夫を要する。
また、3.3’ 、4.4’ −ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物(以下、BTDAと略す)は3.3
’ 、4.4’ −テトラメチルベンゾフェノンの酸化
、3.3’ 、4.4’ −ビフェニルスルホンテトラ
カルボン酸二無水物(以下、BSDAと略す)はオルト
−キシレンと硫酸の縮合から得られた3、3’ 、4,
4’ −テトラメチルビフェニルスルホンの酸化、又は
3.3’ 、4.4’−ビフェニルエーテルテトラカル
ボン酸二無水物(以下、BEDAと略す)は3,4−ジ
メチルフエノールと4−プロモーオルソキシレンの縮合
から得た3、3’ 、4.4’−テトラメチルビフェニ
ルエーテルの酸化を行ない、脱水反応の工程後に各々得
られる。上記の方法で得られた粗テトラカルボン酸又は
テトラカルボン酸二無水物を脱水精製により純度の高い
テトラカルボン酸二無水物を得る方法には、ピロメリッ
ト酸の場合と同様に、無水酢酸のような脂肪族の酸無水
物等の存在下での脱水する方法、また粗テトラカルボン
酸又は粗テトラカルボン酸二無水物を昇華して混合気相
から冷却してテトラカルボン酸二無水物を得る方法が知
られている。
カルボン酸二無水物(以下、BTDAと略す)は3.3
’ 、4.4’ −テトラメチルベンゾフェノンの酸化
、3.3’ 、4.4’ −ビフェニルスルホンテトラ
カルボン酸二無水物(以下、BSDAと略す)はオルト
−キシレンと硫酸の縮合から得られた3、3’ 、4,
4’ −テトラメチルビフェニルスルホンの酸化、又は
3.3’ 、4.4’−ビフェニルエーテルテトラカル
ボン酸二無水物(以下、BEDAと略す)は3,4−ジ
メチルフエノールと4−プロモーオルソキシレンの縮合
から得た3、3’ 、4.4’−テトラメチルビフェニ
ルエーテルの酸化を行ない、脱水反応の工程後に各々得
られる。上記の方法で得られた粗テトラカルボン酸又は
テトラカルボン酸二無水物を脱水精製により純度の高い
テトラカルボン酸二無水物を得る方法には、ピロメリッ
ト酸の場合と同様に、無水酢酸のような脂肪族の酸無水
物等の存在下での脱水する方法、また粗テトラカルボン
酸又は粗テトラカルボン酸二無水物を昇華して混合気相
から冷却してテトラカルボン酸二無水物を得る方法が知
られている。
前者は粗テトラカルボン酸又は粗テトラカルボン酸二無
水物を多量の無水酢酸のような脂肪族の酸無水物と共に
還流、脱水してテトラカルボン酸二無水物にすると共に
同時に溶解度の差によって不純物等を溶解除去してテト
ラカルボン酸二無水物の純度を高める方法である。しか
しながら、刺激臭の強い無水酢酸等を取り扱うために取
り扱い方が不便であり、また無水酢酸を使用するためコ
スト高になる。
水物を多量の無水酢酸のような脂肪族の酸無水物と共に
還流、脱水してテトラカルボン酸二無水物にすると共に
同時に溶解度の差によって不純物等を溶解除去してテト
ラカルボン酸二無水物の純度を高める方法である。しか
しながら、刺激臭の強い無水酢酸等を取り扱うために取
り扱い方が不便であり、また無水酢酸を使用するためコ
スト高になる。
後者は昇華による脱水と精製を同時に行なうものである
。しかしながら、大規模な装置を必要するためにテトラ
カルボン酸二無水物のコスト高となる。テトラカルボン
酸二無水物の製法における副生成物の他に無機物及びそ
のイオンなどの種々の不純物の一部が混入するため、純
度が必ずしも高くならない。これらの不純物を除くのに
は精製が必要である。
。しかしながら、大規模な装置を必要するためにテトラ
カルボン酸二無水物のコスト高となる。テトラカルボン
酸二無水物の製法における副生成物の他に無機物及びそ
のイオンなどの種々の不純物の一部が混入するため、純
度が必ずしも高くならない。これらの不純物を除くのに
は精製が必要である。
本発明は、粗テトラカルボン酸の結晶化とテトラカルボ
ン酸の脱水による高純度テトラカルボン二無水物化を同
時に行なう簡便にして経済的なテトラカルボン酸及びテ
トラカルボン酸二無水物の製造方法を提案するものであ
る。
ン酸の脱水による高純度テトラカルボン二無水物化を同
時に行なう簡便にして経済的なテトラカルボン酸及びテ
トラカルボン酸二無水物の製造方法を提案するものであ
る。
本発明は、粗テトラカルボン酸又はテトラカルボン酸二
無水物を熱イオン交換水に溶解してテトラカルボン酸と
して結晶化し、ろ過により不純物を除去せしめる工程、
濾過により不純物を温度15O℃から260℃までの間
に加熱処理せしめる工程からなることを特徴とする高純
度テトラカルボン酸二無水物を製造する方法である。
無水物を熱イオン交換水に溶解してテトラカルボン酸と
して結晶化し、ろ過により不純物を除去せしめる工程、
濾過により不純物を温度15O℃から260℃までの間
に加熱処理せしめる工程からなることを特徴とする高純
度テトラカルボン酸二無水物を製造する方法である。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明の高純度テトラカルボン酸二無水物を製造する方
法としては5副生成物である無色の有機物の不純物等を
除去するための粗テトラカルボン酸又は粗テトラカルボ
ン酸二無水物をイオン交換水又は蒸留水と共に100℃
付近まで加熱して100℃付近にてろ過し、ろ液を冷却
して得られた結晶を再び100’C付近まで加熱して溶
解し、冷却で結晶化すると溶解度の差によって微量の上
記不純物や種々の金属イオン類及び陰イオン類が除去さ
れる。
法としては5副生成物である無色の有機物の不純物等を
除去するための粗テトラカルボン酸又は粗テトラカルボ
ン酸二無水物をイオン交換水又は蒸留水と共に100℃
付近まで加熱して100℃付近にてろ過し、ろ液を冷却
して得られた結晶を再び100’C付近まで加熱して溶
解し、冷却で結晶化すると溶解度の差によって微量の上
記不純物や種々の金属イオン類及び陰イオン類が除去さ
れる。
粗テトラカルボン酸又は粗テトラカルボン酸二無水物を
イオン交換水又は蒸留水に溶解する場合のイオン交換水
又は蒸留水の割合は、粗テトラカルボン酸又は粗テトラ
カルボン酸二無水物の約2倍以上であればよい。イオン
交換水又は蒸留水の割合をあまり多くすると収率が悪く
なるので、還流時に粗テトラカルボン酸又は粗テトラカ
ルボン酸二無水物を溶解する最小限のイオン交換水又は
蒸留水の量が望ましい。
イオン交換水又は蒸留水に溶解する場合のイオン交換水
又は蒸留水の割合は、粗テトラカルボン酸又は粗テトラ
カルボン酸二無水物の約2倍以上であればよい。イオン
交換水又は蒸留水の割合をあまり多くすると収率が悪く
なるので、還流時に粗テトラカルボン酸又は粗テトラカ
ルボン酸二無水物を溶解する最小限のイオン交換水又は
蒸留水の量が望ましい。
次にトラップ付加熱容器の中に、結晶のテトラカルボン
酸を仕込み、温度150℃から260℃までの間に加熱
する。このときテトラカルボン酸の脱水による酸無水物
化と同時に微量の無色の不純物として昇華され、トラッ
プ等に分離される。
酸を仕込み、温度150℃から260℃までの間に加熱
する。このときテトラカルボン酸の脱水による酸無水物
化と同時に微量の無色の不純物として昇華され、トラッ
プ等に分離される。
加熱温度は150℃〜260℃であるが、好ましくは1
80℃〜240℃更に好ましくは220℃付近が最も効
率良い。即ち、脱水効率もよくするには150℃〜26
0℃で150″C以下では脱水効率があまり良くなく、
260℃以上では製品が着色する恐れがある6加熱に要
する時間は、1〜8時間、好ましくは2〜4時間が適当
である。加熱処理をしたテトラカルボン酸二無水物は微
量の無色の不純物が除去されて純度が高くなるか、更に
これを蒸留水と共に100℃付近まで加熱して冷却再結
晶を行なう。かくすることにより再びテトラカルボン酸
に戻るとともに溶解度の差にょって微量の無色の不純物
及び種々の金属イオン類及び陰イオン類が除去される。
80℃〜240℃更に好ましくは220℃付近が最も効
率良い。即ち、脱水効率もよくするには150℃〜26
0℃で150″C以下では脱水効率があまり良くなく、
260℃以上では製品が着色する恐れがある6加熱に要
する時間は、1〜8時間、好ましくは2〜4時間が適当
である。加熱処理をしたテトラカルボン酸二無水物は微
量の無色の不純物が除去されて純度が高くなるか、更に
これを蒸留水と共に100℃付近まで加熱して冷却再結
晶を行なう。かくすることにより再びテトラカルボン酸
に戻るとともに溶解度の差にょって微量の無色の不純物
及び種々の金属イオン類及び陰イオン類が除去される。
前記のように結晶化処理をしたテトラカルボン酸は粒径
が大きくなり5ろ過、不純物の除去工程が容易に行われ
る。イオン交換水による結晶化−加熱処理の】サイクル
の精製工程で得られるテトラカルボン酸二無水物は通常
の目的には十分使用される純度を有し、テトラカルボン
酸二無水物の純度としては99.5%以上100%近く
に達する。この工程を更にもう一度繰り返して行なうと
、更に高純度のテトラカルボン酸二無水物となり、テト
ラカルボン酸二無水物の純度としては99゜8%以上、
金属イオン及びハロゲンイオンはlppm以下となり高
信頼性の要求される製品(例えば半導体)に使用される
材料の原料に耐え得るものとなる。
が大きくなり5ろ過、不純物の除去工程が容易に行われ
る。イオン交換水による結晶化−加熱処理の】サイクル
の精製工程で得られるテトラカルボン酸二無水物は通常
の目的には十分使用される純度を有し、テトラカルボン
酸二無水物の純度としては99.5%以上100%近く
に達する。この工程を更にもう一度繰り返して行なうと
、更に高純度のテトラカルボン酸二無水物となり、テト
ラカルボン酸二無水物の純度としては99゜8%以上、
金属イオン及びハロゲンイオンはlppm以下となり高
信頼性の要求される製品(例えば半導体)に使用される
材料の原料に耐え得るものとなる。
本発明に用いられるテトラカルボン酸二無水物として、
ピロメリット酸二無水物+ 3.3’ 、4゜4’−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3.3’ 、
4.4’ −ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無
水物又は3,3″、4.4’ −ビフェニルエーテルテ
トラカルボン酸二無水物が挙げられる。
ピロメリット酸二無水物+ 3.3’ 、4゜4’−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3.3’ 、
4.4’ −ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無
水物又は3,3″、4.4’ −ビフェニルエーテルテ
トラカルボン酸二無水物が挙げられる。
本発明は、粗テiラカルボン酸又は粗テトラカルボン酸
二無水物を熱イオン交換水又は熱蒸留水に溶解してテト
ラカルボン酸として結晶化し、濾過により不純物を除去
せしめ、得られた結晶のテトラカルボン酸を加熱処理す
ることにより、純度の高いテトラカルボン酸二無水物を
得ることができ、かつ簡易にして経済的なテトラカルボ
ン酸二無水物を得ることができる製造方法である。
二無水物を熱イオン交換水又は熱蒸留水に溶解してテト
ラカルボン酸として結晶化し、濾過により不純物を除去
せしめ、得られた結晶のテトラカルボン酸を加熱処理す
ることにより、純度の高いテトラカルボン酸二無水物を
得ることができ、かつ簡易にして経済的なテトラカルボ
ン酸二無水物を得ることができる製造方法である。
以下に本発明の一部実施例を挙げて説明する。
実施例1
(1)ピロメリット酸の精製
撹拌機及び加熱装置を備えた反応機に、粗PMA40
g、イオン交換水80gを仕込み、撹拌しながら加熱し
て1時間還流させた。還流後、熱ろ過し、ろ液を冷却し
て結晶化させた。得られた白色結晶25gを120℃で
1時間熱風乾燥して22gを得た。このものの純度は9
9.5%で不純物がほとんど含まれなかった。
g、イオン交換水80gを仕込み、撹拌しながら加熱し
て1時間還流させた。還流後、熱ろ過し、ろ液を冷却し
て結晶化させた。得られた白色結晶25gを120℃で
1時間熱風乾燥して22gを得た。このものの純度は9
9.5%で不純物がほとんど含まれなかった。
(2)ピロメリット酸二無水物の精製
上記PMAの結晶物20gを、排気口に冷却トラップを
付けた加熱装置に入れ、軽く吸引しながら、180℃で
2時間加熱脱水して、白色結晶状の精製PMDAl 8
gを得た。このものの純度は99.8%以上で、不純物
のイオン含有量は、ナトリウムイオン、カリウムイオン
、遷移金属イオン、塩素イオンともにlppm以下であ
った。
付けた加熱装置に入れ、軽く吸引しながら、180℃で
2時間加熱脱水して、白色結晶状の精製PMDAl 8
gを得た。このものの純度は99.8%以上で、不純物
のイオン含有量は、ナトリウムイオン、カリウムイオン
、遷移金属イオン、塩素イオンともにlppm以下であ
った。
実施例2
(1)ピロメリット酸の精製
撹拌機及び加熱装置を備えた反応機に、市販品PMDA
50g、イオン交換水100gを仕込み。
50g、イオン交換水100gを仕込み。
撹拌しながら加熱して1時間還流させた。還流後、熱ろ
過し、ろ液を冷却して結晶化させた。得られた白色結晶
45gを120’Cで1時間熱風乾燥して42gを得た
。このものの純度は99.7%で不純物がほとんど含ま
れなかった。
過し、ろ液を冷却して結晶化させた。得られた白色結晶
45gを120’Cで1時間熱風乾燥して42gを得た
。このものの純度は99.7%で不純物がほとんど含ま
れなかった。
(2)ピロメリット酸二無水物の精製
上記PMAの結晶物20gを、排気口に冷却トラップを
付けた加熱装置に入れ、軽く吸引しながら、200℃で
2時間加熱脱水して、白色結晶状の精製PMDA17g
を得た。このものの純度は99.8%以上で、不純物の
イオン含有量は、ナトリウムイオン、カリウムイオン、
遷移金属イオン、塩素イオンともにlppm以下であっ
た。
付けた加熱装置に入れ、軽く吸引しながら、200℃で
2時間加熱脱水して、白色結晶状の精製PMDA17g
を得た。このものの純度は99.8%以上で、不純物の
イオン含有量は、ナトリウムイオン、カリウムイオン、
遷移金属イオン、塩素イオンともにlppm以下であっ
た。
実施例3
(1)3.3’ 、4.4’ −ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸の精製 撹拌機及び加熱装置を備えた反応機に、粗3゜3’ 、
4.4’ −ベンゾフェノンテトラカルボン酸50 g
、イオン交換水100gを仕込み、撹拌しながら加熱し
て1時間還流させた。還流後、熱ろ過し、ろ液を冷却し
て結晶化させた。得られた3、3’ 、4.4’ −ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸の白色結晶26gを12
0℃で1時間熱風乾燥して23gを得た。このものの純
度は99゜6%で不純物がほとんど含まれなかった。
カルボン酸の精製 撹拌機及び加熱装置を備えた反応機に、粗3゜3’ 、
4.4’ −ベンゾフェノンテトラカルボン酸50 g
、イオン交換水100gを仕込み、撹拌しながら加熱し
て1時間還流させた。還流後、熱ろ過し、ろ液を冷却し
て結晶化させた。得られた3、3’ 、4.4’ −ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸の白色結晶26gを12
0℃で1時間熱風乾燥して23gを得た。このものの純
度は99゜6%で不純物がほとんど含まれなかった。
(2)3.3’ 、4.4’ −ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物の精製 上記3.3’ 、4.4’ −ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸の結晶物20gを、排気口に冷却トラップを付
けた加熱装置に入れ、軽く吸引しながら、240℃で2
時間加熱脱水して、白色結晶状の精製BTDA18gを
得た。このものの純度は99.8%以上で、不純物のイ
オン含有量は、ナトリウムイオン、カリウムイオン、遷
移金属イオン、塩素イオンともにlppm以下であった
。
カルボン酸二無水物の精製 上記3.3’ 、4.4’ −ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸の結晶物20gを、排気口に冷却トラップを付
けた加熱装置に入れ、軽く吸引しながら、240℃で2
時間加熱脱水して、白色結晶状の精製BTDA18gを
得た。このものの純度は99.8%以上で、不純物のイ
オン含有量は、ナトリウムイオン、カリウムイオン、遷
移金属イオン、塩素イオンともにlppm以下であった
。
実施例4
(1)3.3’ 、4.4’ −ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸の精製 撹拌機及び加熱装置を備えた反応機に、市販品BTDA
50g、 イオン交換水100gを仕込み。
カルボン酸の精製 撹拌機及び加熱装置を備えた反応機に、市販品BTDA
50g、 イオン交換水100gを仕込み。
撹拌しながら加熱して1時間還流させた。還流後、熱ろ
過し、ろ液を冷却して結晶化させた。得られた白色結晶
45gを120℃で1時間熱風乾燥して42gを得た。
過し、ろ液を冷却して結晶化させた。得られた白色結晶
45gを120℃で1時間熱風乾燥して42gを得た。
このものの純度は99.6%で不純物がほとんど含まれ
なかった。
なかった。
(2)3.3’ 、4.4’ −ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物の精製 上記3.3’ 、4.4’ −ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸の結晶物20gを、排気口に冷却トラップを付
けた加熱装置に入れ、軽く吸引しながら、220℃で2
時間加熱脱水して、白色結晶状の精製BTDA17gを
得た。このものの純度は99.8%以上で、不純物のイ
オン含有量は、ナトリウムイオン、カリウムイオン、遷
移金属イオン、塩素イオンともにlppm以下であった
。
カルボン酸二無水物の精製 上記3.3’ 、4.4’ −ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸の結晶物20gを、排気口に冷却トラップを付
けた加熱装置に入れ、軽く吸引しながら、220℃で2
時間加熱脱水して、白色結晶状の精製BTDA17gを
得た。このものの純度は99.8%以上で、不純物のイ
オン含有量は、ナトリウムイオン、カリウムイオン、遷
移金属イオン、塩素イオンともにlppm以下であった
。
実施例5
(1)3.3’ 、4.4’ −ビフェニルスルホンテ
トラカルボン酸の精製 撹拌機及び加熱装置を備えた反応機に、市販品BSDA
50g、イオン交換水100gを仕込み、撹拌しながら
加熱して1時間還流させた。還流後、熱ろ過し、ろ液を
冷却して結晶化させた。得られた白色結晶45gを12
0℃で1時間熱風乾燥して42gを得た。このものの純
度は99.7%で不純物がほとんど含まれなかった。
トラカルボン酸の精製 撹拌機及び加熱装置を備えた反応機に、市販品BSDA
50g、イオン交換水100gを仕込み、撹拌しながら
加熱して1時間還流させた。還流後、熱ろ過し、ろ液を
冷却して結晶化させた。得られた白色結晶45gを12
0℃で1時間熱風乾燥して42gを得た。このものの純
度は99.7%で不純物がほとんど含まれなかった。
(2)3.3’ 、4.4’ −ビフェニルスルホンテ
トラカルボン酸二無水物の精製 上記3.3’ 、4.4’−ビフェニルスルホンテトラ
カルボン酸の結晶物20gを、排気口に冷却トラップを
付けた加熱装置に入れ、軽く吸引しながら、200℃で
2時間加熱脱水して、白色結晶状の精製BSDA17g
を得た。このものの純度は99.8%以上で、不純物の
イオン含有量は。
トラカルボン酸二無水物の精製 上記3.3’ 、4.4’−ビフェニルスルホンテトラ
カルボン酸の結晶物20gを、排気口に冷却トラップを
付けた加熱装置に入れ、軽く吸引しながら、200℃で
2時間加熱脱水して、白色結晶状の精製BSDA17g
を得た。このものの純度は99.8%以上で、不純物の
イオン含有量は。
ナトリウムイオン、カリウムイオン、遷移金属イオン、
塩素イオンともにlppm以下であった。
塩素イオンともにlppm以下であった。
実施例6
(1)3.3’ 、4.4’ −ビフェニルエーテルテ
トラカルボン酸の精製 撹拌機及び加熱装置を備えた反応機に、粗3゜3’ 、
4.4’ −ビフェニルエーテルテトラカルボン酸(以
下、BETAと略す)50g、イオン交換水100gを
仕込み、撹拌しながら加熱して1時間還流させた。還流
後、熱ろ過し、ろ液を冷却して結晶化させた。得られた
白色結晶45gを120℃で1時間熱風乾燥して42g
を得た。このものの純度は99.5%で不純物がほとん
ど含まれなかった。
トラカルボン酸の精製 撹拌機及び加熱装置を備えた反応機に、粗3゜3’ 、
4.4’ −ビフェニルエーテルテトラカルボン酸(以
下、BETAと略す)50g、イオン交換水100gを
仕込み、撹拌しながら加熱して1時間還流させた。還流
後、熱ろ過し、ろ液を冷却して結晶化させた。得られた
白色結晶45gを120℃で1時間熱風乾燥して42g
を得た。このものの純度は99.5%で不純物がほとん
ど含まれなかった。
(2)3.3’ 、4.4’ −ビフェニルエーテル
テトラカルボン酸二無水物の精製 上記BETAの結晶物20gを、排気口に冷却トラップ
を付けた加熱装置に入れ、軽く吸引しながら、210℃
で2時間加熱脱水して、白色結晶状の精1i!BEDA
17gを得た。このものの純度は99.8%以上で、不
純物のイオン含有量は、ナトリウムイオン、カリウムイ
オン、遷移金属イオン、塩素イオンともにlppm以下
であった。
テトラカルボン酸二無水物の精製 上記BETAの結晶物20gを、排気口に冷却トラップ
を付けた加熱装置に入れ、軽く吸引しながら、210℃
で2時間加熱脱水して、白色結晶状の精1i!BEDA
17gを得た。このものの純度は99.8%以上で、不
純物のイオン含有量は、ナトリウムイオン、カリウムイ
オン、遷移金属イオン、塩素イオンともにlppm以下
であった。
比較例1
く昇華法による精製〉
排気口に冷却トラップを付けた昇華装置(下部に加熱装
置、上部に板状面付冷却装置)に粗PMDAをLogを
仕込み、常圧で200℃2時間加熱した。加熱後40
m m Hgで200℃で2時間加熱した。冷却面に析
出した黄色味を帯びた結晶のPMDA8gを回収した。
置、上部に板状面付冷却装置)に粗PMDAをLogを
仕込み、常圧で200℃2時間加熱した。加熱後40
m m Hgで200℃で2時間加熱した。冷却面に析
出した黄色味を帯びた結晶のPMDA8gを回収した。
このものの純度は。
98%で、副生成物のトリメリット酸無水物O14%、
不純物のイオン含有量、ナトリウムイオンIQppm、
カリウムイオン5ppm、31移金属イオン5ppm、
塩素イオン3ppmが含まれていた。
不純物のイオン含有量、ナトリウムイオンIQppm、
カリウムイオン5ppm、31移金属イオン5ppm、
塩素イオン3ppmが含まれていた。
本発明に係る高純度のテトラカルボン酸二無水物の製造
方法は経済的手法であり、高純度ポリイミドの原料とし
て有用である。
方法は経済的手法であり、高純度ポリイミドの原料とし
て有用である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、高純度のテトラカルボン酸二無水物の製造法におい
て、粗ピロメリット酸又は粗ピロメリット酸二無水物を
熱イオン交換水に溶解してピロメリット酸として結晶化
し、濾過により不純物を除去せしめる工程、得られた結
晶物を加熱処理せしる工程からなることを特徴とする高
純度ゼロメリット酸二無水物の製造方法。 2、加熱処理が高純度ピロメリット酸を温度150℃か
ら260℃までの間に加熱することを特徴とする特許請
求の範囲第1項の高純度のピロメリット酸二無水物の製
造方法。 3、高純度のテトラカルボン酸二無水物の製造法におい
て、粗3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸又は粗3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物を熱イオン交換水に溶解して3,
3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸とし
て結晶化し、濾過により不純物を除去せしめる工程、得
られた結晶物を加熱処理せしる工程からなることを特徴
とする高純度3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物の製造方法。 4、加熱処理が高純度3,3’,4,4’−ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸を温度150℃から260℃まで
の間に加熱することを特徴とする特許請求の範囲第3項
の高純度の3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物の製造方法。 5、高純度のテトラカルボン酸二無水物の製造法におい
て、粗3,3’,4,4’−ビフェニルスルホンテトラ
カルボン酸又は粗3,3’,4,4’−ビフェニルスル
ホンテトラカルボン酸二無水物を熱イオン交換水に溶解
して3,3’,4,4’−ビフェニルスルホンテトラカ
ルボン酸として結晶化し、濾過により不純物を除去せし
める工程、得られた結晶物を加熱処理せしる工程からな
ることを特徴とする高純度3,3’,4,4’−ビフェ
ニルスルホンテトラカルボン酸二無水物の製造方法。 6、加熱処理が高純度3,3’,4,4’−ビフェニル
スルホンテトラカルボン酸を温度150℃から260℃
までの間に加熱することを特徴とする特許請求の範囲第
5項の高純度の3,3’,4,4’−ビフェニルスルホ
ンテトラカルボン酸二無水物の製造方法。 7、高純度のテトラカルボン酸二無水物の製造法におい
て、粗3,3’,4,4’−ビフェニルエーテルテトラ
カルボン酸又は粗3,3’,4,4’−ビフェニルエー
テルテトラカルボン酸二無水物を熱イオン交換水に溶解
して3,3’,4,4’−ビフェニルエーテルテトラカ
ルボン酸として結晶化し、濾過により不純物を除去せし
める工程、得られた結晶物を加熱処理せしる工程からな
ることを特徴とする高純度3,3’,4,4’−ビフェ
ニルエーテルテトラカルボン酸二無水物の製造方法。 8、加熱処理が高純度3,3’,4,4’−ビフェニル
エーテルテトラカルボン酸を温度150℃から260℃
までの間に加熱することを特徴とする特許請求の範囲第
7項の高純度の3,3’,4,4’−ビフェニルエーテ
ルテトラカルボン酸二無水物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9642990A JPH03294272A (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | 高純度のテトラカルボン酸二無水物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9642990A JPH03294272A (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | 高純度のテトラカルボン酸二無水物の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03294272A true JPH03294272A (ja) | 1991-12-25 |
Family
ID=14164756
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9642990A Pending JPH03294272A (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | 高純度のテトラカルボン酸二無水物の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03294272A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5504218A (en) * | 1994-04-05 | 1996-04-02 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Method for production pyromellitic anhydride |
JP2002069073A (ja) * | 2000-08-23 | 2002-03-08 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 高純度無水ピロメリット酸の製造方法 |
JP2005132772A (ja) * | 2003-10-30 | 2005-05-26 | New Japan Chem Co Ltd | ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物の製造方法 |
JP2006219397A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Jfe Chemical Corp | 9,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フルオレン二無水物の製造方法 |
US7202380B2 (en) | 2003-01-16 | 2007-04-10 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Production method of pyromellitic acid and pyromellitic anhydride |
JP2008297226A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | ピロメリット酸二無水物の製造方法 |
CN102911181A (zh) * | 2012-11-14 | 2013-02-06 | 曹永平 | 一种高纯度均苯四甲酸二酐的制备方法 |
-
1990
- 1990-04-13 JP JP9642990A patent/JPH03294272A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP4622233B2 (ja) * | 2003-10-30 | 2011-02-02 | 新日本理化株式会社 | ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物の製造方法 |
JP2006219397A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Jfe Chemical Corp | 9,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フルオレン二無水物の製造方法 |
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