JPH03261646A - 耐蝕性材料 - Google Patents
耐蝕性材料Info
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- JPH03261646A JPH03261646A JP2056420A JP5642090A JPH03261646A JP H03261646 A JPH03261646 A JP H03261646A JP 2056420 A JP2056420 A JP 2056420A JP 5642090 A JP5642090 A JP 5642090A JP H03261646 A JPH03261646 A JP H03261646A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、化学的に活性な溶融金属に浸蝕されず、かつ
高温強度の優れた耐蝕性材料に関する。
高温強度の優れた耐蝕性材料に関する。
(従来の技術)
チタン、ジルコニウムおよびウランのような活性金属は
、化学的に活性であるだけでなく融点も高い。そこで、
従来はこのように化学的に活性な高温の溶融金属と接す
る部材の材料としては、耐熱性・耐蝕性(耐溶融金属腐
食性)に富んだセラミックス、すなわちY OThO2
などの2 3ゝ 金属酸化物やZrC,TiC,HfCなどの金属炭化物
、およびZrN、TiN、TaNなどの金属窒化物が使
用されている。
、化学的に活性であるだけでなく融点も高い。そこで、
従来はこのように化学的に活性な高温の溶融金属と接す
る部材の材料としては、耐熱性・耐蝕性(耐溶融金属腐
食性)に富んだセラミックス、すなわちY OThO2
などの2 3ゝ 金属酸化物やZrC,TiC,HfCなどの金属炭化物
、およびZrN、TiN、TaNなどの金属窒化物が使
用されている。
(発明か解決しようとする課題)
しかし、上述のセラミックス材料は、一般に強度・靭性
が低く、使用に当たっては溶融金属の付着等の熱衝撃や
熱応力により亀裂か発生し、容易に破壊することがあっ
た。
が低く、使用に当たっては溶融金属の付着等の熱衝撃や
熱応力により亀裂か発生し、容易に破壊することがあっ
た。
一方、タングステン、タンタルおよびレニウムなどの高
融点金属は、靭性がセラミックスに比べて著しく高いと
いう特長も有する。したがって、耐熱性および耐熱衝撃
性(高温強度)に優れた材料として、セラミックスに替
えて上述の部材に用いることも行われている。しかし、
これらの部材は、使用中には再結晶化温度以上の高温下
で長時間保持されることもあるため、結晶粒の一部溶融
による粗大化によって脆化するという欠点がある。
融点金属は、靭性がセラミックスに比べて著しく高いと
いう特長も有する。したがって、耐熱性および耐熱衝撃
性(高温強度)に優れた材料として、セラミックスに替
えて上述の部材に用いることも行われている。しかし、
これらの部材は、使用中には再結晶化温度以上の高温下
で長時間保持されることもあるため、結晶粒の一部溶融
による粗大化によって脆化するという欠点がある。
また、これらの金属は、溶融したチタン、ジルコニウム
、ウランなどの活性金属に対する活性がよいため、長時
間使用するとこれら溶融金属と反応して減肉する。この
減肉のメカニズムを第6図(A)ないしくC)を用いて
模式的に示す。
、ウランなどの活性金属に対する活性がよいため、長時
間使用するとこれら溶融金属と反応して減肉する。この
減肉のメカニズムを第6図(A)ないしくC)を用いて
模式的に示す。
第6図(A)において、溶融した活性金属1に接する高
融点金属の材料2は、高融点金属の結晶3が集合して形
成される。結晶3の境界は結晶粒界4である。高融点金
属材料2の表面において、溶融した活性金属1aは、ま
ず結合力が弱く耐蝕性に劣る不純物が集中する結晶粒界
4に浸入する。
融点金属の材料2は、高融点金属の結晶3が集合して形
成される。結晶3の境界は結晶粒界4である。高融点金
属材料2の表面において、溶融した活性金属1aは、ま
ず結合力が弱く耐蝕性に劣る不純物が集中する結晶粒界
4に浸入する。
すると、第6図(B)に示すように、溶融した活性金属
1aは、結晶粒界4において急速に拡散・浸透し、結晶
粒界4を腐食する。その結果、第6図(C)に示すよう
に、表面における結晶3aの周囲は、すべて結晶粒界4
を腐食した活性金属1aに取り囲まれ、結晶3aは脱落
する。また結晶粒界4は高温強度が低いため、何らかの
衝撃があれば、この結晶粒界4に沿って破断することか
認められる。以下このメカニズムが繰り返されて、高融
点金属材料2は徐々に減肉する。
1aは、結晶粒界4において急速に拡散・浸透し、結晶
粒界4を腐食する。その結果、第6図(C)に示すよう
に、表面における結晶3aの周囲は、すべて結晶粒界4
を腐食した活性金属1aに取り囲まれ、結晶3aは脱落
する。また結晶粒界4は高温強度が低いため、何らかの
衝撃があれば、この結晶粒界4に沿って破断することか
認められる。以下このメカニズムが繰り返されて、高融
点金属材料2は徐々に減肉する。
そこで近年、このようなセラミックスと上述の金属の双
方の欠点を改善する手段として、靭性の高い金属基材の
表面に、耐蝕性に優れたセラミックスを溶射等の方法に
よってコーティングする技術が開発された。しかし、こ
の場合においても、コーティングされたセラミックス皮
膜の密着性が不十分でセラミックスの耐蝕効果がよく発
揮されなかったり、皮膜の密度が不揃いで、均一性の点
で製品としての信頼性に欠けるという難点がある。
方の欠点を改善する手段として、靭性の高い金属基材の
表面に、耐蝕性に優れたセラミックスを溶射等の方法に
よってコーティングする技術が開発された。しかし、こ
の場合においても、コーティングされたセラミックス皮
膜の密着性が不十分でセラミックスの耐蝕効果がよく発
揮されなかったり、皮膜の密度が不揃いで、均一性の点
で製品としての信頼性に欠けるという難点がある。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、溶融状態で
化学的に活性なチタン、ジルコニウム、ウランなどの金
属に対し、長時間接触して使用できる信頼性の高い部材
材料を提供することを目的とする。
化学的に活性なチタン、ジルコニウム、ウランなどの金
属に対し、長時間接触して使用できる信頼性の高い部材
材料を提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明は上記課題を解決するために、セラミックスを主
成分とし、このセラミックスの結晶粒界に高温強度の優
れた材料を配したことを特徴とする耐蝕性材料を提供す
る。
成分とし、このセラミックスの結晶粒界に高温強度の優
れた材料を配したことを特徴とする耐蝕性材料を提供す
る。
本発明はまた、前記耐蝕性材料の表面に前記セラミック
スと同一のセラミックスの皮膜を形成したことを特徴と
する耐蝕性材料も提供する。
スと同一のセラミックスの皮膜を形成したことを特徴と
する耐蝕性材料も提供する。
(作用)
本発明の耐蝕性材料は、主成分とするセラミックスによ
って耐熱性および耐蝕性が発揮され、かつこのセラミッ
クスの結晶粒界に網羅された高温強度の優れた材料によ
って耐熱衝撃性が補われる。また、この高温強度に優れ
た材料はネットワク状に形成されるため結合力も強く、
溶融金属の浸入を防止できる。さらに、この耐蝕性材料
の表面に主成分と同一種類のセラミックス皮膜を形成す
れば、皮膜は同一材料であるため密着性がよく、セラミ
ックスの耐蝕効果が十分に発揮されて、内部の浸蝕がよ
り確実に防止される。
って耐熱性および耐蝕性が発揮され、かつこのセラミッ
クスの結晶粒界に網羅された高温強度の優れた材料によ
って耐熱衝撃性が補われる。また、この高温強度に優れ
た材料はネットワク状に形成されるため結合力も強く、
溶融金属の浸入を防止できる。さらに、この耐蝕性材料
の表面に主成分と同一種類のセラミックス皮膜を形成す
れば、皮膜は同一材料であるため密着性がよく、セラミ
ックスの耐蝕効果が十分に発揮されて、内部の浸蝕がよ
り確実に防止される。
(実施例)
以下第1図ないし第5図を参照して本発明の詳細な説明
する。
する。
第1図は、溶融状態の活性金属1と接する本発明の一実
施例に係る耐蝕性材料10の模式断面図である。
施例に係る耐蝕性材料10の模式断面図である。
この耐蝕性材料10は、耐熱性・耐蝕性に優れた結晶形
のセラミックス11を主成分とし、このセラミックスの
結晶11の境界となる結晶粒界12には高温強度の高い
材料13を配する。したがって、この結晶11を取巻く
材料13は、ネットワーク状になる。またこの耐蝕性材
料10の表面にはセラミックス11と同種のセラミック
スでできた皮膜14を形成し、この皮膜14が溶融状態
の活性金属1と接する。この皮膜14は、被覆するセラ
ミックス11と同種の材料を用いるため、密着性がよい
。
のセラミックス11を主成分とし、このセラミックスの
結晶11の境界となる結晶粒界12には高温強度の高い
材料13を配する。したがって、この結晶11を取巻く
材料13は、ネットワーク状になる。またこの耐蝕性材
料10の表面にはセラミックス11と同種のセラミック
スでできた皮膜14を形成し、この皮膜14が溶融状態
の活性金属1と接する。この皮膜14は、被覆するセラ
ミックス11と同種の材料を用いるため、密着性がよい
。
セラミックス11としては、耐熱性・耐蝕性に優れ、粒
界が健全であるという点から、Y2O3、曳 Z r OT h <) Hf O2、UO2、Be
d。
界が健全であるという点から、Y2O3、曳 Z r OT h <) Hf O2、UO2、Be
d。
21 2S
Ho203、Tm2O3、Er2O3、Nd 203、
Lu2O3、TaC,HfC,Tic、ZrC。
Lu2O3、TaC,HfC,Tic、ZrC。
TaN、ZrN5HfNが好ましいが、溶融金属に対す
る耐濡れ性をも考えると、Y2O3、zrO2、T h
O2、HfO2、U O2、BeO,Ho OTm
OEr ONd20a、2 3ゝ 23’2
3ゝ Lu2O3の酸化物が特に好ましい。
る耐濡れ性をも考えると、Y2O3、zrO2、T h
O2、HfO2、U O2、BeO,Ho OTm
OEr ONd20a、2 3ゝ 23’2
3ゝ Lu2O3の酸化物が特に好ましい。
また高温強度の高い材料13としては、W、Ta。
NbSMoおよびReの高融点金属ならびにこれら合金
、さらにS I CSS 13N4およびzr02を用
いることができる。なおZ r O2は高温強度も有す
るセラミックスであるが、結晶形のセラミックス11に
Z r O2を用いるときは、材料13には他の物質を
当てる。
、さらにS I CSS 13N4およびzr02を用
いることができる。なおZ r O2は高温強度も有す
るセラミックスであるが、結晶形のセラミックス11に
Z r O2を用いるときは、材料13には他の物質を
当てる。
本実施例の耐蝕性材料10を用いれば、たとえ活性な溶
融金属1に接しても、耐熱性・耐蝕性に富んだセラミッ
クス皮膜14によって溶融金属1は完全に浸入を阻まれ
、内部のセラミックス11および高温強度の高い材料1
3は、活性金属1に接することはない。したがって、耐
蝕性材料10は活性金属1に浸蝕されることはなく、さ
らにネットワーク状に形成された高温強度の高い材料1
3によって、高温下でも破断しにくくなる。この場合セ
ラミックス11の粒子がバリアとなって、W、Ta等の
高温強度の高い材料■3の再結晶化とそれに伴う結晶の
成長を阻止することも高温強度の維持に貢献する。
融金属1に接しても、耐熱性・耐蝕性に富んだセラミッ
クス皮膜14によって溶融金属1は完全に浸入を阻まれ
、内部のセラミックス11および高温強度の高い材料1
3は、活性金属1に接することはない。したがって、耐
蝕性材料10は活性金属1に浸蝕されることはなく、さ
らにネットワーク状に形成された高温強度の高い材料1
3によって、高温下でも破断しにくくなる。この場合セ
ラミックス11の粒子がバリアとなって、W、Ta等の
高温強度の高い材料■3の再結晶化とそれに伴う結晶の
成長を阻止することも高温強度の維持に貢献する。
次に本発明に係る耐蝕性材料の製造方法の一実施例を第
2図(A)ないしくD)を参照して説明する。
2図(A)ないしくD)を参照して説明する。
まず第2図(A)に示すように、真空容器21内におい
てセラミックスY 20 aの粉末22を、粉末22の
粒径より小さいメツシュのカゴ23に入れる。一方で電
子銃24から発せられる電子ビーム25の方向を磁場で
偏向・調節しながら、るつぼ26に収められた高温強度
の高いWの塊27に照射する。
てセラミックスY 20 aの粉末22を、粉末22の
粒径より小さいメツシュのカゴ23に入れる。一方で電
子銃24から発せられる電子ビーム25の方向を磁場で
偏向・調節しながら、るつぼ26に収められた高温強度
の高いWの塊27に照射する。
その結果Wの塊27は電子ビームのエネルギーを受けて
溶融し、やがてW原子28が蒸発する。
溶融し、やがてW原子28が蒸発する。
このときカゴ23を回転させておくと、Y 203粉末
22は適宜移動し、Y2O3粉末22の表面にW原子2
8が蒸着する。この場合Y 203とWの構成割合は、
適宜調節できる。
22は適宜移動し、Y2O3粉末22の表面にW原子2
8が蒸着する。この場合Y 203とWの構成割合は、
適宜調節できる。
このとき、Y2O3粉末22は、スプレードライ法によ
って球状に形成したものを使用すると、W原子28の均
一コーティングが可能になり、Wによって発揮される高
温強度特性が向上する。また、高温強度の高い材料によ
るセラミックス粉末の被覆・固定化は、スパッタリング
、イオンブレーティングなどの他の物理的蒸着、または
金属アルコキシド中にセラミックス粉末を浸し乾燥させ
る化学的固着法によっても行うことができる。
って球状に形成したものを使用すると、W原子28の均
一コーティングが可能になり、Wによって発揮される高
温強度特性が向上する。また、高温強度の高い材料によ
るセラミックス粉末の被覆・固定化は、スパッタリング
、イオンブレーティングなどの他の物理的蒸着、または
金属アルコキシド中にセラミックス粉末を浸し乾燥させ
る化学的固着法によっても行うことができる。
こうして、W原子28がコーティングされたY2O3粉
末22を十分に攪拌した後加圧整形すると、第2図(B
)に示すような予備焼結体29が得られる。この予備焼
結体29は仮焼しである程度の硬度を得た後、表面に粉
末22の材料と同じY2O3をプラズマ溶射する。なお
、この粒子状のセラミックスと同種のセラミックスによ
る皮膜は、他にガスの炎や電気アークを用いる溶射や物
理的蒸着、または化学的蒸着によっても形成することが
できる。
末22を十分に攪拌した後加圧整形すると、第2図(B
)に示すような予備焼結体29が得られる。この予備焼
結体29は仮焼しである程度の硬度を得た後、表面に粉
末22の材料と同じY2O3をプラズマ溶射する。なお
、この粒子状のセラミックスと同種のセラミックスによ
る皮膜は、他にガスの炎や電気アークを用いる溶射や物
理的蒸着、または化学的蒸着によっても形成することが
できる。
次いて第2図(C)に示すように、このY2O3皮膜が
溶射された予備焼結体29を焼結炉30の中で、5〜2
0時間、1800〜2300℃で焼結し、第2図(D)
に示すような素材ビレット3」を得る。この素材ビレッ
ト31の断面は、第1図に示したようになる。
溶射された予備焼結体29を焼結炉30の中で、5〜2
0時間、1800〜2300℃で焼結し、第2図(D)
に示すような素材ビレット3」を得る。この素材ビレッ
ト31の断面は、第1図に示したようになる。
この素材ビレット31は通常相対密度か90〜98%程
度であるため、このままの状態でも使用可能であるが、
約3時間、200 kgl/cm2程度の圧力下で16
00〜2000℃に加熱するHIP(熱間静水圧プレス
)処理を行い、相対密度を99%以上に高めると、特性
の著しい向上か認められた。なお、この相対密度の上昇
による特性向上は、ホットプレス()rP )によって
も達成することができる。また、セラミックス皮膜を形
成しない場合は、仮焼した予備焼結体29にHIPまた
はHPを施して焼結し、素材ビレットを得る。
度であるため、このままの状態でも使用可能であるが、
約3時間、200 kgl/cm2程度の圧力下で16
00〜2000℃に加熱するHIP(熱間静水圧プレス
)処理を行い、相対密度を99%以上に高めると、特性
の著しい向上か認められた。なお、この相対密度の上昇
による特性向上は、ホットプレス()rP )によって
も達成することができる。また、セラミックス皮膜を形
成しない場合は、仮焼した予備焼結体29にHIPまた
はHPを施して焼結し、素材ビレットを得る。
第3図は、上述の方法で得られた本発明の6種類の耐蝕
性材料(Wの含有割合はそれぞれ10.20.30.4
0,50および60体積%)を、高温強度材料を用いな
いY 203だけからなる材料およびWだけからなる材
料(「純W」と表す)と比較して、溶融チタン中に浸漬
したときの腐食減量をみたものである。
性材料(Wの含有割合はそれぞれ10.20.30.4
0,50および60体積%)を、高温強度材料を用いな
いY 203だけからなる材料およびWだけからなる材
料(「純W」と表す)と比較して、溶融チタン中に浸漬
したときの腐食減量をみたものである。
この図によれば、純W材料は35%近い大幅な腐食減量
を示す。これに対し、本発明のY 20 a−W複合材
料は、表面にY2O3皮膜が形成されて溶融チタンの浸
入が防止されることもあり、いずれもY2O3だけから
なる材料と同程度の2%未満の腐食減量しか示さない。
を示す。これに対し、本発明のY 20 a−W複合材
料は、表面にY2O3皮膜が形成されて溶融チタンの浸
入が防止されることもあり、いずれもY2O3だけから
なる材料と同程度の2%未満の腐食減量しか示さない。
第4図は、上述の本発明の6種類の耐蝕性材料と、Y
20 aだけからなる材料およびWだけからなる材料に
ついて、1000℃下で4点曲げ試験を行った結果を示
す。この図から本発明の耐蝕性材料は、Y 203単独
材料に比べ著しく高い高温強度を示すことが分かる。
20 aだけからなる材料およびWだけからなる材料に
ついて、1000℃下で4点曲げ試験を行った結果を示
す。この図から本発明の耐蝕性材料は、Y 203単独
材料に比べ著しく高い高温強度を示すことが分かる。
なお、W含有量が10体積%のものはネットワーク組織
の形成か十分でなく、Wを20体積%以上含むものに比
べて強度が劣る。また、皮膜を形成したものは、内部の
Y2O3−W複合材料との間で線膨脹率に差があるため
(Y2O3皮膜、0×106/℃、W= 4. 5 X
10−6/℃) 、皮膜にひびが入って強度の低下に
つながると考えられる。
の形成か十分でなく、Wを20体積%以上含むものに比
べて強度が劣る。また、皮膜を形成したものは、内部の
Y2O3−W複合材料との間で線膨脹率に差があるため
(Y2O3皮膜、0×106/℃、W= 4. 5 X
10−6/℃) 、皮膜にひびが入って強度の低下に
つながると考えられる。
第5図は、上述の本発明の耐蝕性材料のうちWの含有量
が20体積%のものとY2O3単独材料の常温での曲げ
強度のバラツキを比較して示したものである。この図か
ら明らかなように、本発明の耐蝕性材料は、曲げ強度が
高いだけでなく、そのバラツキを小さくできるため、製
品の製造に当たって強度の信頼性を高めることができる
。
が20体積%のものとY2O3単独材料の常温での曲げ
強度のバラツキを比較して示したものである。この図か
ら明らかなように、本発明の耐蝕性材料は、曲げ強度が
高いだけでなく、そのバラツキを小さくできるため、製
品の製造に当たって強度の信頼性を高めることができる
。
以上説明したように、本発明の耐蝕性材料によれば、耐
蝕性だけでなく、高温強度も増すことができるため、長
時間化学的に活性な溶融金属と接するような部材にも使
用することができる。
蝕性だけでなく、高温強度も増すことができるため、長
時間化学的に活性な溶融金属と接するような部材にも使
用することができる。
第1図は本発明の一実施例に係る耐蝕性材料の模式組織
図、第2図(A)ないしくD)は第1図に示す耐蝕性材
料の製造工程図、第3図は本発明の耐蝕性材料の耐蝕特
性を示すグラフ図、第4図は本発明の耐蝕性材料の高温
強度を示すグラフ図、第5図は本発明の耐蝕性材料の曲
げ強度のバラツキを示すグラフ図、第6図(A)ないし
くC)は従来の耐蝕性材料の減肉過程を示す模式組織図
である。 11・・・セラミックス粒子、13・・・高温強度の高
い材料、14・・・セラミックス皮膜、29・・・予備
焼結体、31・・・素材ビレット。 第1図
図、第2図(A)ないしくD)は第1図に示す耐蝕性材
料の製造工程図、第3図は本発明の耐蝕性材料の耐蝕特
性を示すグラフ図、第4図は本発明の耐蝕性材料の高温
強度を示すグラフ図、第5図は本発明の耐蝕性材料の曲
げ強度のバラツキを示すグラフ図、第6図(A)ないし
くC)は従来の耐蝕性材料の減肉過程を示す模式組織図
である。 11・・・セラミックス粒子、13・・・高温強度の高
い材料、14・・・セラミックス皮膜、29・・・予備
焼結体、31・・・素材ビレット。 第1図
Claims (2)
- 1.セラミックスを主成分とし、このセラミックスの結
晶粒界に高温強度の優れた材料を配したことを特徴とす
る耐蝕性材料。 - 2.前記耐蝕性材料の表面に前記セラミックスと同一の
セラミックスの皮膜を形成したことを特徴とする請求項
1記載の耐蝕性材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2056420A JPH03261646A (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | 耐蝕性材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2056420A JPH03261646A (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | 耐蝕性材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03261646A true JPH03261646A (ja) | 1991-11-21 |
Family
ID=13026612
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2056420A Pending JPH03261646A (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | 耐蝕性材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03261646A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008195546A (ja) * | 2007-02-08 | 2008-08-28 | Covalent Materials Corp | プラズマ処理装置用セラミックスおよびその製造方法 |
-
1990
- 1990-03-09 JP JP2056420A patent/JPH03261646A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008195546A (ja) * | 2007-02-08 | 2008-08-28 | Covalent Materials Corp | プラズマ処理装置用セラミックスおよびその製造方法 |
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