JPH03283429A - Cleaning device - Google Patents

Cleaning device

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Publication number
JPH03283429A
JPH03283429A JP8076690A JP8076690A JPH03283429A JP H03283429 A JPH03283429 A JP H03283429A JP 8076690 A JP8076690 A JP 8076690A JP 8076690 A JP8076690 A JP 8076690A JP H03283429 A JPH03283429 A JP H03283429A
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JP
Japan
Prior art keywords
unit
substrate
water
air
cooling
Prior art date
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Pending
Application number
JP8076690A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiharu Takizawa
芳治 滝沢
Osamu Isoo
磯尾 修
Isamu Akiba
勇 秋葉
Teruo Moriyama
守山 照雄
Seiji Fujikura
誠司 藤倉
Tomoyoshi Ogoshi
大越 智義
Hiroshi Yamanokuchi
山之口 宏
Masamitsu Naoi
直井 正光
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP8076690A priority Critical patent/JPH03283429A/en
Publication of JPH03283429A publication Critical patent/JPH03283429A/en
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Abstract

PURPOSE:To enable a substrate to be cleaned up without using fluorocarbon by a method wherein a carrying-in unit, a spraying pure water cleaning up unit, an air-knife drying up unit, a UV processing unit and a cooling and carrying-out unit are arranged along the carrying direction. CONSTITUTION:A substrate to be cleaned up is carried from a carrying-in unit 2 to a cleaning device 1 by a roller conveyer. The surface of the carried-in substrate 14 is cleaned up by 172c of water ultrasonic-excited in e.g. 1.1MHz by ultrasonic sprayer 62 in a pure water cleaning up unit 3 to be discharged. Next, the cleaned up substrate 14 is carried in an air-knife drying up unit 4 and then the dried up substrate 14 is carried in a UV processing unit 5 to be irradiated with the ultraviolet rays emitted from a low pressure mercury lamp 92 simultaneously exposed to ozone and oxygen radical produced from the oxygen and ultraviolet rays in the atmospheric air. Through these procedures, the organic pollutant adhering to the substrate 4 can be removed. Finally, the UV processed substrate 14 is carried in a cooling and carrying-out unit 6.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電気製品の部品を高精密に洗浄する洗浄装置
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a cleaning device for cleaning parts of electrical appliances with high precision.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来のものは、洗浄ユニットとしてフロンを使用してい
た。フロンは、オゾン層に悪影響を与えるものである。
Conventional products used Freon as a cleaning unit. Freon has a negative impact on the ozone layer.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

本発明はフロンを使用しないでよく洗浄のできるものを
提供することを目的とする。
The object of the present invention is to provide a device that can be easily cleaned without using Freon.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明は、搬入ユニット、スプレー式純水洗浄ユニット
、エアナイフ乾燥ユニット、UV処理ユニット、冷却搬
出ユニット、被洗浄物の搬送方向に沿って配置したこと
を特徴とする。
The present invention is characterized in that a carry-in unit, a spray type pure water cleaning unit, an air knife drying unit, a UV processing unit, a cooling carry-out unit, and a carry-in unit are arranged along the conveyance direction of the object to be cleaned.

〔作用〕[Effect]

フロンを使用せずとも1、スプレー式洗浄ユニットでよ
く洗浄できるものである。
1. It can be cleaned well with a spray type cleaning unit without using Freon.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例を第1図より第31図により説
明する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 31.

第1図、第2図の洗浄装置1は搬入ユニット2゜純水洗
浄ユニット3.エアナイフ乾燥ユニット4゜UV処理ユ
ニット5.冷却搬出ユニット6、操作盤7.超音波発振
器台9とダクト11.ダクト12より構成される。超音
波発振器台9の内部には純水洗浄ユニット3内部のUS
 (超音波)スプレー62に高周波電圧を付与する超音
波発振器10が配置される。又、搬入ユニット2.エア
ナイフ乾燥ユニット4.冷却搬出ユニット6の上部には
、フィルタ濾過にて清浄化された空気を送風するクリー
ンユニット8が配置される。tJV処理ユニット5後方
に設けられたダクト12にはUV処理ユニット5より発
生するオゾンを分解するオゾンキラー13が備えられる
。洗浄装置1の前面には非常灯14が備えられる。
The cleaning device 1 shown in FIGS. 1 and 2 includes a loading unit 2, a pure water cleaning unit 3. Air knife drying unit 4° UV treatment unit 5. Cooling unloading unit 6, operation panel 7. Ultrasonic oscillator stand 9 and duct 11. It is composed of a duct 12. Inside the ultrasonic oscillator table 9, there is a US inside the pure water cleaning unit 3.
An ultrasonic oscillator 10 that applies a high frequency voltage to the (ultrasonic) spray 62 is arranged. Also, carry-in unit 2. Air knife drying unit 4. A clean unit 8 that blows air that has been purified by filter filtration is arranged above the cooling carry-out unit 6. A duct 12 provided behind the tJV treatment unit 5 is equipped with an ozone killer 13 that decomposes ozone generated by the UV treatment unit 5. An emergency light 14 is provided at the front of the cleaning device 1.

洗浄を受ける基板14は搬入ユニット2より洗浄装置1
へ搬入されローラコンベアにより搬送される。この搬入
方法は人手にて行われる他、上流装置からの自動搬出に
伴って行われる場合もある。
The substrate 14 to be cleaned is transferred from the loading unit 2 to the cleaning device 1.
and transported by a roller conveyor. This carrying-in method may be carried out manually, or may be carried out in conjunction with automatic carrying-out from an upstream device.

搬入された基板14の表面は純水洗浄ユニット3内の超
音波スプレー62により例えば1.1MHzにて超音波
励振された水172Cを吐出され、洗浄を受ける。又裏
面は裏面用シャワーノズル68より吐出される水172
Cにより洗浄され、仕上シャワーノズル64より吐出さ
れる水172bにより洗浄される。これにより基板14
上に付着していた異物汚れは除去される。洗浄を受けた
基板14はエアナイフ乾燥ユニット4へ搬送され、ここ
でエアナイフから吐出する清浄エアによって乾燥される
。乾燥時に発生する水のミストはダクト11により排出
される。乾燥された基板14はUV処理ユニット5に搬
送され、ここで低圧水銀灯92より発光する紫外線の照
射を受け、同時に大気中酸素と紫外線により生ずるオゾ
ン及び酸素ラジカルにさらされる。これにより基板14
上に付着していた有機物汚れは除去される。発生したオ
ゾンはダクト12へ排気される時、オゾンキラー13を
通過する事で酸素に分解される。それゆえダクト12へ
排気される時のオゾン濃度は0.lppm以下となる。
The surface of the loaded substrate 14 is cleaned by discharging water 172C ultrasonically excited at, for example, 1.1 MHz by the ultrasonic spray 62 in the pure water cleaning unit 3. Also, on the back side, water 172 is discharged from the shower nozzle 68 for the back side.
C and water 172b discharged from the finishing shower nozzle 64. As a result, the substrate 14
Foreign matter and dirt attached to the top are removed. The cleaned substrate 14 is transported to the air knife drying unit 4, where it is dried by clean air discharged from the air knife. Water mist generated during drying is discharged through the duct 11. The dried substrate 14 is transported to the UV processing unit 5, where it is irradiated with ultraviolet light emitted from a low-pressure mercury lamp 92, and is simultaneously exposed to atmospheric oxygen and ozone and oxygen radicals generated by the ultraviolet light. As a result, the substrate 14
Any organic dirt attached to the surface will be removed. When the generated ozone is exhausted to the duct 12, it passes through the ozone killer 13 and is decomposed into oxygen. Therefore, the ozone concentration when exhausted into the duct 12 is 0. 1ppm or less.

UV処理を受けた基板14は、冷却搬出ユニット6へ搬
送される。前工程のUV処理ユニット5では低圧水銀灯
92より紫外線と同時に赤外線が発生する。それゆえ基
板14の温度はUV処理ユニット5に搬送される時に例
えば23℃であったとしてもUV処理ユニット5内部で
は最大50℃以上となる。一方洗浄された基板14はそ
の後工程にて成膜、塗膜工程へ続くが、それらの工程で
は、温度が重要な管理パラメータとなる。それ故、冷却
搬出ユニット6にて目的とする温度に制御される。これ
らの動作は全ては自動又は手動で行われ、その動作の操
作は操作盤7にて行われる。又、洗浄装置1の上部にク
リーンユニット8を配置する事により、基板14の搬送
路上を常に清浄な状態とする事が出来、1例として搬送
ユニット2.冷却搬出ユニット6の基板14の搬送面に
おいて0.3μm以上の塵埃が存在しない環境となる。
The substrate 14 that has undergone the UV treatment is transported to the cooling and unloading unit 6. In the UV treatment unit 5 in the previous step, a low-pressure mercury lamp 92 generates infrared rays at the same time as ultraviolet rays. Therefore, even if the temperature of the substrate 14 is, for example, 23° C. when it is transported to the UV processing unit 5, the temperature inside the UV processing unit 5 reaches a maximum of 50° C. or more. On the other hand, the cleaned substrate 14 continues to film formation and coating processes in subsequent steps, and temperature is an important control parameter in these steps. Therefore, the temperature is controlled to the target temperature by the cooling and carrying-out unit 6. All of these operations are performed automatically or manually, and the operations are performed using the operation panel 7. Furthermore, by arranging the clean unit 8 above the cleaning device 1, the transport path of the substrate 14 can always be kept in a clean state. The environment is such that there is no dust of 0.3 μm or more on the transfer surface of the substrate 14 of the cooling carry-out unit 6.

特にエアナイフ乾燥では2組のエアナイフ81の間にし
きり板43を導入する事で、前段エアナイフ81で発生
するミストが後工程に流れる事が防止出来る。それゆえ
エアナイフ乾燥ユニット4においては0.3μm以上の
塵埃がIQの大気中1個以下の環境となる。
Particularly in air knife drying, by introducing the partition plate 43 between the two sets of air knives 81, it is possible to prevent the mist generated by the front stage air knife 81 from flowing to the subsequent process. Therefore, in the air knife drying unit 4, the environment is such that there is less than one dust particle of 0.3 μm or more in the IQ atmosphere.

本実施例によれば、基板14は塵埃の少ない環境におい
て、1 、1 M Hz  の高周波超音波励振された
水172aの吐出を受ける為、その高周波超音波により
生ずる約40万Gの加速度により基板14表面に付着し
た0、3μm以上の粒子が除去され、引続き、速かに乾
燥される為、基板14上に水シミのない清浄面を作り、
引続きUV処理を受け、表面に付着有機物のない清浄面
を作り、後工程に適した温度に制御する事が可能となる
。それ故、本洗浄装@1は、後工程に適した表面清浄度
と温度を持つ基板14を作成し、後工程装置に供給する
事が可能となるという効果がある。1例として、本洗浄
装置1で270X200のサイズの液晶用ガラス基板の
洗浄を行った場合、付着異物数10個/枚以下、接触角
5°以下温度23℃±1℃となる。
According to this embodiment, since the substrate 14 is discharged from the water 172a excited by high-frequency ultrasonic waves of 1.1 MHz in an environment with little dust, the substrate 14 is heated by an acceleration of about 400,000 G generated by the high-frequency ultrasonic waves. Particles of 0.3 μm or more attached to the surface of the substrate 14 are removed and subsequently dried quickly, creating a clean surface without water stains on the substrate 14.
Subsequently, it undergoes UV treatment to create a clean surface free of organic matter adhering to the surface, making it possible to control the temperature to a level suitable for post-processing. Therefore, this cleaning device @1 has the effect of making it possible to create a substrate 14 with surface cleanliness and temperature suitable for the post-process and supplying it to the post-process equipment. As an example, when cleaning a liquid crystal glass substrate with a size of 270×200 using the present cleaning apparatus 1, the number of adhered foreign substances is 10 or less, the contact angle is 5° or less, and the temperature is 23° C.±1° C.

第3図はガラス板洗浄装置の前半コンベア構造の正面図
で、21は搬入ユニットコンベアを示し、22は純水洗
浄ユニットコンベアを示し、23はエアナイフ乾燥ユニ
ットコンベアを示す。第4図はガラス板洗浄装置の後半
コンベア構造の正面図で、31はUv処理ユニットコン
ベアを示し、32は冷却搬出ユニットコンベアを示す。
FIG. 3 is a front view of the first half conveyor structure of the glass plate cleaning apparatus, where 21 shows a carry-in unit conveyor, 22 shows a pure water washing unit conveyor, and 23 shows an air knife drying unit conveyor. FIG. 4 is a front view of the latter half conveyor structure of the glass plate cleaning apparatus, where 31 indicates a UV treatment unit conveyor, and 32 indicates a cooling and unloading unit conveyor.

第5図は第3図の上面図、第6図は第4図の上面図であ
る。各ユニットには各々駆動用のモータを備えている。
5 is a top view of FIG. 3, and FIG. 6 is a top view of FIG. 4. Each unit is equipped with a driving motor.

第5図の41は搬入ユニットコンベアの駆動モータを示
し、24は純水洗浄ユニットコンベアの駆動モータを示
し、25はエアナイフ乾燥ユニットコンベアの駆動モー
タを示す。また、第4図の33はUV処理ユニットコン
ベアの駆動モータを示し34は冷却搬送ユニットコンベ
アの駆動モータを示す。第3図の26aは連結シャフト
、27は回転伝達用のタイミングベルト、28は送りロ
ーラ回転伝達用のねじ歯車である。第13図は第5図の
A−A断面である。第14図は第5図のB−B断面であ
る。第15図は第5図のC−c断面である。第16図は
第6図のD−D断面である。第17図(その1)は第6
図のE−E断面である。第31図は第6図のF−F断面
である。
In FIG. 5, reference numeral 41 indicates a drive motor for the carry-in unit conveyor, 24 indicates a drive motor for the pure water cleaning unit conveyor, and 25 indicates a drive motor for the air knife drying unit conveyor. Further, numeral 33 in FIG. 4 indicates a drive motor for the UV processing unit conveyor, and numeral 34 indicates a drive motor for the cooling conveyance unit conveyor. In FIG. 3, 26a is a connecting shaft, 27 is a timing belt for transmitting rotation, and 28 is a screw gear for transmitting rotation of a feed roller. FIG. 13 is a cross section taken along the line AA in FIG. FIG. 14 is a cross section taken along line BB in FIG. 5. FIG. 15 is a cross section taken along line C-c in FIG. FIG. 16 is a cross section taken along line DD in FIG. 6. Figure 17 (Part 1) is the 6th
It is a cross section taken along line E-E in the figure. FIG. 31 is a cross section taken along line FF in FIG. 6.

第5図において、搬送ローラ29aは第13図の121
シヤフトにねじ固定され、このシャフトの反対側にねじ
固定されている歯車122は第14図の131のアイド
ルギヤと噛み合っている。
In FIG. 5, the conveyance roller 29a is 121 in FIG.
A gear 122 screwed to the shaft and screwed to the opposite side of the shaft meshes with an idle gear 131 in FIG.

歯車122と歯車131が第5図に示す如く交互に噛み
合い搬送ローラ29aをそれぞれ同一速度で回転させる
。第5図の連結シャフト42で両サイドの回転伝達を可
能とし、さらにこの連結シャフト42はモータ41と接
続されている。第3図の搬送ローラ29bは第15図の
シャフト141にねじ固定され、このシャフトの反対側
にねじ固定されているねじ歯車142はねじ歯車143
と噛み合い連結シャフト26aに接続されている。
As shown in FIG. 5, the gears 122 and 131 mesh alternately to rotate the conveying rollers 29a at the same speed. A connecting shaft 42 shown in FIG. 5 enables rotation transmission on both sides, and this connecting shaft 42 is further connected to a motor 41. The conveyance roller 29b in FIG. 3 is screwed to the shaft 141 in FIG. 15, and the screw gear 142 screwed to the opposite side of the shaft is the screw gear 143.
and is connected to the connecting shaft 26a.

この連結シャフト26aはタイミングベルト27を介し
26b駆動シヤフトに連結されており、また駆動シャフ
ト26bにねじ固定されている歯車24aはモータ24
のギヤ24bと噛み合っている。また第5図の43のタ
イミングベルトで両サイドを連結している。第3図のエ
アナイフ乾燥ユニット23および第4図の冷却ユニット
32も同様な方式で連結されている。第4図のUV処理
ユニット31は同様な方式で第16図の151a搬送ロ
ーラを回転させるための連結の他に第17図(その1)
の151bのワークサイド方向案内用搬送ローラを備え
ており、この搬送ローラ151bはシャフト161を介
し162ギヤで連結シャフト152に接続され、さらに
タイミングベルト153で駆動シャフト26bに接続さ
れている。
This connecting shaft 26a is connected to a drive shaft 26b via a timing belt 27, and a gear 24a screwed to the drive shaft 26b is connected to a motor 24.
The gear 24b meshes with the gear 24b. Also, both sides are connected by a timing belt 43 in FIG. The air knife drying unit 23 of FIG. 3 and the cooling unit 32 of FIG. 4 are connected in a similar manner. The UV processing unit 31 in FIG. 4 is connected in a similar manner to rotate the transport roller 151a in FIG.
The conveyor roller 151b is connected to a connecting shaft 152 via a shaft 161 with a 162 gear, and further connected to a drive shaft 26b by a timing belt 153.

搬送ローラ151aおよび152aの材質はセラミンク
である。
The material of the conveyance rollers 151a and 152a is ceramic.

第7図、第8図に示す純水洗浄ユニット3は洗浄槽61
の中に搬送用のローラ29と超音波スプレー62と裏面
用シャワーノズル68と仕上シャワーノズル64が配置
された構成である。仕上シャワーノズル64は仕上水供
給管63の上に配置されている。超音波スプレー62は
固定具66によりガイドシフト65と接続されている。
The pure water cleaning unit 3 shown in FIGS. 7 and 8 has a cleaning tank 61.
In this configuration, a conveying roller 29, an ultrasonic spray 62, a back shower nozzle 68, and a finishing shower nozzle 64 are arranged. The finishing shower nozzle 64 is arranged above the finishing water supply pipe 63. The ultrasonic spray 62 is connected to the guide shift 65 by a fixture 66.

ガイドシャフト65は、可動固定具67に固定されてお
り、この可能固定具67は扇状に動く事が出来る。
The guide shaft 65 is fixed to a movable fixture 67, which can be moved in a fan-like manner.

洗浄槽61の最も低い位置には排水口69は設けられて
いる。超音波スプレー62は必ずしも洗浄を行う基板1
4の全幅に対し1台にて洗浄を行うに必要なスプレー吐
出幅を持つものではない。それ故、基板14の全幅を洗
浄する為、超音波スプレー62を複数個配置する。本例
では基板14の幅270mmに対し、超音波スプレー6
2を7個配置したものであるが、超音波スプレー62の
洗浄に有効な吐出幅がさらに広い場合、用いる数量はこ
の限りではない。超音波スプレー62にて水172cに
超音波を励振させる為の、超音波発振器10で発振した
電圧を付与するケーブルは、穴71にて純水洗浄ユニッ
ト3の外部から内部へ導かれる。
A drain port 69 is provided at the lowest position of the cleaning tank 61. The ultrasonic spray 62 does not necessarily apply to the substrate 1 to be cleaned.
It does not have the spray discharge width necessary for cleaning the entire width of 4 with one unit. Therefore, in order to clean the entire width of the substrate 14, a plurality of ultrasonic sprays 62 are arranged. In this example, the width of the substrate 14 is 270 mm, and the ultrasonic spray 6
However, if the effective discharge width for cleaning of the ultrasonic spray 62 is wider, the number used is not limited to this. A cable for applying voltage generated by the ultrasonic oscillator 10 to excite ultrasonic waves in the water 172c by the ultrasonic spray 62 is guided from the outside to the inside of the pure water cleaning unit 3 through the hole 71.

第18図に示す様に洗浄槽61の下方には回収タンク1
76が備えられている。この回収タンク176には本訴
処理装置171へ回収水172cを送る方のポンプ17
9が回収口69aを介して接続されている。又、ポンプ
179への送水命令及び各種の情報表示を行う為の水位
センサ175aが備えられており、必要な水位に相当す
る端子(175c、175d、175e)が備えられて
いる。
As shown in FIG. 18, a recovery tank 1 is located below the cleaning tank 61.
76 are provided. This recovery tank 176 is equipped with a pump 17 that sends recovered water 172c to the treatment equipment 171 in the present lawsuit.
9 is connected via the collection port 69a. Further, a water level sensor 175a is provided for instructing the pump 179 to send water and displaying various information, and terminals (175c, 175d, 175e) corresponding to the required water level are provided.

又、タンク中の水177bを外部へ放出する為のバルブ
177aが備えられている。本訴処理装置171は供給
水178aと回収水172Gを受入れ、水172aと水
172b及び排水178bを放出する。この本訴処理装
置171は水172aと水172bの水温、比抵抗値、
異物数、生菌数を制御する事が出来、水172aと水1
73bの制御範囲は必ずしも同じものではない。1例と
して供給水178aが水温16℃、比抵抗値5MΩ1以
上、0.1μm以上異物数10個/10mQ以下の時、
水172bを水温23℃、比抵抗5MΩ1以上、0.1
 μmm以上異物数1儒I M Q am以上.0.5
pm以上異物数1o個/1 0 m Q以下とする事が
出来る。特に水172aが供給される超音波スプレー6
2は水温が変化する事で共振周波数が変わる為、水温を
±2℃の範囲で制御する必要があり、この水再生装置は
その機能を有する.水172bはバルブ173b。
Further, a valve 177a is provided for discharging water 177b in the tank to the outside. The treatment device 171 receives supplied water 178a and recovered water 172G, and discharges water 172a, water 172b, and waste water 178b. This main claim processing device 171 has water temperature and specific resistance value of water 172a and water 172b,
The number of foreign substances and viable bacteria can be controlled, and water 172a and water 1
The control ranges of 73b are not necessarily the same. As an example, when the supply water 178a has a water temperature of 16°C, a specific resistance value of 5 MΩ1 or more, and a number of foreign objects of 0.1 μm or more and 10 pieces/10 mQ or less,
Water 172b, water temperature 23℃, specific resistance 5MΩ1 or more, 0.1
The number of foreign objects larger than μmm is 1 I M Q am or larger. 0.5
It is possible to reduce the number of foreign particles to 10 particles/10 mQ or more. In particular, the ultrasonic spray 6 to which water 172a is supplied
2. Since the resonant frequency changes as the water temperature changes, it is necessary to control the water temperature within a range of ±2°C, and this water regeneration device has that function. Water 172b is provided by valve 173b.

173cを経て仕上洗浄用ノズル64へ供給される。水
172aはバルブ173a,流量計174c。
It is supplied to the finish cleaning nozzle 64 via 173c. Water 172a has a valve 173a and a flow meter 174c.

流量バルブ174b,流量センサ174cを経て超音波
スプレー62へ供給される。ここで流量バルブ174b
及び流量計174aは超音波スプレー62へ供給する水
温を制御する為のものであり。
It is supplied to the ultrasonic spray 62 via a flow valve 174b and a flow sensor 174c. Here, the flow rate valve 174b
A flow meter 174a is used to control the temperature of water supplied to the ultrasonic spray 62.

1例として6〜I Q Q /winの範囲で制御する
As an example, it is controlled within a range of 6 to IQQ/win.

又流量センサ174cは流量の異常を検知して超音波発
振器10の発振を止め、超音波スプレー62の破損を防
止するものであり、1例として6Q/win以下の流量
で、異常信号を発生させる。
Further, the flow rate sensor 174c detects an abnormality in the flow rate and stops the oscillation of the ultrasonic oscillator 10 to prevent damage to the ultrasonic spray 62. For example, at a flow rate of 6Q/win or less, an abnormal signal is generated. .

水172aは又バルブ173a,通過後バルブ173d
を経て裏面用シャワーノズル68へ供給される。超音波
スプレー62,仕上用シャワーノズル64,裏面用シャ
ワーノズル68より吐出された水は洗浄槽61底部に流
れ排水口69より回収タンク176へ流れるが排水口6
9が封止され排水が停止し、洗浄槽61に水が満ちた場
合は液面計175bによって検知され、警告信号が発せ
られる。
Water 172a also passes through valve 173a, then valve 173d
The water is supplied to the back shower nozzle 68 through the. Water discharged from the ultrasonic spray 62, the finishing shower nozzle 64, and the back shower nozzle 68 flows to the bottom of the cleaning tank 61 and flows from the drain port 69 to the recovery tank 176.
9 is sealed and drainage stops, and when the cleaning tank 61 is filled with water, it is detected by the liquid level gauge 175b and a warning signal is issued.

搬入ユニット2より搬送された基板14の表面は超音波
スプレー62で超音波励振した水172aの洗浄を受け
る。ローラー29により搬送される間に複数回の洗浄を
受け、基板14上の異物は除去される。この時、基板1
4裏面も下方の裏面用シャワーノズル68より吐出する
水172aにより洗浄される。さらに搬送され仕上洗浄
シャワーノズル64より吐出する水172bにより洗浄
される。1例として水172aより水172bの純度を
上げた場合、より効果的な仕上洗浄が行える。
The surface of the substrate 14 transferred from the carry-in unit 2 is cleaned with water 172a ultrasonically excited by an ultrasonic spray 62. The substrate 14 is washed multiple times while being conveyed by the rollers 29, and foreign matter on the substrate 14 is removed. At this time, board 1
4 back surface is also washed with water 172a discharged from the lower back surface shower nozzle 68. It is further transported and washed with water 172b discharged from the finish washing shower nozzle 64. For example, when the purity of water 172b is higher than that of water 172a, more effective final cleaning can be performed.

吐出されて水は前述の様に水再生装置171へ送られる
The discharged water is sent to the water regeneration device 171 as described above.

本実施例によれば、高周波超音波励振を行う超音波スプ
レー62に最適に温調された水172aで洗う事で異物
を効果的に除去出来る。又、基板14の全力を洗うに必
要な超音波スプレーが多数の場合、全吐出水量は多量と
なり、1例として60Q/■inにもなるが水再生装置
171を用いる事でその水の消費量は供給水178aの
みとなる.供給水178aの消費量は1例として5Q/
winである。又、水再生装置171を1個々の純水洗
浄ユニット3に備える事でその寸法を,小型化出来る。
According to this embodiment, foreign matter can be effectively removed by washing with water 172a whose temperature is optimally controlled using the ultrasonic spray 62 that excites high-frequency ultrasonic waves. In addition, if a large number of ultrasonic sprays are required to fully wash the substrate 14, the total amount of water discharged will be large, for example, 60 Q/inch, but by using the water regeneration device 171, the amount of water consumed can be reduced. is only the supply water 178a. As an example, the consumption amount of the supply water 178a is 5Q/
It's a win. Further, by providing the water regenerating device 171 in each pure water cleaning unit 3, its size can be reduced.

第9図にエアナイフ乾燥ユニット4の基本構成を示す。FIG. 9 shows the basic configuration of the air knife drying unit 4.

エアナイフ本体81及びつば付搬送ローラ29は乾燥槽
82内の両側に設置される、つば付搬送ローラ29は乾
燥槽82の外壁面に配置されたネジ歯車28とローラ駆
動軸141により連結され、乾燥槽82の内側の複数個
のネジ歯車28に同期回転を与えることによりすべての
つば付搬送ローラ29が回転しワーク14をエアナイフ
吐出側82bから下流側82cへ搬送する。エアナイフ
本体81はワーク14の上面及び下面に配置され、ヒン
ジ81a,ヒンジカナグ81b。
The air knife main body 81 and the conveyor roller 29 with flanges are installed on both sides of the drying tank 82. The conveyor roller 29 with flanges is connected by a roller drive shaft 141 to a screw gear 28 arranged on the outer wall surface of the drying tank 82, By applying synchronous rotation to the plurality of screw gears 28 inside the tank 82, all the flanged conveyance rollers 29 rotate and convey the workpiece 14 from the air knife discharge side 82b to the downstream side 82c. The air knife main body 81 is arranged on the upper and lower surfaces of the workpiece 14, and has a hinge 81a and a hinge 81b.

及びホルダ81cにより上下面用の2本のエアナイフ本
体はワーク14が通過可能な間隙を形成し、かつ、ワー
クへのエア吐出角度が変更可能となるように連絡される
。更にエアナイフ81の両側のホルダ81cはθベース
83に固定された連結シャフト81dにより連結され。
The two air knife bodies for the upper and lower surfaces are connected by the holder 81c so as to form a gap through which the workpiece 14 can pass and to change the air discharge angle to the workpiece. Further, the holders 81c on both sides of the air knife 81 are connected by a connecting shaft 81d fixed to the θ base 83.

θベース83は乾燥槽82の下面に固定されたエアナイ
フベース86上にYベース85,Xベース84を介して
上下エアナイフ本体81間の間隙の中心とワークの厚み
方向中心が同一線上になるように固定されるθベース8
3はワーク14に対し、エアナイフ本体81がある転角
度θを有するように固定され、かつ、ワーク表面の性状
によりθを変更可能なように転角ピン83bを中心とし
た曲形状としだ長穴83aが形成される。また同様にX
,Yベース84.85には、各々X方向(搬送方向)と
Y方向にエアナイフ本体の位置を変更可能なるように長
穴84a、85aが形成され、各々ネジにより固定され
る。
The θ base 83 is mounted on the air knife base 86 fixed to the lower surface of the drying tank 82 via the Y base 85 and the X base 84 so that the center of the gap between the upper and lower air knife bodies 81 and the center of the workpiece in the thickness direction are on the same line. Fixed θ base 8
3 is fixed to the work 14 so that the air knife main body 81 has a certain rotation angle θ, and has a curved shape with a rotation angle pin 83b as the center so that θ can be changed depending on the properties of the work surface. 83a is formed. Similarly, X
, Y bases 84 and 85 are formed with elongated holes 84a and 85a so that the position of the air knife body can be changed in the X direction (conveying direction) and the Y direction, respectively, and are fixed with screws.

エアナイフが固定された部分はっばなし搬送ローラ87
を千鳥状に配置しかつ長尺ローラ駆動軸141a又は1
41bにより一方からの駆動方式にし、エアナイフ固定
の障害にならない構造となっている。なお82aは洗浄
槽に固定されたリブであり、本リブ82aに軸受88を
固定し長尺ローラ駆動軸141a又は141bを保持し
軸のたわみ、ふれ回りを防止する。
The part where the air knife is fixed is a conveyor roller 87.
are arranged in a staggered manner and the long roller drive shafts 141a or 1
41b, the drive system is driven from one side, and the structure is such that it does not become an obstacle to fixing the air knife. Note that 82a is a rib fixed to the cleaning tank, and a bearing 88 is fixed to this rib 82a to hold the long roller drive shaft 141a or 141b and prevent the shaft from deflecting or whirling.

第19図、第20図にエアナイフ本体の構造を示す。エ
アナイフ本体81はエアナイフボディ181とエアナイ
フカバー182、及び両者の合せ面からのエアそれを防
止する丸形パツキン183により形成される。エアナイ
フボディ181には長手方向に第1のエア整流穴181
e及び第2のエア整流穴181gと本整流穴181e、
181gへトライクリーンエア185を供給するエア供
給口181aが複数個形成され任意の位置に任意の数だ
け供給口として使用できる形状となっている。
Figures 19 and 20 show the structure of the air knife body. The air knife main body 81 is formed by an air knife body 181, an air knife cover 182, and a round gasket 183 that prevents air from coming in from the mating surfaces of the two. The air knife body 181 has a first air rectifying hole 181 in the longitudinal direction.
e, the second air rectification hole 181g, and the main air rectification hole 181e,
A plurality of air supply ports 181a are formed to supply try-clean air 185 to air 181g, and the shape is such that any number of air supply ports can be used as supply ports at any position.

また、本エア整流穴の反エア供給口側には機械加工によ
り長手方向に精度よく段差Gが形成され、エアナイフボ
ディ181上にネジ184によりエアナイフカバー18
2を固定した後、本段差Gによりエア吐出口181dが
形成される。1例として1本設差Gは0.1mである。
In addition, a step G is formed with high precision in the longitudinal direction by machining on the side opposite to the air supply port of the air rectifying hole, and the air knife cover 18 is attached to the air knife body 181 by a screw 184.
2 is fixed, the air discharge port 181d is formed by this step G. As an example, the difference G between each wire is 0.1 m.

なお、181dは丸形パツキン183が設置されるパツ
キン溝であり、エアナイフボディ181とエアナイフカ
バー182の合せ面が完全にメタルタッチとなり、かつ
エアもれのない寸法・形状が形成されている。
Note that 181d is a gasket groove in which a round gasket 183 is installed, and the mating surfaces of the air knife body 181 and air knife cover 182 are completely metal-touched, and the size and shape are formed to prevent air leakage.

また181bはエア整流穴181gからの長手方向への
エアもれを防止する為のプラグであり、図示はないが使
用しないエア供給0181aにも同様に取りつけられる
Further, 181b is a plug for preventing air leakage in the longitudinal direction from the air rectifying hole 181g, and although not shown, it is similarly attached to the unused air supply 0181a.

エア供給口181aから供給されたドライクリーンエア
185は2つのエア整流穴およびエアナイフボディ18
1内の衝突部181fとエアナイフカバー合せ面182
aとの衝突によりエアナイフボディ内で均一な圧力とな
りエア吐出口181dから吐出する。
The dry clean air 185 supplied from the air supply port 181a flows through the two air rectifying holes and the air knife body 18.
Collision part 181f in 1 and air knife cover mating surface 182
Due to the collision with a, the pressure becomes uniform within the air knife body, and the air is discharged from the air discharge port 181d.

第21図〜第24図にエアナイフの固定構造について示
す。エアナイフ本体81の両端にはヒンジ81a及び8
1a′が取りつけられ、この上下1対のヒンジはワーク
14へのエア吹き付は角度Tが調整可能なるように、1
対のエアナイフ本体81を寸法の許す限りワーク14の
表面に接近させ、更にワーク14の表面に対する吐出角
度(=1/2’f’)を最小とした時の上下吐出口を結
ぶ線Q上でかつ吐出口間距離Pの中点Tを転角の中心と
なる位置に転角ピン201とかん合する穴が形成されて
いる本中点Tを転角の中心とすることにより転角時に吐
出口181dの描く軌跡りは最小となり、ワーク14に
対し最接近した状態になる。
The fixing structure of the air knife is shown in FIGS. 21 to 24. Hinges 81a and 8 are provided at both ends of the air knife body 81.
1a' is attached, and the upper and lower pair of hinges are set at 1 so that the air blowing angle T to the workpiece 14 can be adjusted.
On the line Q connecting the upper and lower discharge ports when the pair of air knife bodies 81 are brought as close as possible to the surface of the workpiece 14 and the discharge angle (=1/2'f') with respect to the surface of the workpiece 14 is minimized. In addition, by setting the midpoint T of the distance between the discharge ports as the center of the angle rotation, and setting the center point T, where the hole that engages with the angle rotation pin 201 is formed, as the center of the angle rotation, the discharge can be controlled at the time of angle rotation. The trajectory drawn by the outlet 181d becomes the minimum, and the outlet 181d comes closest to the workpiece 14.

転角ピン201はヒンジカナグ81bに固定され、さら
のヒンジカナグ81bはホルダ81cにネジ等によって
固定される。またホルダ81cは連結シャフト81dに
より結ばれエアナイフ本体81を両端から保持する。
The turning pin 201 is fixed to a hinge lug 81b, and the hinge lug 81b is further fixed to a holder 81c with a screw or the like. Further, the holder 81c is connected by a connecting shaft 81d and holds the air knife main body 81 from both ends.

そして、連結シャフトはθベース83に固定され更に、
Xベース84、つぎにYベース85.エアナイフベース
85へと次々に固定され最終的にはエアナイフ乾燥ユニ
ットの乾燥槽にワーク14の厚み方向の中心線14aが
転角ピンの中心Tと同一平面上になるように固定される
Then, the connecting shaft is fixed to the θ base 83, and further,
X base 84, then Y base 85. The workpiece 14 is successively fixed to the air knife base 85 and finally fixed to the drying tank of the air knife drying unit so that the center line 14a of the workpiece 14 in the thickness direction is on the same plane as the center T of the turning pin.

なおヒンジカナグ81bには第23図、第24図に示す
ような長穴形の溝部208を有するストッパ部207が
形成されており、転角ネジ202の段付き部202aが
溝部208とかん合している。
Note that a stopper part 207 having a slot-shaped groove part 208 as shown in FIGS. There is.

転角ネジ202には段付き部202aをさかいとし上部
に左ネジ部204、下部に右ネジ部203が加工されて
いる。また、ヒンジ81a及び81a′には回転可能な
るように、左メネジ加工を行ったピン205と右メネジ
加工を行ったピン206の2つが転角ネジ202の各々
のネジ部同志でがん合している。
The angle screw 202 has a stepped portion 202a, a left-handed threaded portion 204 at the top, and a right-handed threaded portion 203 at the bottom. In addition, in order to make the hinges 81a and 81a' rotatable, two pins, a left-hand female threaded pin 205 and a right-handed female threaded pin 206, are fitted together at the threaded portions of the angle screws 202. ing.

ストッパ部207の溝部208と転角ネジ202の段付
き部のかん合により上下1対となったエアナイフ本体8
1が下方へ下るのを防止でき更に転角ネジ202を時計
方向に回すことによりピン205.206はRの軌跡を
描く円運動となり、エアナイフ本体81のワークへの吐
出角度の調整を行うことができる。
The air knife main body 8 forms a pair of upper and lower parts by engaging the groove part 208 of the stopper part 207 and the stepped part of the turning screw 202.
1 can be prevented from falling downward, and by turning the rotation angle screw 202 clockwise, the pins 205 and 206 move in a circular motion tracing an R trajectory, and the discharge angle of the air knife body 81 to the workpiece can be adjusted. can.

第25図にエアナイフ乾燥ユニット4のエア配管の構成
例を示す。エア配管はソレノイドバルブ242、フィル
タレギュレータ243.ミストセパレータ244.ミス
トセパレータ245及びエアナイフ81より成る。フィ
ルタレギュレータ243はエア圧を調整すると機能と同
時に5μm以上の粒子を除去する能力を持つ。ミストセ
パレータ244は0.3μm以上の粒子を、ミストセパ
レータ245は0.01μm以上の粒子を除去する能力
を持つ。本例は1実施例であり、エアの清浄方法は、こ
れに限定されるものではない。
FIG. 25 shows an example of the configuration of the air piping of the air knife drying unit 4. Air piping includes a solenoid valve 242 and a filter regulator 243. Mist separator 244. It consists of a mist separator 245 and an air knife 81. The filter regulator 243 functions when adjusting the air pressure and has the ability to remove particles of 5 μm or more at the same time. The mist separator 244 has the ability to remove particles of 0.3 μm or more, and the mist separator 245 has the ability to remove particles of 0.01 μm or more. This example is just one example, and the air cleaning method is not limited to this.

ドライエア241は、ソレノイドバルブ242によって
供給、停止が制御される。装M1に供給されたドライエ
ア241は、フィルタレギュレータ243にて圧を調整
された後、フィルタレギュレータ243に内蔵するフィ
ルタにより濾過され、引続きミストセパレータ244.
ミストセパレータ245にて濾過を受け、ドライクリー
ンエア185となりエアナイフ81に供給されエア吐出
口181dより吐出される。
The dry air 241 is supplied and stopped by a solenoid valve 242 . The dry air 241 supplied to the equipment M1 has its pressure adjusted by the filter regulator 243, is filtered by a filter built in the filter regulator 243, and is then passed through the mist separator 244.
It is filtered by the mist separator 245, becomes dry clean air 185, is supplied to the air knife 81, and is discharged from the air discharge port 181d.

本実施例によれば、ドライエア241中に存在した粒子
を除去し、ドライクリーンエア185とする事が出来る
。1例としてドライエア241中には0.3μm以上粒
子が1Ωあたり約5000個存在するが、ドライターン
エア185中には1個以上となる。これにより清浄条件
でエアナイフ乾燥を行う事が出来、清浄面を汚す事なく
乾燥する事が出来る。
According to this embodiment, the particles present in the dry air 241 can be removed and dry clean air 185 can be obtained. As an example, in the dry air 241 there are approximately 5,000 particles with a diameter of 0.3 μm or more per Ω, while in the dry turn air 185 there are one or more particles. As a result, air knife drying can be performed under clean conditions, and drying can be performed without contaminating the clean surface.

第10図に示すUV処理ユニット5は処理槽95に搬送
ローラ151a、151bと冷却板93と低圧水銀灯9
2が配置された構成である。
The UV processing unit 5 shown in FIG.
2 is arranged.

低圧水銀灯92はその口金94で冷却板93に固定され
ている。低圧水銀灯92は必ずしも処理を行う基板14
の全幅に対し1本にて処理を行うに必要な有効な照射幅
を持つものではない。それ故、基板14の全幅を処理す
る為、低圧水銀灯92を複数個配置する。本例では低圧
水銀灯92を8本、千鳥状に配置したものであるが、低
圧水銀灯92の処理に有効な照射幅がさらに広い場合、
用いる数量はこの限りではない。低圧水銀灯92はその
管中に封止された水銀蒸気中で放電を行う事で紫外線を
発生する。その為その発光強度は管中の水銀蒸気圧によ
り影響を受ける。水銀気圧は低圧水銀灯92内の最も温
度の低い部分の温度により決定される。本例ではその部
分は口金94内部である。それ故、口金94の温度を、
最も発生強度の高い水蒸気圧を与える温度に制御する為
、冷却板93にて冷却する。口金94内部には温度セン
サーが設けられており、その温度を出力して冷却温度を
制御する。冷却板93には温度制御された冷却水が流さ
れるが、冷却方法として、この水冷に限られるものでは
ない。
A low-pressure mercury lamp 92 is fixed to a cooling plate 93 by its base 94. The low pressure mercury lamp 92 is not necessarily used for the substrate 14 to be processed.
It does not have the effective irradiation width necessary to perform processing with one line over the entire width of the area. Therefore, in order to process the entire width of the substrate 14, a plurality of low pressure mercury lamps 92 are arranged. In this example, eight low-pressure mercury lamps 92 are arranged in a staggered manner, but if the effective irradiation width for processing with the low-pressure mercury lamps 92 is wider,
The quantity used is not limited to this. The low-pressure mercury lamp 92 generates ultraviolet light by discharging in mercury vapor sealed in its tube. Therefore, its emission intensity is affected by the mercury vapor pressure in the tube. The mercury pressure is determined by the temperature of the lowest temperature part within the low-pressure mercury lamp 92. In this example, that part is inside the base 94. Therefore, the temperature of the base 94 is
It is cooled by a cooling plate 93 in order to control the temperature to give the highest water vapor pressure. A temperature sensor is provided inside the cap 94, and outputs the temperature to control the cooling temperature. Although temperature-controlled cooling water is flowed through the cooling plate 93, the cooling method is not limited to this water cooling.

本例では口金94の温度は55℃に制御される。In this example, the temperature of the base 94 is controlled to 55°C.

例えばこの温度が制御温度以下の50℃の場合、その紫
外線照度は、温度が55℃の時と比較して約10%低減
する。低圧水銀灯92は点灯時、その表面温度は約15
0℃となる。又、紫外線及び紫外線と大気中の酸素から
生ずるオゾンを含む環境となる。これらの環境に耐える
為、搬送ローラ151a、151bはセラミックで構成
されている。本処理の効果をさらに増す為には、基板1
4の昇温機能及び、本装置の低圧水銀灯92に依らずに
オゾンを外部より供給する構造が取られる。
For example, when this temperature is 50°C below the control temperature, the ultraviolet irradiance is reduced by about 10% compared to when the temperature is 55°C. When the low-pressure mercury lamp 92 is lit, its surface temperature is approximately 15
It becomes 0℃. In addition, the environment contains ultraviolet rays and ozone generated from ultraviolet rays and oxygen in the atmosphere. In order to withstand these environments, the conveyance rollers 151a and 151b are made of ceramic. In order to further increase the effect of this treatment, the substrate 1
4 and a structure in which ozone is supplied from the outside without relying on the low-pressure mercury lamp 92 of this device.

昇温機能としては、赤外線ヒータ、ホットプレート等の
手段が取りうる。又、外部よりオゾンを供給する場合、
そのオゾンを発生させる手段としては放電法が取りつる
。冷却板93は処理槽95に固定されるがその高さは任
意に変える事が出来る。
As the temperature raising function, means such as an infrared heater and a hot plate can be used. Also, when supplying ozone from outside,
A discharge method is used as a means to generate ozone. The cooling plate 93 is fixed to the processing tank 95, but its height can be changed arbitrarily.

それにより、基板14と、低圧水銀灯92の照射距離を
変化させる事が出来る。1例として照射距離を3m11
から20m+まで変える事が出来、これにより基板14
の厚さに対応した照射距離を設定する事が出来る。
Thereby, the irradiation distance between the substrate 14 and the low-pressure mercury lamp 92 can be changed. As an example, the irradiation distance is 3m11
It can be changed from 20m+ to 20m+, which allows the board
The irradiation distance can be set according to the thickness of the material.

コアナイフ乾燥ユニット4より搬送された基板14はロ
ーラ151a、15bにて搬送され、低圧水銀灯92よ
り発せられる紫外線の照射を受けると同時に、その紫外
線と大気中の酸素から生ずるオゾン及び酸素アジカルに
さらされる。これにより基板14上に付着する有機質は
酸化され、ガス状物質に変化し、基板14上より除去さ
れる。
The substrate 14 conveyed from the core knife drying unit 4 is conveyed by rollers 151a and 15b, and is irradiated with ultraviolet rays emitted from a low-pressure mercury lamp 92, and at the same time is exposed to ozone and oxygen radicals generated from the ultraviolet rays and oxygen in the atmosphere. . As a result, the organic substance adhering to the substrate 14 is oxidized, changed into a gaseous substance, and removed from the substrate 14.

基板14はローラ151a、151bにより連続して搬
送される為、複数個の低圧水銀灯92を通過し、均一な
処理を受ける。
Since the substrate 14 is continuously conveyed by rollers 151a and 151b, it passes through a plurality of low-pressure mercury lamps 92 and is uniformly processed.

本実施例によれば基板14上の有機質を除去する為、後
工程、1例として成膜、塗布膜工程で問題となるピンホ
ールの主原因の有機質異物で除き、同時に膜の濡れ性を
向上させ、膜の均一性を向上させるという効果がある。
According to this embodiment, in order to remove the organic matter on the substrate 14, the organic foreign matter that is the main cause of pinholes that are a problem in the subsequent process, for example, the film formation and coating process, is removed, and at the same time, the wettability of the film is improved. This has the effect of improving the uniformity of the film.

第4図の31はUVユニットを示し32は冷却ユニット
を示す。第11図は冷却ユニット構成図の上面図、第1
2図は正面図である。冷却ユニット32はガラス板14
を搬送する搬送ローラ29と冷却板111および112
とユニットを構成するフレーム101を備え、搬送ロー
ラは回転伝達のためのねじ歯車28及びタイミングベル
ト27及び駆動シャフト266を備え、駆動シャフトは
駆動モータ34に接続される。また第12図の冷却ユニ
ット32の両端には自由に回転するアイドルローラ10
3を備える。114はガラス板14の送り速度を切換え
る送り位置検出器である。駆動モータ34は回転スピー
ド切換可能である。
In FIG. 4, 31 indicates a UV unit, and 32 indicates a cooling unit. Figure 11 is a top view of the cooling unit configuration diagram,
Figure 2 is a front view. The cooling unit 32 has a glass plate 14
Conveyance roller 29 and cooling plates 111 and 112 that convey
The transport roller includes a screw gear 28 for rotation transmission, a timing belt 27, and a drive shaft 266, and the drive shaft is connected to a drive motor 34. Additionally, idle rollers 10 that rotate freely are provided at both ends of the cooling unit 32 in FIG.
Equipped with 3. 114 is a feed position detector that switches the feed speed of the glass plate 14. The rotation speed of the drive motor 34 can be changed.

冷却板112は昇降台105に固定され、昇降台105
は昇降シリンダ106を備え、ガラス板14を搬送する
時は下降し、冷却する時は上昇可能とする。冷却板には
一定温度に管理された冷却水が流されている。冷却板1
12は上面にガラス板吸着のための吸着溝113を備え
、冷却板112の上にガラス板14の有無を検出する検
出器115を備える・冷却ユニットの両側にはフレーム
101に固定される冷却板111を備える。104は昇
降台105の昇降のためのガイドシャフトであり、10
7はガイドシャフト104のホルダであり。
The cooling plate 112 is fixed to the lifting table 105, and the cooling plate 112 is fixed to the lifting table 105.
is equipped with an elevating cylinder 106, which can be lowered when transporting the glass plate 14 and raised when cooling it. Cooling water controlled at a constant temperature flows through the cooling plate. Cooling plate 1
12 is equipped with a suction groove 113 for adsorbing the glass plate on the upper surface, and is equipped with a detector 115 on the cooling plate 112 to detect the presence or absence of the glass plate 14. Cooling plates fixed to the frame 101 are provided on both sides of the cooling unit. 111. 104 is a guide shaft for raising and lowering the lifting platform 105;
7 is a holder for the guide shaft 104.

また108aおよび108bは昇降台105の昇降位置
検出器である。第27図は第12図のG−G断面であり
アイドルローラ103の構造を示す。
Further, 108a and 108b are elevation position detectors of the elevation platform 105. FIG. 27 is a cross section taken along line GG in FIG. 12 and shows the structure of the idle roller 103.

上記構成において、第4図のUVユニット31より一枚
ずつ搬送されてきたガラス板14はアイドルローラ10
3を介し搬送ローラ102に送られる。この時、搬送ロ
ーラ102はUVユニット31の搬送速度と同一で一定
速度の回転をしている。一方、冷却板は上昇位置にあり
、冷却水112上のガラス板14bは搬送ローラ102
から浮いた状態である。搬入側のガラス板14aが更に
送られ送り位置検出器114まで送られた時、それまで
上昇していた昇降台105が下降し下降位置検出器10
8aが検出し、それまで他のユニットと同一速度で搬送
していた搬送ローラ102が今までの約3倍の速度で回
転し、ガラス板14aを早送りする。冷却板112のピ
ッチ分を時間制御で送り、1ピッチ送られた位置で搬送
ローラ102を停止させ、昇降台105を上昇し搬送ロ
ーラ102から浮かせ、昇降台105の上昇端を108
bで検出後、再び搬送ローラ102を他のユニットと同
一速度で搬送させる。一方昇降台105の上昇によりガ
ラス板14bを乗せた冷却板112は検出器115でガ
ラス板の有無を検出し、ガラス板が有る時のみ吸着を行
う。吸着によりガラス板14bは冷却板112に固定さ
れる。
In the above configuration, the glass plates 14 conveyed one by one from the UV unit 31 in FIG.
3 to the conveyance roller 102. At this time, the conveyance roller 102 is rotating at a constant speed that is the same as the conveyance speed of the UV unit 31. On the other hand, the cooling plate is in the raised position, and the glass plate 14b on the cooling water 112 is
It is in a state of floating. When the glass plate 14a on the carry-in side is further fed to the feed position detector 114, the lifting platform 105, which had been raised until then, is lowered and the lowering position detector 10 is lowered.
8a detects this, and the conveying roller 102, which had been conveying at the same speed as the other units until then, rotates at about three times the previous speed, and rapidly feeds the glass plate 14a. The pitch of the cooling plate 112 is fed by time control, the conveying roller 102 is stopped at the position where the cooling plate 112 has been fed by one pitch, the lifting platform 105 is raised and lifted off the conveying roller 102, and the rising end of the lifting platform 105 is moved to 108.
After the detection in b, the conveying roller 102 is again conveyed at the same speed as the other units. On the other hand, as the lifting platform 105 rises, the cooling plate 112 on which the glass plate 14b is placed detects the presence or absence of the glass plate with the detector 115, and performs suction only when the glass plate is present. The glass plate 14b is fixed to the cooling plate 112 by adsorption.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明は次の効果を有する。 The present invention has the following effects.

第4図の31のUV処理ユニットコンベアは紫外線およ
びオゾンの影響を受けるため、これに左右されない材料
が要求され、従来は金属材料を使用していた。しかし金
属は接触による摩耗等で金属の塵埃を発生し、電極を集
積したワークのガラス基板に悪影響をおよぼす。本発明
ではこの材質にセラミックを使用しており、上記の欠点
がない。
Since the UV processing unit conveyor 31 in FIG. 4 is affected by ultraviolet rays and ozone, a material that is not affected by this is required, and conventionally metal materials have been used. However, metals generate dust due to abrasion caused by contact, which adversely affects the glass substrate of the workpiece on which the electrodes are integrated. The present invention uses ceramic as the material and does not have the above drawbacks.

また搬送ローラの形状について一般的には第13図の2
9の如くツバ付の形状であり、この場合ソバ部でワーク
を案内する時、周速の違いにより滑りが生じ発埃の恐れ
がある。UV処理ユニット工程は洗浄の仕上げ段階であ
り極カ発埃を押える必要である。本発明では搬送ローラ
151aとガイドローラ151bに分けて各々を同期速
度で回転するようにし滑りを無くしており上記の欠点が
ない。またセラミックの硬度について、ガラス板にキズ
を付けない程度の硬度のセラミック(ステアタイト:モ
ース硬度7.5)を使用しているため発塵の要因が少な
い。
In addition, the shape of the conveyance roller is generally 2 in Fig. 13.
It has a flange shape as shown in 9, and in this case, when guiding a workpiece at the buckle part, there is a risk of slipping due to the difference in circumferential speed and dust generation. The UV treatment unit process is the finishing stage of cleaning, and it is necessary to suppress the generation of dust. In the present invention, the conveying roller 151a and the guide roller 151b are separated and rotated at synchronous speeds to eliminate slippage, and the above-mentioned drawbacks are eliminated. Furthermore, since the hardness of the ceramic (steatite: Mohs hardness 7.5) is hard enough not to scratch the glass plate, there is little dust generation.

本発明では各ユニットの駆動モータを各々に備えること
により、そのユニットの要求速度に選択することが可能
である。また駆動部までを含めたユニット化ができる。
In the present invention, by providing a drive motor for each unit, it is possible to select the required speed for that unit. Also, it can be made into a unit including the driving part.

搬送ローラ駆動方法について、−船釣には第5図の41
の搬入ユニットの如く平歯車を並べて連結する方法があ
るがユニットの長さが長いと噛み合いが多くなり伝達効
率が悪くなる欠点がある。
Concerning the conveyance roller drive method - For boat fishing, use 41 in Figure 5.
There is a method of connecting spur gears side by side, such as in the carry-in unit, but if the length of the unit is long, there will be a lot of meshing, resulting in poor transmission efficiency.

また、タイミングベルトで連結する方法もあるがこの場
合はプーリとの噛み合いの関係でテンションが大きくな
りベルトの寿命が短い欠点がある。
There is also a method of connecting with a timing belt, but in this case, the tension increases due to the engagement with the pulleys and the belt has a short lifespan.

本発明の駆動伝達方法は第4図の32の冷却搬出ユニッ
トの如く搬送ローラの数が多くなっても回転伝達効率が
下がる欠点がない。
The drive transmission method of the present invention does not have the disadvantage that the rotational transmission efficiency decreases even when the number of conveying rollers increases as in the cooling and unloading unit 32 in FIG. 4.

また他の装置のワーク搬送装置に影響しないで当該ユニ
ットの搬送速度を変えることができる。
Furthermore, the transport speed of the unit can be changed without affecting the work transport devices of other devices.

従来のローラ搬送方法は第28図に示す如く低速送りと
高速送りのローラが隣り同志であるため乗り移り時、ワ
ークに滑りを生じ発塵の要因があったが、本発明ではそ
の欠点がない。また第30図に示す送り竿方法もあるが
、これは搬送ローラの位置がガラス板の製品機能に影響
を与えない外側位置に対し、送り竿方式で接続する場合
は搬送ローラとの干渉をさけるため第30図内側の位置
になり製品機能に影響をする恐れがある。また送り竿方
式では201の長さを長くできず冷却板ステーションを
設ける長さに限りがあるため、冷却板ステーションが多
い場合は送り竿ユニットを複数個設けなければならない
が、本発明はその欠点がない。また本発明では搬送速度
切換部のワーク搬送面の直下に固定の冷却板を設けるこ
とが可能であり、この冷却板で間接的に冷却を行え、冷
却効率を向上できる。送り竿方式では固定の冷却板を設
けることが困難である。また本発明では冷却板の冷却効
果をあけるために第29図に示す如く搬送ローラ102
間に冷却板を出すことができ、最大限の接触面積を設け
ることができる。
In the conventional roller conveyance method, as shown in FIG. 28, the low-speed feed and high-speed feed rollers are adjacent to each other, which causes the workpiece to slip and cause dust generation when transferring, but the present invention does not have this drawback. There is also the feeding rod method shown in Fig. 30, but in this case, the position of the conveying roller is at an outside position where it does not affect the product function of the glass plate, whereas when connected using the feeding rod method, interference with the conveying roller is avoided. Therefore, the position may be on the inside of Figure 30, which may affect product functionality. In addition, in the feeding rod method, the length of the cooling plate station cannot be increased because the length of the cooling plate station is limited, so if there are many cooling plate stations, a plurality of feeding rod units must be provided.However, the present invention has this drawback. There is no. Further, in the present invention, it is possible to provide a fixed cooling plate directly below the workpiece conveyance surface of the conveyance speed switching section, and this cooling plate can perform indirect cooling, thereby improving cooling efficiency. In the feeding rod method, it is difficult to provide a fixed cooling plate. In addition, in the present invention, in order to improve the cooling effect of the cooling plate, the conveyor roller 102 is used as shown in FIG.
A cooling plate can be provided in between to provide maximum contact area.

ワークの吸着は冷却板のワークの有無を検出しワークが
乗っている冷却板のみ吸着することにより真空源の無駄
をなくすことができ、また真空検出器で真空圧を検出す
ることによりワークを正常に吸着しているかを確認でき
る。吸着によりワークを固定することができ再び搬送ロ
ーラ上に乗せ替える時位置狂いがない。また吸着により
冷却効率も向上できる。
Workpiece suction detects the presence or absence of a workpiece on the cooling plate and only suctions the cooling plate on which the workpiece is placed, thereby eliminating waste of the vacuum source, and detecting the vacuum pressure with a vacuum detector to ensure that the workpiece is in normal condition. You can check whether it is adsorbed to. The workpiece can be fixed by suction, and there will be no misalignment when it is placed on the transport roller again. Cooling efficiency can also be improved by adsorption.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例の洗浄装置の正面図、第2図
は同じく平面図、第3図、第4@は搬送系の正面図、第
5図、第6図は同じく平面図、第7図は純水洗浄ユニッ
トの平面図、第8図は第7図のA−A’断面図、第9図
はエアナイフ乾燥ユニットの基本構成の平面図、第10
図のAおよび第10図のBはUV処理ユニットの平面図
及び断面図、第11図は冷却ユニット平面図、第12図
は同じく正面図、第13図より第17図は搬送ローラの
断面図、第18図は洗浄水配管図、第19図はエアナイ
フの斜視図、第20図は同じく断面図、第21図より第
24図はアナイフの構造図、第25図はエアナイフ配管
図、第26図は搬送速度切換部構成図、第27図はアイ
ドルローラ断面図、第28図は従来のローラ搬送の速度
切換構成図、第29図は冷却板形状図、第30図は従来
の送り竿方式の構造図、第31図はガイトローラ断面図
である。 1・・・洗浄装置、14・・・基板、62・・・超音波
スプレ81・・・エアナイフ、92・・・低圧水銀灯、
112第 1 図 第 図 第 図 第 6 図 第 図 搬送方向 第13図 第14図 第15図 第16 図 第19図 第20図 81f 81a 第21 図 第22図 第26図 第27図 第28図 一う− 第 9 図 第 Q 図 第 31 図
FIG. 1 is a front view of a cleaning device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view, FIGS. 3 and 4 are front views of a conveyance system, and FIGS. 5 and 6 are plan views. , FIG. 7 is a plan view of the pure water cleaning unit, FIG. 8 is a sectional view taken along line AA' in FIG. 7, FIG. 9 is a plan view of the basic configuration of the air knife drying unit, and FIG.
Figures A and B in Figure 10 are a plan view and a cross-sectional view of the UV processing unit, Figure 11 is a plan view of the cooling unit, Figure 12 is a front view, and Figures 13 to 17 are cross-sectional views of the conveyance roller. , Fig. 18 is a cleaning water piping diagram, Fig. 19 is a perspective view of the air knife, Fig. 20 is a sectional view of the same, Figs. 21 to 24 are structural diagrams of the air knife, Fig. 25 is an air knife piping diagram, and Fig. 26 Figure 27 is a cross-sectional view of the idle roller; Figure 28 is a configuration diagram of conventional roller conveyance speed switching; Figure 29 is a cooling plate configuration diagram; Figure 30 is a conventional feed rod system. Fig. 31 is a cross-sectional view of the guide roller. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Cleaning device, 14...Substrate, 62...Ultrasonic spray 81...Air knife, 92...Low pressure mercury lamp,
112 Fig. 1 Fig. Fig. Fig. 6 Fig. Fig. Fig. Fig. 6 Fig. Fig. Fig. 13 Fig. 14 Fig. 15 Fig. 16 Fig. 19 Fig. 20 Fig. 81f 81a Fig. 21 Fig. 22 Fig. 26 Fig. 27 Fig. 28 - Figure 9 Figure Q Figure 31

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1、搬入ユニット、スプレー式純水洗浄ユニット、エア
ナイフ乾燥ユニット、UV処理ユニット、冷却搬出ユニ
ットを搬送方向に沿つて配置したことを特徴とする洗浄
装置。
1. A cleaning device characterized in that a carry-in unit, a spray-type pure water cleaning unit, an air knife drying unit, a UV processing unit, and a cooling carry-out unit are arranged along the conveyance direction.
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