JPH03290812A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPH03290812A JPH03290812A JP9030290A JP9030290A JPH03290812A JP H03290812 A JPH03290812 A JP H03290812A JP 9030290 A JP9030290 A JP 9030290A JP 9030290 A JP9030290 A JP 9030290A JP H03290812 A JPH03290812 A JP H03290812A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- track
- magnetic
- electrode patterns
- head
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 4
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 claims 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 18
- 101000606504 Drosophila melanogaster Tyrosine-protein kinase-like otk Proteins 0.000 abstract description 12
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 9
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000005674 electromagnetic induction Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録に用いる磁気ヘッドに関し、特に高記
録密度化に適した磁気抵抗効果型磁気ヘッドに関するも
のである。
録密度化に適した磁気抵抗効果型磁気ヘッドに関するも
のである。
磁気記録の高記録密度化を図るため、再生に磁気抵抗効
果素子を用いたヘッド(以下MRヘッドと記す)の狭ト
ラツク化の検討が進められている。
果素子を用いたヘッド(以下MRヘッドと記す)の狭ト
ラツク化の検討が進められている。
このヘッドでは、磁気抵抗効果を持つ軟磁性膜パターン
(以下MR素子と記す)を記録媒体面に対抗させ、パタ
ーン両端に接続した電極に電流を流して素子の抵抗変化
に基づく電圧変化を用いて信号を検出する。このMR素
子は、両側を軟磁性膜で挾んで磁気シールドされ、信号
検出の空間的な分解能の向上を図っている。
(以下MR素子と記す)を記録媒体面に対抗させ、パタ
ーン両端に接続した電極に電流を流して素子の抵抗変化
に基づく電圧変化を用いて信号を検出する。このMR素
子は、両側を軟磁性膜で挾んで磁気シールドされ、信号
検出の空間的な分解能の向上を図っている。
ところで、MR素子とその両端に設けた導体パターンは
シールド層で挾まれて記録媒体面に対抗する。このため
、シールド層を介して導体を記録媒体からの磁束が鎖交
し、この変化によって電磁誘導により導体に電圧が発生
する。媒体対抗面に露出する導体パターンは読みだしト
ラック幅よりも広いため、読みだしトラック以外の部分
からの磁束も拾い、この部分の信号は雑音になる。
シールド層で挾まれて記録媒体面に対抗する。このため
、シールド層を介して導体を記録媒体からの磁束が鎖交
し、この変化によって電磁誘導により導体に電圧が発生
する。媒体対抗面に露出する導体パターンは読みだしト
ラック幅よりも広いため、読みだしトラック以外の部分
からの磁束も拾い、この部分の信号は雑音になる。
このようなMRヘッノド隣接トラックによる雑音特性、
いわゆるオフトラック特性に関しては、例えば電子通信
学会磁気記録研究会報告 MR80−34に記載されて
いる。ここでは、オフトラック特性の向上に関して、シ
ールド層の形状が重要であることが指摘されており1例
えば一方のシールド層の幅を狭めMR素子感磁部の幅を
一致させることによって、改善されることが示されてい
る。
いわゆるオフトラック特性に関しては、例えば電子通信
学会磁気記録研究会報告 MR80−34に記載されて
いる。ここでは、オフトラック特性の向上に関して、シ
ールド層の形状が重要であることが指摘されており1例
えば一方のシールド層の幅を狭めMR素子感磁部の幅を
一致させることによって、改善されることが示されてい
る。
また、上下のシールド層の幅をMR素子のトラック幅に
揃えたMRヘッノドついて、特開昭54−49109に
開示されている。
揃えたMRヘッノドついて、特開昭54−49109に
開示されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記のようにトラック幅とシールドパターン幅を一致さ
て狭トラック化を進めていくためには、シールドパター
ンの幅も狭めていく必要がある。
て狭トラック化を進めていくためには、シールドパター
ンの幅も狭めていく必要がある。
シールドパターンを形成する軟磁性膜は一般的にパター
ン寸法の減少に伴って比透磁率は急激に低下する。パタ
ーン幅が5μm以下になると、シールド層として十分な
比透磁率を確保することが困難になる。このため、分解
能が低下し、高線記録密度を維持することが困難になる
。このためシールド層とトラック幅とを一致させて良好
なオフトラック特性を持つ狭トラツクヘッドを形成する
ことは極めて難しい。
ン寸法の減少に伴って比透磁率は急激に低下する。パタ
ーン幅が5μm以下になると、シールド層として十分な
比透磁率を確保することが困難になる。このため、分解
能が低下し、高線記録密度を維持することが困難になる
。このためシールド層とトラック幅とを一致させて良好
なオフトラック特性を持つ狭トラツクヘッドを形成する
ことは極めて難しい。
本発明の目的は、狭トラックMRヘッドにおいても、優
れたオフトラック特性及びシールド特性を持つヘッド構
造を提供することにある。
れたオフトラック特性及びシールド特性を持つヘッド構
造を提供することにある。
本発明では、トラック幅よりもシールドパターンを広く
したままにして比透磁率の低下を防止し。
したままにして比透磁率の低下を防止し。
このシールド層を介して電極パターンに鎖交する磁束を
低減するように電極パターンを配置することによって、
オフトラック特性の劣化を防止した。
低減するように電極パターンを配置することによって、
オフトラック特性の劣化を防止した。
鎖作する磁束を少なくするために、少なくともシールド
層に挾まれた領域において、感磁層の両端から引き出し
た電極パターンの方向が媒体面に対して垂直になるよう
に配置した。これにより、少なくとも隣接トラックから
の磁束は鎖交しないため誘導起電力によるオフトラック
特性の劣化は防止できる。また、少なくともシールド層
に挾まれた領域において感磁部の両端から引き出した電
極パターンと感磁部で作るループの面積をできるたけ小
さくなるように電極パターンを配置した。
層に挾まれた領域において、感磁層の両端から引き出し
た電極パターンの方向が媒体面に対して垂直になるよう
に配置した。これにより、少なくとも隣接トラックから
の磁束は鎖交しないため誘導起電力によるオフトラック
特性の劣化は防止できる。また、少なくともシールド層
に挾まれた領域において感磁部の両端から引き出した電
極パターンと感磁部で作るループの面積をできるたけ小
さくなるように電極パターンを配置した。
これにより、このループに鎖交する磁束の量を低減する
ことができるので、誘導起電力を減少することができ、
雑音特性を向上することができる。
ことができるので、誘導起電力を減少することができ、
雑音特性を向上することができる。
第1図を用いて本発明の第1の実施例を説明する。同図
は、MRヘッノド斜視図を示す。MR素素子部二つのシ
ールドパターン2,3の間に挾まれて形成されている。
は、MRヘッノド斜視図を示す。MR素素子部二つのシ
ールドパターン2,3の間に挾まれて形成されている。
MRR子両端には電極パターン4.5が形成されており
、シールド層に挾まれた範囲では媒体7の表面にほぼ垂
直になるように形成されている。ここで、シールドパタ
ーンに膜厚1μmのNiFe合金のパーマロイを用い、
形状はトラック幅方向の寸法が30μmで、高さは20
μmである。膜の比透磁率は2000である。MR素子
は膜厚40nmのパーマロイ(組成: 82 N i
−18F e )で、形状はトラック幅方向の寸法が2
5μmで、高さは8μmである。導体パターンには膜厚
0.3μmのCuを使用し、MR素子と接触する部分の
幅は2μmである。導体間隔は4μmで、この間隔がト
ラック幅に相当する。なお同図では省略したが、MR素
子を動作させるためには、素子に適切なバイアス磁界を
印加する手段が必要であり、この手段としては従来知ら
れているように、MR素子に隣接して軟磁性膜や永久磁
石膜を設けるバイアス方法など1種々のバイアス法を用
いることができる。MR素子とシールド層の間隔は両側
とも0.4μmとなるように形成した。
、シールド層に挾まれた範囲では媒体7の表面にほぼ垂
直になるように形成されている。ここで、シールドパタ
ーンに膜厚1μmのNiFe合金のパーマロイを用い、
形状はトラック幅方向の寸法が30μmで、高さは20
μmである。膜の比透磁率は2000である。MR素子
は膜厚40nmのパーマロイ(組成: 82 N i
−18F e )で、形状はトラック幅方向の寸法が2
5μmで、高さは8μmである。導体パターンには膜厚
0.3μmのCuを使用し、MR素子と接触する部分の
幅は2μmである。導体間隔は4μmで、この間隔がト
ラック幅に相当する。なお同図では省略したが、MR素
子を動作させるためには、素子に適切なバイアス磁界を
印加する手段が必要であり、この手段としては従来知ら
れているように、MR素子に隣接して軟磁性膜や永久磁
石膜を設けるバイアス方法など1種々のバイアス法を用
いることができる。MR素子とシールド層の間隔は両側
とも0.4μmとなるように形成した。
本実施例では、シールド層の幅がトラック幅よりも広く
できるため、トラック幅の減少にともなうシールド層の
比誘磁率の減少がなく1分解能の低下がなかった。また
、隣接トラックから生した磁束は直上のシールド層に吸
い込まれるが、導体パターンが媒体面に垂直なため記録
トラックからの磁束以外の磁束はほとんど電極パターン
を鎖交しない。このためオフトラック雑音を増加させる
ことなく、狭トラツク化を図ることができた。
できるため、トラック幅の減少にともなうシールド層の
比誘磁率の減少がなく1分解能の低下がなかった。また
、隣接トラックから生した磁束は直上のシールド層に吸
い込まれるが、導体パターンが媒体面に垂直なため記録
トラックからの磁束以外の磁束はほとんど電極パターン
を鎖交しない。このためオフトラック雑音を増加させる
ことなく、狭トラツク化を図ることができた。
第2図に第2の実施例を示す。MR素子1はシールドパ
ターン2,3で挾まれ、MR素子両端には電極パターン
4,5が形成されている。電極パターン4は素子から直
線的に延び、電極パターン5はMR素子との接続部で9
0度曲がった後、電極パターン4に平行に形成されてい
る。各パターンの材料、膜厚、形状は第1の実施例と同
じである。本実施例の場合、電極パターン4,5は媒体
面に平約で隣接トラック上でもシールドパターンの間に
挟まれているため、隣接トラックからの磁束が鎖交する
。しかしながら、二つの電極パターンが近接して形成さ
れているため、感磁部と電極パターンで形成されるルー
プの面積が小さい。このため、ループ内を通る磁束少な
く、隣接トラックからの磁束の変化による雑音はほんど
検出されなかった。
ターン2,3で挾まれ、MR素子両端には電極パターン
4,5が形成されている。電極パターン4は素子から直
線的に延び、電極パターン5はMR素子との接続部で9
0度曲がった後、電極パターン4に平行に形成されてい
る。各パターンの材料、膜厚、形状は第1の実施例と同
じである。本実施例の場合、電極パターン4,5は媒体
面に平約で隣接トラック上でもシールドパターンの間に
挟まれているため、隣接トラックからの磁束が鎖交する
。しかしながら、二つの電極パターンが近接して形成さ
れているため、感磁部と電極パターンで形成されるルー
プの面積が小さい。このため、ループ内を通る磁束少な
く、隣接トラックからの磁束の変化による雑音はほんど
検出されなかった。
第3図に第3の実施例を示す。MR素子lはシールドパ
ターン2,3で挾まれ、MR素子両端には電極パターン
4,5が形成されている。これら二つの電極は絶縁層6
を介して積層されている。
ターン2,3で挾まれ、MR素子両端には電極パターン
4,5が形成されている。これら二つの電極は絶縁層6
を介して積層されている。
各パターンの材料、膜厚、形状は第1の実施例と同じで
ある。電極間の絶縁層6にはスパッタ法により形成した
膜厚0.2μmの二酸化珪素を使用した。本実施例の場
合も第2の実施例と同様に、隣接トラックからの磁束は
電極パターン4,5に鎖交する。しかしながら、電極4
,5と感磁部で形成するループの面積は極めて小さいた
め、この部分で発生する誘導起電力は検出できず、良好
なオフトラック特性が得られた。
ある。電極間の絶縁層6にはスパッタ法により形成した
膜厚0.2μmの二酸化珪素を使用した。本実施例の場
合も第2の実施例と同様に、隣接トラックからの磁束は
電極パターン4,5に鎖交する。しかしながら、電極4
,5と感磁部で形成するループの面積は極めて小さいた
め、この部分で発生する誘導起電力は検出できず、良好
なオフトラック特性が得られた。
なお、上記の第2.第3の実施例では第1に実施例と異
なり、記録トラックからの磁束でMR素子に生じた誘導
電圧も相殺することができる。
なり、記録トラックからの磁束でMR素子に生じた誘導
電圧も相殺することができる。
般に磁気抵抗による電圧変化と誘導による電圧変化は位
相が異なる。このため、狭トラック化によって信号電圧
が減少すると誘導電圧による信号波形の変化が顕著にな
り、波形歪の一因となる。第2、第3の実施例では信号
トラックによる誘導電圧も相殺できるため波形歪を低減
することもできる。
相が異なる。このため、狭トラック化によって信号電圧
が減少すると誘導電圧による信号波形の変化が顕著にな
り、波形歪の一因となる。第2、第3の実施例では信号
トラックによる誘導電圧も相殺できるため波形歪を低減
することもできる。
なお、先に述尺た第1の実施例において、電極パターン
と感磁部で形成する面積が小さくなるように、M R素
子の感磁部に接続後電極パターン4゜5を互いに近づく
ように折り曲げて互いに平行になるように配置すること
もできる。この場合、媒体面の記録トラック上の磁束の
変化を含めて誘導起電力の低減を図ることができる。
と感磁部で形成する面積が小さくなるように、M R素
子の感磁部に接続後電極パターン4゜5を互いに近づく
ように折り曲げて互いに平行になるように配置すること
もできる。この場合、媒体面の記録トラック上の磁束の
変化を含めて誘導起電力の低減を図ることができる。
以上述べてきたように、本発明によればトラックMRヘ
ッドにおいても、優れたシールド特性およびオフトラッ
ク特性を持つヘッド構造を提供することができた。
ッドにおいても、優れたシールド特性およびオフトラッ
ク特性を持つヘッド構造を提供することができた。
第1図は第1の実施例を示すMRヘッノド斜視図。第2
図は第2の実施例を示すMRヘッノド斜視図。第3図は
第3の実施例を示すMRヘッノド斜視図。 1・・M R素子、2,3・・シールドパターン、4゜
5・・−電極パターン、6・・・絶縁層。
γ−へ“ 、′)
図は第2の実施例を示すMRヘッノド斜視図。第3図は
第3の実施例を示すMRヘッノド斜視図。 1・・M R素子、2,3・・シールドパターン、4゜
5・・−電極パターン、6・・・絶縁層。
γ−へ“ 、′)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、少なくとも磁気抵抗効果素子の磁気シールドを行う
軟磁性層に両側から挾まれた部分において、磁気シール
ドパターンの境界,磁気抵抗効果素子、および素子の両
端に接続された出力検出用の二つの導体で囲まれる部分
の面積を、最小になるように二つの導体パターンを配置
したことを特徴とする磁気ヘッド。 2、少なくとも磁気抵抗効果素子の磁気シールドを行う
軟磁性層に両側から挾まれた部分において、出力検出用
の二つの導体の間隙がトラック幅以下になるように形成
されていることを特徴とする磁気ヘッド。 3、少なくとも磁気抵抗効果素子の磁気シールドを行う
軟磁性層に両側から挾まれた範囲において、出力検出用
の二つの導体の少なくとも一部分が、平行でかつ電気的
絶縁に必要な空隙を残して隣接して形成されていること
を特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9030290A JPH03290812A (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9030290A JPH03290812A (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03290812A true JPH03290812A (ja) | 1991-12-20 |
Family
ID=13994742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9030290A Pending JPH03290812A (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03290812A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05205223A (ja) * | 1992-01-28 | 1993-08-13 | Tdk Corp | 薄膜磁気ヘッド |
EP0650156A1 (en) * | 1993-10-21 | 1995-04-26 | Seagate Technology International | Contact scheme for minimizing inductive pickup in magnetoresistive read heads |
-
1990
- 1990-04-06 JP JP9030290A patent/JPH03290812A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05205223A (ja) * | 1992-01-28 | 1993-08-13 | Tdk Corp | 薄膜磁気ヘッド |
EP0650156A1 (en) * | 1993-10-21 | 1995-04-26 | Seagate Technology International | Contact scheme for minimizing inductive pickup in magnetoresistive read heads |
US5563753A (en) * | 1993-10-21 | 1996-10-08 | Seagate Technology, Inc. | Contact scheme for minimizing inductive pickup in magnetoresistive read heads |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4803580A (en) | Double-gap magnetoresistive head having an elongated central write/shield pole completely shielding the magnetoresistive sensor strip in the read gap | |
US4967298A (en) | Magnetic head with magnetoresistive sensor, inductive write head, and shield | |
US4891725A (en) | Magnetoresistive sensor having antiferromagnetic exchange-biased ends | |
EP0484474B1 (en) | Shorted dual element magnetoresistive reproduce head exhibiting high density signal amplification | |
JPH0660330A (ja) | 高密度信号増幅を示すシールドされた2素子磁気抵抗再生ヘッド | |
US5260652A (en) | Magnetoresistive sensor with electrical contacts having variable resistive regions for enhanced sensor sensitivity | |
US5808843A (en) | Magnetoresistance effect reproduction head | |
EP0573155A2 (en) | Magnetoresistive transducer conductor configuration | |
JPH03290812A (ja) | 磁気ヘツド | |
JPH05205223A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
JP2718242B2 (ja) | 磁気抵抗効果ヘッド | |
JPH0375925B2 (ja) | ||
JPH07153036A (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッド | |
JP2508475B2 (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘツド | |
JP2596010B2 (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッド | |
JPS61255525A (ja) | マルチトラツク磁気抵抗型磁気ヘツド | |
JPS61196418A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
JPH05266437A (ja) | 磁気抵抗効果型ヘッド | |
JPH0810486B2 (ja) | 磁気抵抗型磁気ヘッド | |
JPH0325714A (ja) | 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド | |
JPH01116912A (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッド | |
JPH06309630A (ja) | 磁気抵抗型磁気ヘッド | |
JPH0757224A (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッド及び複合型磁気ヘッド | |
JPH07110921A (ja) | 磁気抵抗効果型薄膜ヘッド | |
JPH06119620A (ja) | 磁気抵抗効果ヘッド |