JPH0326712A - 封止用樹脂の製造方法 - Google Patents

封止用樹脂の製造方法

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JPH0326712A
JPH0326712A JP1160852A JP16085289A JPH0326712A JP H0326712 A JPH0326712 A JP H0326712A JP 1160852 A JP1160852 A JP 1160852A JP 16085289 A JP16085289 A JP 16085289A JP H0326712 A JPH0326712 A JP H0326712A
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bismaleimide
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Kenichi Suzuki
憲一 鈴木
Hisafumi Enoki
尚史 榎
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の利用分野) 本発明はガラス転移点(以下Tgとレ\う)力一高く、
相溶性、耐湿性に優れ、かつ低応力特性tこ優れtこ半
導体封止用樹脂の製造方法tこ関するものである。
(従来技術) 近年IC%LSI,}ランジスター、ダイオードなどの
半導体素子や電子回路等の封止には特性、コスト等の点
からエポキシ樹脂組戊物が多量に、かつ最も一般的に用
いられている。
しかし、電子部品の量産性指向、高集積化や表面実装化
の方向に進んで来ておりこれに伴い封止樹脂に対する要
求は厳しくなってきている。
特に高集積化に伴うチップの大型化、パッケージの薄肉
化や表面実装時における半田浸漬(200〜300゜C
)によって装置にクラツクが発生し易くなっており信頼
性向上のために半導体封止用樹脂としては低応力特性と
耐熱性が強く望まれている。
半導体封止用樹脂としては現在エポキシ樹脂が主流であ
るが耐湿性、低応力特性の点で未だ満足されるものは得
られていない。
これらに対処するためにエポキシ系樹脂においてはシリ
コーン化合物等の添加やシリコーン変性エポキシ樹脂の
利用によって低応力特性をもたせる試みがなされている
が、耐熱性という点ではエポキシ樹脂を用いているかぎ
り、改良に限界があり、表面実装時の半田浸漬後の信頼
性の高いものが得られていない。
高耐熱性を有する樹脂としてはマレイミド樹脂が注目さ
れてきているが、低応力特性に劣り、堅くて脆いという
欠点がある。ポリアミノマレイミド樹脂においては堅く
て脆いという欠点は改良されて来ているが、低応力特性
の面では未だ不十分である。
ポリマレイミドとアルケニルフェノール類、またはアル
ケニルフェノールエーテル類などを重合触媒存在下で反
応させる例(特開昭52−994号公報,特開昭58−
117219号公報)もあるが、ポリマレイミド樹脂と
同様に低応力特性に劣るという欠点を持ったものであっ
た。
ポリアミノマレイミド樹脂を含むマレイミド樹脂の低応
力特性の改善策として各種シリコーン化合物の添加が試
みられているが相溶性が著しく劣り、相分離して均質な
樹脂が得られない。
とくに、シリコーンオイルを用いた場合にはオイルのブ
リードが生じるためにロール滑り、金型汚れを起こして
しまう。又シリコーンゴムを用いた場合には接着性が低
下してしまう。
また、相溶性を向上させるために末端に一〇H基、−O
CR,基等の反応性基を持ったシリコーン化合物を添加
する例( B ri t U K PAT2Q1880
2(1984),FR2544325.特開昭57−9
0827.56−20023.57−90012.58
−74749号公報)もあるが戒形時にガスが発生しフ
クレを生じたり、耐熱性や耐湿性の低下を招き満足のい
く性能を発揮できていない。
また、ビスマレイミドとジアミンとアミノ基含有ボリシ
ロキサンとを溶液中で反応させる例(特開昭62−24
6933号公報)があるが得られた樹脂を成形材料とし
て用いる場合は、溶剤を用いないバルク反応によって反
応させることが必要であり、この例においてはジアミン
とアミノ基含有ポリシロキサンとは相溶性が著しく悪く
、またジアミンとアミノ基含有ポリシロキサンそれぞれ
のビスマレイミドとの反応速度も大きく異なるため、均
質な樹脂をバルク反応で得ることは非常に困難であり、
(発明の目的) 本発明の目的とするところは相溶性に非常に優れ、一般
の特性を低下させることなく低応力特性、耐湿性に優れ
、かつ高耐熱性を有し、半田浸漬後の信頼性に非常に優
れた半導体封止用樹脂の製造方法を提供することにある
(発明の構或) 本発明は下記式(I)で示されるジグリシジルポリシロ
キサンと下記式(n)で示される多官能ポリアリルフェ
ノール類とをア二オン触媒存在下で反応せしめて得られ
る付加体100重量部と下記式(III)で示されるビ
スマレイミド200〜1000![量部とを反応させる
ことを特徴とする封止用樹脂の製造方法である。
不可能であった。
(作用) 本発明に用いるジグリシジルポリシロキサンは下記式(
I)で示される重合度1〜100の化合物である。
R1:アルキレン基又はフエニレン基 R,,R3:アルキル基又はフエニル基このジグリシジ
ルポリシロキサンの重合度nが100以上となれば相溶
性が非常に低下してしまう。
また、本発明に用いるポリアリル7エノール類としては
下記式(II)で示され、その重合度mはO〜10の範
囲である。
−So,,−l−o− 重合度mが10以上の場合は融点が高く、作業性が悪く
なって、硬化樹脂の強度が低下する。
さらに、ジグリンジルボリシロキサンへの多官能ポリア
リルフェノール類の付加量は、ジグリシジルポリシロキ
サン中のグリシジル基1個に対し、多官能ポリアリルフ
ェノール類中の水酸基が1〜5個が好ましい。
水酸基の量が少なすぎると未反応のポリシロキサンが残
存し、戊形時に金型曇りを起こし、また多すぎると低応
力化に効果がない。
この反応において、触媒はアニオン触媒が用いられる。
無触媒系では反応に長時間を要し好ましくない。
アニオン触媒としてはトリエタノールアミン、トリブチ
ルアミン、ペンジルージメチルアミン、2,4.6−ト
リス(ジメチルアミノメチル)フェノールなどの3級ア
ミンも使用できるが、反応時の安定性や保存性の点で有
機ホス7イン類が特に好ましい。
有機ホスフィン類としては、例えばトリフェニルホスフ
ィン、トリーメトキシフェニルホスフィン、トリブチル
ホス7イン、トリオクチルホス7イン、トリ−2−シア
ノエチルホスフィンなどを挙げることができる。
有機ホスフィン類はジグリシジルポリシロキサンー多官
能ポリアリル7エノール類100重量部に対してo.o
os〜5重量部が好ましい。
0.005重量部以下であれば、反応に長時間を要し、
また5m11部以上であれば保存性が低下する。
本発明において用いられるビスマレイミド樹脂は下記式
(III)で表される。
R,=2価の芳香族基 具体例としては、N,N’−m−フェニレンビスマレイ
ミド、N,N’−p−7エニレンビスマレイミド、N,
N’−m−トルイレンビスマレイミF、N,N’−4.
4’−ヒ7エニレンビスマレイミド、N,N ’−4.
4 ’−(3,3 ’−ジメチルービフェニレン〕ビス
マレイミド、N,N ’−4.4 ’−[:3.3′−
ジメチルジフエニルメタン]ビスマレイミド、N,N 
’−4.4 ’−(3.3 ’−ジエチルジフェニルメ
タン〕ビスマレイミド、N,N ”4.4 ’−ジフェ
ニルメタンビスマレイミF、N,N ’−4.4 ’−
ジ7エニルプロパンビスマレイミF、N,N ′−4.
4′−ジフェニルエーテルビスマレイミド、N,N ’
−3.3 ’−ジフェニルスルホンビスマレイミド、N
,N ’−4.4 ’−ジフェニノレスルホンビスマレ
イミドなどを挙げることができる。これらは2種以上含
まれていても何ら差し支えない。
ビスマレイミドは付加体(A)100重量部に対し、2
00〜tooot量部が好ましい。
200重量部以下では、強度、耐湿性が低下し、また1
000重量部以上であれば低応力特性に効果がない。
付加体(A)とビスマレイミドとの反応は100〜20
0℃の温度で行い、反応の終点は得られた樹脂の融点が
50〜120゜Cとなるまで行うことが好ましい。
なお、反応の終点を確認するには反応系より少量の樹脂
を取り出し、冷却し融点を測定して確認する。
また、得られた樹脂を用いて戊形材料化するにはこの樹
脂に、エポキシ樹脂、硬化促進剤、無機充填材、滑剤、
難燃剤、離型剤やシランカップリング剤等を必要に応じ
て適宜配合添加し、均一に混合した組或物を二一ダー、
熱ロール等により混練処理を行い、冷却後粉砕して成形
材料とする。
得られた戊形材料を半導体の封止用としてもちいれば高
Tgであり、しかも低応力特性に優れ、非常に信頼性の
高い半導体封止用樹脂組或物を得ることができる。
(実施例) 実施例1〜3 第1表に示す配合でジグリシジルポリシロキサンとo,
o’−ジアリルビスフェノールAにトリフェニルホス7
インを添加して160゜Cで30分間反応した。
これにN,N ’−4.4 ’−ジフェニルメタンビス
マレイミドを添加し、20分間反応させ、融点が60〜
80℃の均質なシリコーン変性マレイミド樹脂得た。
比較例l 第1表に示す配合で、全部同時に添加し、反応させたが
、相溶性が悪く、均質な樹脂が得られなかった@ 比較例2〜5 第1表に示す配合で実施例1〜3と同様に反応させた。
比較例4.5は相溶性が悪く、均質な樹脂が得られなか
った。
実施例4〜6 第2表に示すように実施例1〜3で得たシリコーン変性
マレイミド樹脂にシリカ粉末、硬化促進剤、アミノシラ
ン、着色剤および離型剤を配合し、熱ロールで混練し戒
形材料を得I;。
得られた戊形材料をトランスファー成形により180℃
,3分で或形しフクレの無い光沢の有る成形品が得られ
た。この成形品をさらに180’C!,8時間後硬化を
行い特性を評価した。結果を第2表に示す。
実施例1〜3の樹脂を用いた実施例4〜6の成形材料は
常温での曲げ弾性率が小さく、低応力で、内部応力も小
さく、しかもガラス転移温度が高く、250℃での曲げ
強度も大きく耐熱性、耐半田クラック性に優れていた。
比較例6.7 比較例2,3の樹脂をもちいて、第2表に示す配合で、
実施例4〜6と同様に戊形して特性を評価した。結果を
第2表に示す。
比較例2.3の樹脂を用いた比較例6,7の戊形材料は
常温での曲げ弾性率が高すぎたり、吸水率が大きいため
耐半田クラック性に劣るものであっIこ。
C以 下 余 白) (発明の効果) 本発明による半堺体封止用樹脂を用いた組戒・硬化物は
高Tgfあり、耐湿性及び熱時の強,優れているため封
止体の耐半田クラック性がかつ低応力であり耐ヒートサ
イクル性にも優おり、半導体封止用樹脂組戊物として非
常に性の高い優れたものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(A)下記式( I )で示されるジグリシジルポ
    リシロキサンと下記式(II)で示される多官能ポリアリ
    ルフェノール類とを、ジグリシジルポリシロキサン中の
    グリシジル基1個に対し、多官能ポリアリルフェノール
    類中の水酸基が1〜5個となる量でアニオン触媒存在下
    において反応せしめて得られる付加体100重量部と ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・( I ) R_1:アルキレン基又はフェニレン基 R_2、R_3:アルキル基又はフェニル基n:1〜1
    00の整数 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・(II) R_4:−O−、−CH_2−、▲数式、化学式、表等
    があります▼、 −SO_2−、▲数式、化学式、表等があります▼ m:0〜10の整数 (B)下記式(III)で示されるビスマレイミド200
    〜1000重量部とを ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・(III) R_5:2価の芳香族基 反応生成樹脂の融点が50〜120℃となるまで反応さ
    せることを特徴とする封止用樹脂の製造方法。
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