JPH03272090A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH03272090A
JPH03272090A JP2069681A JP6968190A JPH03272090A JP H03272090 A JPH03272090 A JP H03272090A JP 2069681 A JP2069681 A JP 2069681A JP 6968190 A JP6968190 A JP 6968190A JP H03272090 A JPH03272090 A JP H03272090A
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JP
Japan
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data bus
memory cell
sub
cell array
transistor
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JP2069681A
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English (en)
Inventor
Yoshimasa Sekino
関野 芳正
Yoshihiro Murashima
村島 良宏
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Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は半導体記憶装置に関し、詳しくは、ダイナミ
ック型ランダムアクセスメモリのサブデータバス、リー
ドアンプ回路およびライトバッファ回路に関するもので
ある。
(従来の技術) 従来の半導体記憶装置の回路図を第3図に示す。
この図において、ロウデコーダ11の出力信号線(ワー
ドvA)ノうち、出力信号MWLI、WL2は、第1メ
モリセルアレイ12a内の一対の1トランジスタ・1キ
ヤパシタ型セルのそれぞれのトランスファゲートとして
のNチャンネルトランジスタTri  Tr2のゲート
に接続される。トランジスタTriのソース・ドレイン
の一方はビット線BLに接続され、ソース・ドレインの
他方はメモリセルキャパシタMlに接続される。さらに
キャパシタM1のもう一方の端子は固定電位Vcρに接
続される。トランジスタTr2のソース・ドレインの一
方はビット線BLに、他方はメモリセルキャパシタM2
に接続される。さらにキャパシタM2のもう一方の端子
は固定電位Vcpに接続される。
NチャンネルトランジスタTr3  およびPチャンネ
ルトランジスタTr5  のゲートはそれぞれビット線
BLに接続され、ドレインはそれぞれビットl@BLに
接続され、トランジスタTr3のソースはセンス用電源
Alに、トランジスタTr5のソースはセンス用電源B
lに接続される。NチャンネルトランジスタTr4  
およびPチャンネルトランジスタTr6のゲートは共に
ビット線BLに、ドレインは共にビット線BLに接続さ
れ、トランジスタTr4  のソースはセンス用電源A
1に、トランジスタTr6  のソースはセンス用電源
Blに接続される。第1コラムデコーダ13aの出力線
のうち出力線CLIの1本はNチャンネルトランジスタ
Tr7.Tr8のゲートに共に接続され、トランジスタ
Tr7のソース・ドレインの一方はビット線BLに、他
方はサブデータバス5DBIに接続される。トランジス
タTr8のソース・ドレインの一方はビット線BLに、
他方はサブデータバス5DBIに接続される。サブデー
タバス5DBISDB lは、それぞれ第1ライトバッ
ファ回路14a内の Nチ、ヤンネルトランジスタTr
9TrlOのドレイン・ソースの一方に接続され、この
トランジスタTr9.Tri Oのゲートは共にデータ
バス選択信号線DSIに接続され、同トランジスタTr
9.Tri Oのドレイン・ソースの他方はそれぞれラ
イトデータバスWDBI。
WDBIに接続される。また、サブデータバス5DBI
、5DBIは、第1リードアンプ回路15a内の Nチ
ャンネルトランジスタTr15゜Tri6の ドレイン
・ソースの一方に接続され、このトランジスタTrl 
5.Trl 6のゲートは共にリードアンプ選択信号線
RDIに接続され、同トランジスタTrl 5.Tri
 6のドレイン・ソースの他方はそれぞれリードデータ
バスRDB 1゜RDBIに接続される。また、第1リ
ードアンプ回路15a内のPチャンネルトランジスタT
r 11とNチャンネルトランジスタTr13  のゲ
ートは共にリードデータバスRDB 1に、トランジス
タTrllおよびTri3のドレインは共にリードデー
タバスRDBIに接続され、トランジスタTr13  
のソースはセンス用を源A2に、トランジスタTrll
  のソースはセンス用電源B2に接続される。また、
第1リードアンプ回路15a内のPチャンネルトランジ
スタTr12  とNチャンネルトランジスタTr14
  はトレインが共にリードデータバスRDB 1に接
続され、ゲートは共にリードデータバスRDB 1に接
続される。さらにトランジスタTr12  のソースは
前記センス用電源B2に、トランジスタTr14  の
ソースは前記センス用電源A2に接続される。
第2メモリセルアレイ12bは、トランジスタTri〜
Tr8とキャパシタMl、M2から構成される第1メモ
リセルアレイ12aと同し構成であり、ただし、出力&
ICLlの代りに第2コラムデコーダ13bの出力線の
うち出力線CL2が接続され、出力信号線WLI、WL
2の代りにロウデコーダ11の出力信号線のうち出力信
号IWL3゜WL4が接続される。
第2ライトバツツア回路14bは、トランジスタTr9
.Tri Oから構成される第1ライトバッファ回路1
4aと同し構成であり、ただし、サブデータバス5DB
I、、5DB1の代りにそれぞれサブデータバス5DB
2,5DB2が接続され、ライトデータバスWDB 1
.WDB 1の代りにそれぞれライトデータバスWDB
2.WDB2が、また、データバス選択信号線DSlの
代りにデータバス選択信号線DS2が接続される。
第2リードアンプ回路15bは、トランジスタTrll
〜Tr16から構成される第1リードアンプ回路15a
と同し構成であり、ただし、リードアンプ選択信号線R
DIの代りにリードアンプ選択信号線RD2が、サブデ
ータバス5DBI、5DBIの代りにそれぞれサブデー
タバス5DB2,5DB2が、リードデータバスRDB
I、RDBIの代りにそれぞれリードデータバスRDB
2.RDB2が接続される。
また、リードデータバスRDBI、RDBI。
RDB2.RDB2は、リードデータバスRDB 1と
RDB 1を一対、リードデータバスRDB2とRDB
2を一対として、出力バッファ回路16に接続される。
また、ライトデータバスWDBI、WDBI、WDB2
.WDB2は、ライトデータバスWDBIとWDBIを
一対、ライトデータバスWDB2とWDB2を一対とし
て、入カバソファ回路17に接続される。
このように構成された装置の動作を説明する。
まず、リード時の動作を第4図を用いて説明する。
ロウデコーダ11により出力信号線WLIが選択された
とすると、出力信号1WL1は”L”から“H”になり
、トランジスタTriがオンする。キャパシタM1に“
L”が書き込まれていたとすると、トランジスタTri
のオンにより、キャパシタMトとビット線BLO間で電
荷の再配分が行われ、この時、ビット線BL上での減少
分をΔVとする。
ビット線BL、BLは初期状態で共に”L″とH″の中
間レベルとして%Vccレベルであるとすると、ビット
線BLは(%Vcc−ΔV)のレベルになる0次に、初
期状態で%VCCレベルであったセンス用電源AI、B
lが、センス用電源A1は“L”に、センス用電源B1
は“H″になる。この時、ビット線BLはビット線BL
よりΔV分電位が低いため、トランジスタTr3  と
Tr4ではトランジスタTr4の方が、またトランジス
タTr5とTr6ではトランジスタTr5  の方が駆
動能力が高くなり、ビット線BLは“H”に、ビット線
BLはL”になる。次に、第1コラムデコーダ13aに
より出力線CLIが選択されると、トランジスタTr7
.Tr8がオンし、ビット線BL、BLのデータがサブ
データバスSDB 15DBIに伝達される。サブデー
タバス5DBISDBIの初期値を’15VCCとする
と、初期値の%Vccからサブデータバス5DBIは“
H”に、逆にサブデータバスSDB 1は”L″になる
。リードアンプ選択信号線RDIがH″になると、サブ
データバス5DBI、5DBIのデータはリードデータ
バスRDB1.RDBIに伝達される。
同様に%VCCが初期値であると、リードデータバスR
DB 1の方がリードデータバスRDB 1より高電位
になる。また、初期状態で!4Vccレベルであったセ
ンス用電源A2.B2が、センス用電源A2は“L”に
、センス用電源B2はH”になるとする、すると、トラ
ンジスタTr13  とTr14ではトランジスタTr
14の方が、トランジスタTrllとTr12ではトラ
ンジスタTrllO方が駆動能力が高くなり、最終的に
リードデータバスRDB 1は“H”に、リードデータ
バスRDBIはL”になり、出カバソファ回路16にデ
ータが伝達される。このようにリードアンプ回路は、ビ
ット線からサブデータバスを介して伝達された電位差を
増幅して、高集積化により負荷の重くなったリードデー
タバスを駆動する働きを持つ。
一方、ライト時は、人力バッファ回路17によりデータ
がライトデータバスWDBI、EDBIに伝達される。
今、この伝達によりライトデータバスWDBIが“H”
 ライトデータバスWDBIが”L”になるとする。デ
ータバス選択信号MDSIが選択されたとすると、デー
タバス選択信号線DSIは“L”から“°H″になり、
第1ライトバッファ回路14a内のトランジスタTr9
.Trioがオンし、ライトデータバスWDBI  W
DBIのデータがサブデータバス5DB1.5DBIに
伝達される。第1コラムデコーダ13aにより出力11
1cL1が選択され“L”から“°H″になると、トラ
ンジスタTr7.Tr8がオンし、データがビット線B
L、BLに伝達される。この時、ロウデコーダ11によ
り既にワード線は選択され、リード時と同し動作をする
ことで、ビットtJBLとBLはどちらか一方が“H″
他方が”L″になっている。ここで、前記のようにサブ
データバス5DB1.5DBIからデータが伝達され、
ビット線BL、BLのデータはサブデータバス5DB1
.5DBIのデータに書きかわり、ライト動作が終了す
る。このようにライトバッファ回路は、ライトデータバ
スに接続するうちの一組のサブデータバスを選択し、ラ
イトデータパスからサブデータバスにデータを伝達する
働きをする。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、以上のような従来の半導体記憶装置では
、各メモリセルアレイごとにサブデータバスが独立にな
っているため、サブデータバスごとにリードアンプ回路
、ライトバッファ回路が多数必要となる。しかし、リー
ドアンプ回路、ライトバッファ回路は、接続されるメモ
リセルアレイが選択された時のみ動作をするため、多数
あるリードアンプ回路、ライトバッファ回路のうちの動
作上必要なのは1つZコけてあり、それにも係わらず上
記のようにリードアンプ回路とライトバッファ回路を多
数必要とすることは、この半導体記憶装置を集積回路化
した場合に大きなパターン面積を必要とし、集積度を上
げられない原因となる。
この発明は上記の点に鑑みなされたもので、パターン面
積を縮小し集積度を上げることのできる半導体記憶装置
を提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段) 二の発明は、複数のメモリセルアレイ、サブデータバス
、リードアンプ回路、ライトバッファ回路を有する半導
体記憶装置において、サブデータバス、リードアンプ回
路およびライトバッファ回路は、複数のメモリセルアレ
イに対して共通に一組設けるようにしたものである。
また、半導体集積回路化する場合に2層アルく配線を用
い、1つの層のアルミ配線で、メモリセルアレイを制御
するロウデコーダ内の信号線とサブデータバスの一部を
形成し、他の層のアルミ配線でサブデータバスの残り部
分を形成するものである。
(作 用) 上記この発明においては、サブデータバス、リードアン
プ回路およびライトバッファ回路は必要最小限の一組の
みとなるので、半導体集積回路化する場合にパターン面
積は小さくてすみ、高集積化を図れる。
また、サブデータバスを複数のメモリセルアレイに対し
て共通化する場合は、第3図の従来のメモリセルアレイ
ごとのサブデータバスを相互に接続する配線部分が必要
となるが、2層アルミ配線を用いれば、1層目アルミ配
線でロウデコーダ内の信号線とともにメモリセルアレイ
毎のサブデータバスを形成し、2層目のアルミ配線でメ
モリセルアレイ毎のサブデータバスを相互に接続する配
線部分を形成することにより、ポリシリコンやポリサイ
ド配線など抵抗値が高くて高速化に不向きな配線材料を
用いることなくサブデータバスが共通化される。
(実施例) 以下この発明の一実施例を図面を参照して説明する。第
1図はこの発明の一実施例を示す回路図であり、図中第
3図と同一部分には第3図と同一符号を付しである。
この第1図において、11はロウデコーダで、その出力
信号線(ワードAI)のうち、出力信号線WLI、WL
2は、第1メモリセルアレイ12a内の一対の1トラン
ジスタ・1キヤパシタ型セルのそれぞれのトランスファ
ゲートとしてのNチャンネルトランジスタTri、Tr
2のゲートに接続される。トランジスタTrlのソース
・ドレインの一方はビット線BLに接続され、ソース・
ドレインの他方はメモリセルキャパシタM1に接続され
る。さらにキャパシタMlのもう一方の端子は固定電位
VCpに接続される。トランジスタTr2のソース・ド
レインの一方はビット線BLに、他方はメモリセルキャ
パシタM2に接続される。さらにキャパシタM2のもう
一方の端子は固定電位Vcpに接続される。Nチャンネ
ルトランジスタTr3およびPチャンネルトランジスタ
Tr5  のゲートはそれぞれビット線BLに接続され
、ドレインはそれぞれビット線BLに接続され、トラン
ジスタTr3のソースはセンス用電源AIに、トランジ
スタTr5  のソースはセンス用電源B1に接続され
る。NチャンネルトランジスタTr4  およびPチャ
ンネルトランジスタTr6  のゲートは共にビット線
BLに、ドレインは共にビット線BLに接続され、トラ
ンジスタTr4のソースはセンス用電源A1に、トラン
ジスタTr6のソースはセンス用電源B1に接続される
。第1コラムデコーダ13aの出力線のうち出力線CL
Iの1本はNチャンネルトランジスタTr7.Tr8の
ゲートに共に接続され、トランジスタTr7のソース・
ドレインの一方はビット線BLに、他方はサブデータバ
スSDRに接続される。トランジスタTr8のソース・
ドレインの一方はビット線BLに、他方はサブデータバ
スSDBに接続される。サブデータバスSDR,SDB
は、それぞれライトバンファ回路14内のNチャンネル
トランジスタTr9.TrlOのドレイン・ソースの一
方に接続され、このトランジスタTr9.Tr10のゲ
ートは共にデータバス選択信号線DSに接続され、同ト
ランジスタTr9.Trl Oのドレイン・ソースの他
方はそれぞれライトデータバスWDB、WDBに接続さ
れる。また、サブデータバスSDB、SDRは、リード
アンプ回路15内のNチャンネルトランジスタTri 
5.Tri 6のドレイン・ソースの一方に接続され、
このトランジスタTri 5.Tri 6のゲートは共
にリードアンプ選択信号線RDに接続され、同トランジ
スタTrl 5.Tri 6のドレイン・ソースの他方
はそれぞれリードデータバスRDB、RDBに接続され
る。また、リードアンプ回路15内のPチャンネルトラ
ンジスタTrllとNチャンネルトランジスタTr13
  のゲートは共にリードデータバスRDBに、トラン
ジスタTrllおよびTri3のドレインは共にリード
データバスRDBに接続され、トランジスタTr13の
ソースはセンス用電源A2に、トランジスタTrll 
 のソースはセンス用電源B2に接続される。また、リ
ードアンプ回路15内のPチャンネルトランジスタTr
12  とNチ中ンネJレトランジスタTr14  は
ドレインが共にリードデータバスRDBに接続され、ゲ
ートは共にリードデータバスRDBに接続される。さら
にトランジスタTr12  のソースは前記センス用電
源B2に、トランジスタTr14  のソースは前記セ
ンス用電源A2に接続される。
第2メモリセルアレイ12bは、トランジスタTrl=
Tr8とキャパシタM1.M2から構成される第1メモ
リセルアレイ12aと同じ構成であり、ただし、出力線
CL1の代りに第2コラムデコーダ13bの出力線のう
ち出力線CL2が接続され、出力信号線WLI、WL2
の代りにロウデコーダ11の出力信号線のうち出力信号
線WL3WL4が接続される。しかし、サブデータバス
に関しては、第1メモリセルアレイ12aと共通のサブ
データバスSDR,SDRが第2メモリセルアレイ12
bに接続される。したがって、この第2メモリセルアレ
イ12bは、この共通のサブデータバスSDB、SDR
を介して、第1メモリセルアレイ12aと共通のリード
アンプ回路15およびライトバンファ回路14にも接続
されることになる。
また、リードデータバスRDB、RDBは出力バッファ
回路16に、ライトデータバスWDB。
WDBは人カバソファ回路17に接続される。
このように構成された装置の動作を説明する。
まず、リード時の動作を第2図を用いて説明する。
ロウデコーダ11により出力信号線WLIが選択された
とすると、出力信号線WLIはL″から“H”になり、
トランジスタTriがオンする。
キャパシタM1に“L”が書き込まれていたとすると、
トランジスタTriのオンにより、キャパシタMlとビ
ット線BLO間で電荷の再配分が行われ、この時、ビッ
ト線BL上での減少分をΔVとする。ビット線BL、B
Lは初期状態で共に“H”と“L”の中間レベルとして
%Vccレベルであるとすると、ビットIIBLは(%
Vcc−ΔV)のレヘルトなる。次に、初期状態で!4
Vccレベルであったセンス用電源AI、Blが、セン
ス用電源A1は“L″、センス用電源B1は“H”にな
り、この時ビット線BLはビット線BLよりΔV分電位
が低いため、トランジスタTr3とTr4ではトランジ
スタTr4  の方が、トランジスタTr5  とTr
6ではトランジスタTr5の方が駆動能力が高くなり、
ビット線BLは“H”に、ピント11ABLは”L″に
なる0次に、第1コラムデコーダ13aにより出力線C
LIが選択されると、トランジスタTr7.Tr8がオ
ンし、ビット線BLBLのデータがサブデータバスSD
B、SDBに伝達される。サブデータバスSDB、SD
Rの初期値を%Vccとすると、初期値の%Vccから
サブデータバスSDBはH″に、逆にサブデータノくス
SDBは“L”になる。リードアンプ選択信号$iRD
がH″になると、サブデータバスSDB。
SDBのデータはリードデータバスRDB。
RDBに伝達される。同様に%Vccが初期値であると
、リードデータバスRDBの方がリードデータバスRD
Bより高電位になる。また、初期状態で%Vccレベル
だったセンス用電源A2.B2が、センス用電源A2は
″L″に、センス用電源B2は“H″になるとする。す
ると、トランジスタTr13とTr14ではトランジス
タTr14  の方が、トランジスタTrllとTr1
2ではトランジスタTrllの方が駆動能力が高くなり
、最終的にリードデータバスRDBは“H”に、リード
データバスRDBは“L”になり、出力バッファ回路1
6にデータが伝達される。
一方、ライト時は、入力バッファ回路17によりデータ
がライトデータバスWDB、WDBに伝達される。いま
、この伝達によりライトデータバスWDBが“H”  
ライトデータバスWDBが“L”になるとする、データ
バス選択信号wADSが選択されたとすると、データバ
ス選択信号線DSは“L″からH”になり、ライトバン
ファ回路14内のトランジスタTr9.Trl Oがオ
ンし、ライトデータバスWDB、WDBのデータがサブ
データバスSDB、SDRに伝達される。第1コラムデ
コーダ13aにより出力線CLIが選択され”L”から
“Hlになると、トランジスタTr7  Tr8がオン
し、データがビット線BL。
BLに伝達される。この時、ロウデコーダ11により既
にワード線は選択され、リード時と同し動作をすること
で、ビット線BLとBLはどちらか一方がH”に、他方
が”L″になっている。
ここで、前記のようにサブデータバスSDB。
SDBからデータが伝達され、ビットIBL。
1丁のデータはサブデータバスSDB、SDBのデータ
に書きかわり、ライト動作が終了する。
このような第1メモリセルアレイ12aのリード・ライ
ト時、第2メモリセルアレイ12bではサブデータバス
は第1メモリセルアレイ12aと共用になっているため
動作しているが、出力線CL2、出力信号線WL3.W
L4が非選択であるため、第2メモリセルアレイ12b
は動作していない、第2メモリセルアレイ12bは、出
力信号線WL3.WL4、出力線CL2が選択された時
、第1メモリセルアレイ12aと同様に動作する。
さて、DRAMでは、高速動作が要求されるため、ロウ
デコーダにより1本のワード線が選択される時間と、ビ
ット線からサブデータバスそしてサブデータバスからリ
ードアンプ回路へデータが転送されてゆく時間をできる
だけ短くする必要がある。そのため、各配線は抵抗値の
低い材料を用いる必要がある。ところで、第1図のよう
にサブデータバスを第1.第2メモリセルアレイ12a
12bで共通化するには、第3図の従来のメモリセルア
レイごとのサブデータバスを相互に接続する配線部分が
必要となるが、17@At配線プロセスでは、ロウデコ
ーダ内の信号線とメモリセルアレイごとのサブデータバ
スに^l配線を使用すると、メモリセルアレイごとのサ
ブデータバスを相互に接続する配線部分には抵抗値の高
いポリシリコンもしくはポリサイド配線材料を用いなけ
ればならず、高速化を阻害することになる。
そこで、この発明の一実施例では、2層AI配線を使用
する。そして、1層目AI配線でロウデコーダ11内の
信号線と共にサブデータバスSDB。
SDRの一部(第3図のメモリセルアレイ毎のサブデー
タバスに対応する部分)を形成し、2層目A4配線でサ
ブデータバスSDR,SDBの残り部分(第3図のメモ
リセルアレイ毎のサブデータバスを相互に接続する部分
)を形成する。このようにすることにより、高抵抗を付
加することなく、高速動作化を害することなく、第1.
第2メモリセルアレイ12a、12bでサブデータバス
を共通化できる。
(発明の効果) 以上詳細に説明したように、この発明の半導体記憶装置
によれば、複数のメモリセルアレイでサブデータバス、
リードアンプ回路、ライトバッファ回路を共用している
ので、これらサブデータバス、リードアンプ回路および
ライトバッファ回路の数を必要最小限の一組とすること
ができ、半導体集積回路化する場合にパターン面積を縮
小することができ、高集積化を図ることができる。また
、半導体集積回路化する場合に2層アルミ配線を用いる
ようにしたので、高抵抗を付加することなく、高速動作
を害することなくサブデータバスを複数のメモリセルア
レイで共通化できる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の半導体記憶装置の一実施例を示す回
路図、第2図は第1図の装置の特にリード時の動作を示
す波形図、第3図は従来の半導体記憶装置の回路図、第
4図は第3図の装置の特にリード時の動作を示す波形図
である。 11・・・ロウデコーダ、12a・・・第1メモリセル
アレイ、12b・・・第2メモリセルアレイ、13a・
・・第1コラムデコーダ、13b・・・第2コラムデコ
ーダ、SDB、SDB・・・サブデータバス、14・・
・ライトバッファ回路、15・・・リードアンプ回路、
RDB  RDB・・・リードデータバス、WDBWD
B・・・ライトデータバス。 l′L二;・モ=弓 l zVcc H+ 2 ’/2Vcc 第1図 本整唱の一哀11仔+1の動作液形図(1)第2図 y時)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)コラムデコーダおよびロウデコーダにより制御さ
    れる複数のメモリセルアレイを有し、そのメモリセルア
    レイのデータ入出力部がサブデータバスおよびリードア
    ンプ回路を介してリードデータバスに接続される一方、
    ライトデータバスがライトバッファ回路および前記サブ
    データバスを介して前記メモリセルアレイのデータ入出
    力部に接続される半導体記憶装置において、 サブデータバス、リードアンプ回路およびライトバッフ
    ァ回路は、複数のメモリセルアレイに対して共通に一組
    設けたことを特徴とする半導体記憶装置。
  2. (2)半導体集積回路化する場合に、2層アルミ配線を
    用い、1つの層のアルミ配線でロウデコーダ内の信号線
    とサブデータバスの一部を形成し、他の層のアルミ配線
    でサブデータバスの残り部分を形成することを特徴とす
    る請求項(1)記載の半導体記憶装置。
JP2069681A 1990-03-22 1990-03-22 半導体記憶装置 Pending JPH03272090A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05342855A (ja) * 1992-06-04 1993-12-24 Nec Corp 半導体メモリ回路
US7251149B2 (en) 2002-07-26 2007-07-31 Hitachi, Ltd. Semiconductor memory device provided with a write column selection switch and a read column selection switch separately

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