JPH03261630A - 高珪酸ガラス部材の製造方法およびその製造装置 - Google Patents
高珪酸ガラス部材の製造方法およびその製造装置Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
型の高珪酸ガラス部材の製造方法および製造装置に関す
るものである。
る。すなわち、酸水素炎等で上部から高珪酸ガラス原料
粉末を少しづつ落下させながら溶融し、ブロック状の高
珪酸塊を製造し、その塊をスライスして所定数枚の板を
溶接によってはり合わせることで大型高珪酸ガラス板を
製造していた。
水素炎で加熱して開き、同様に数枚の板を溶接して大型
の高珪酸ガラス板を製造していた。
処理を施さなければならなかった。
傾向にあり、その製造装置に使用される部材も大型のも
のが要求されてきている。このため、高珪酸ガラス板に
おいても例外ではなく、大型で均質、高粘性が要求され
ている。
供給することができる高珪酸ガラス部材の製造方法およ
び製造装置を提供することを目的としたものである。
の側壁に長手方向に沿ってスリットを入れた後、該スリ
ットを上方に向けて平滑な面上に載置し、上部からヒー
タの輻射熱にて1500℃〜1600℃に加熱、軟化さ
せ、該スリットにスリット拡大部材を貫通させて該スリ
ットを広げた後、さらにヒータで1600℃〜1800
℃に加熱することを特徴とする高珪酸ガラス部材の製造
方法を要旨としている。
入・排出用扉を有し、炉内がカーボンで内張りされ、炉
内にカーボン製の輻射熱式ヒータを配置し、該ヒータの
間にスリット拡大部材を炉の入口方向に向けて設置し、
炉内に非酸化性ガス導入口を有することを特徴とする高
珪酸ガラス部材の製造装置を要旨としている。
照すると、管状或いは坩堝状の大型高珪酸ガラス母材の
長さ方向にスリットを形成し、被加熱体13を作る。こ
の被加熱体13は、台12の平滑面12a上に載置する
。
ところで被加熱体13を炉内で移動させ、スリット中に
スリット拡大部材を貫通させ、スリットの幅を広げる。
熱する。スリット拡大部材はクサビ状断面をもつことが
望ましい。
方法を実施するための装置である。
した台12の導入・排出用扉を有し、炉1内がカーボン
材で内張すされている。
隔をあけて配置しであるとともに、ヒータ3,3′の間
にスリット拡大部材Aが設置され、非酸化性ガスの導入
口4,5を有している。輻射熱式ヒータ3,3′は好ま
しくは上部に設ける。なお、第2の発明に用いられる炉
の方式は、プッシャー炉、タンマン炉が望ましく、被加
熱体が、連続的に処理される構成にすることが好ましい
。また、スリット拡大部材Aは、軟化したスリット部を
広げられる程度に鋭利なりサビ状の部分を1ケ所もてば
十分である。スリット拡大部材Aの材質は、石英ガラス
とぬれにくく、1800℃において、化学的に安定で、
軟化したガラスを変形する強度があれば十分であり、好
ましくはカーボン材が採用できる。また、このカーボン
材に、各種コーティング層を設けてもよい。被加熱体に
形成するスリットの幅は、スリット拡大部材Aの先端部
が入る大きさでよい。また、スリットの形成方法は、通
常の石英ガラス用溝切り機で形成してもよいし、レーザ
ー等で形成してもよい。また、スリット形成工程は、台
12に被加熱体13を載置する前でもよいし、載置した
後、第1図のBの位置で形成してもよい。Bの位置でス
リットを形成する場合は製管から板状の成形までが連続
して行なえる。また、被加熱体のスリットにスリット拡
大部材Aの先端部を正確に貫通させるため、炉lの入口
6からスリット拡大部材Aの先端部まで、スリット拡大
部材Aと一体にまたは分離してガイドレール30を設け
てもよい。ガイドレール30は、カーボン材で板状であ
ることが望ましく、炉入口からスリット拡大部材Aの先
端部までの長さがあり、被加熱体13のスリットの中以
上の厚みを有し、被加熱体の横ゆれ等の防止をすること
ができる。
熱されて、軟化し、スリット拡大部材Aによってスリッ
トが広げられる。さらにヒータ3′に加熱されることに
より、被加熱体13は自重により開管される。こうして
被加熱体13は無理なく平滑な板になる。
なわち、炉1の内面全部がカーボンで内張すしである。
隔をおいて2ケ所に設けられている。このヒータ3゜3
′はカーボン製である。ヒータ3,3′の間には、長さ
200 mm、角度30°の鋭利な部分をもつカーボン
製のスリット拡大部材Aが鋭利な部分を入口6の方向に
向けて、炉壁2の上部に強固に固定されている。スリッ
ト拡大部材は第4〜11図に示すように様々な形状のも
のA ’ A ” A ’ 、 A rr′を採用
でき、スリット幅を拡大するためのクサビ状部分を持っ
ている。ヒータは炉の側部に設けてもよい。
。非酸化性ガスは、たとえば窒素ガスである。この導入
口4,5から炉1内に非酸化性ガス好ましくは窒素ガス
を常に流し、カーボン製の炉壁2とヒータ3の酸化を抑
えるようにしである。
が支持部7aを介して開閉自在に設けである。また、炉
1の後端側には出口8がある。この出口8には扉9が支
持部8aを介して開閉自在に設けである。この両扉7゜
9は耐熱レンガで内張すされている。
ながら、連続炉であることである。炉1は、カーボンの
酸化により寿命が短かいと思われるが、実際には窒素ガ
スの影響で、炉壁2の酸化は、おどろく程微量である。
1の炉壁2における酸化消耗深さは、30日経過しても
わずかに4.5關程度である。
台10の上にはすでにカーボン製の台12が載せである
。この台12は平滑な面12aを有し、石英ガラス母材
の被加熱体13の横転、後退を防止する突起20が設け
である(第2図参照)。高珪酸ガラスとは高純度の珪酸
ガラスのことであり、高珪酸ガラス母材として石英ガラ
ス母材を用いている。
壁に、長手方向のスリットを設けたものである。この被
加熱体はたとえば肉厚が201ffln1外径が250
mmの管状部材に幅7mmのスリットを設けたものであ
る。例えば、酸水素炎で石英粉末を溶融することにより
、製造した石英管を用いることもてきる。
ッシャー14のロッド15は、支持台10上の台12を
押して台12を入口6から炉1内に導入し、処理後に台
12を炉1の出口8から排出するようになっている。
造する方法を説明する。
真上にくるように載置しである。
7を開け、プッシャー14のロッド15を伸長して、台
12と被加熱体13を移動し炉1内に挿入する。ロッド
15を収縮して扉7を閉めたあと、ヒータ3の輻射熱に
より好ましくは1550℃で被加熱体13を上部から加
熱する。
を保ちつつ軟化を始める。そこで、扉7を開けてロッド
15を伸長して台12を出口方向に移動する。台12は
、部材Aの下を通過するとともに、被加熱体13のスリ
ット部を部材Aが貫通しスリット幅が拡大される。貫通
後にロッド15を収縮して扉を閉める。その後、被加熱
体13はヒータ3′により好ましくは1700℃まで加
熱される。
型の石英ガラス板となる。
ャー14のロッド15を伸長しかつ扉9を開けて、台1
2とともに石英ガラス板を支持台11側に排出する。
て、たれてく−る原理を応用したもので、無理なく板に
することができる。それ由にこの方法によって、製造さ
れた板には、歪が存在しない。
面12aに接触するため、SiOガス等を発生する。好
ましくは台12の平滑面12aに多数の貫通孔を設けて
、SiOガス等を平滑面12aと被加熱体13の間から
外部ににがすようにすればよい。さらに好ましくはSi
Oガス等を炉1の外に排気する。
密着しやすく平滑な石英ガラス部材が得られる。
090℃でアニールし、この炉1によって板にすれば、
表−2から明らかなように、極端に粘性の高い特性を有
する板が製造できる。
炉であっても炉内温度がほぼ一定になる。
炉内温度が1550℃以下に下がるようなことはない。
3図に示したような坩堝状(ルツボ状)13′でもよい
。
ラス板の製造だけでなく、極端にOH基が少ない石英ガ
ラス部材を製造する手段としても応用できる。たとえば
、各種半導体化合物の引上げ、又は熱処理用部材は、高
粘性でかつOH基のない石英ガラス部材を必要としてい
る。
ガラス)母材をアニール処理する。その後被加熱体を台
にのせて炉内に導入し、カーボン製のヒータを上部に配
置した炉の中で加熱しながらプレス成型することによっ
て、粘性が高く、OH含有量が少ない石英ガラス部材を
製造することができる。特に、GaAsやGaP等の単
結晶育成用ボート類などとして使用する石英ガラス部材
の製造に適している。
坩堝状の大型高珪酸ガラス母材から均質で高粘性の大型
の高珪酸ガラスの部材(板)を大量かつ安価に供給する
ことができる。しかもこの部材は肉厚を大きくでき機械
的強度が大きい。
酸ガラス母材から単結晶育成用ボート類などとして使用
する高珪酸ガラス部材(石英ガラス部材)を製造できる
。
物を台へ固定する様子を表わす図、第3図は他の被加熱
体を示す図、第4゜6.8.10図はスリット拡大部材
を示す図、第5.7,9.11図はそれぞれ第4.6゜
8.10図のV−V、■−■、IX−IX、刀刃線に沿
った断面図、第12図はこの発明の他の実施例にかかわ
る製造装置を示す図である。 l・・・・・・・・・炉 2・・・・・・・・・炉 壁 3・・・・・・・・・ヒータ 4.5・・・非酸化性ガスの導入ロ ア、8・・・扉 13・・・・・・被加熱体 14・・・・・・プッシャー 20・・・・・・被処理物固定突起 A・・・・・・・・・スリット拡大部材13゛ A″
Claims (2)
- (1)管状または坩堝状の大型高珪酸ガラ ス母材の側壁に長手方向に沿ってスリットを入れた後、
該スリットを上方に向けて平滑な面上に載置し、ヒータ
の輻射熱にて1500℃〜1600℃に加熱、軟化させ
、該スリットにスリット拡大部材を貫通させて該スリッ
トを広げた後、さらにヒータで1600℃〜1800℃
に加熱することを特徴とする高珪酸ガラス部材の製造方
法。 - (2)高珪酸ガラスの被加熱体を載置した 台の導入・排出用扉を有し、炉内がカーボンで内張りさ
れ、炉内にカーボン製の輻射熱式ヒータを配置し、該ヒ
ータの間にスリット拡大部材を炉の入口方向に向けて設
置し、炉内に非酸化性ガス導入口を有することを特徴と
する高珪酸ガラス部材の製造装置。
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JP2059870A JP2794475B2 (ja) | 1990-03-13 | 1990-03-13 | 高珪酸ガラス部材の製造方法およびその製造装置 |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH03261630A true JPH03261630A (ja) | 1991-11-21 |
JP2794475B2 JP2794475B2 (ja) | 1998-09-03 |
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JP2059870A Expired - Fee Related JP2794475B2 (ja) | 1990-03-13 | 1990-03-13 | 高珪酸ガラス部材の製造方法およびその製造装置 |
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JP (1) | JP2794475B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008037751A (ja) * | 2002-01-28 | 2008-02-21 | Covalent Materials Corp | シリカ板の製造方法 |
-
1990
- 1990-03-13 JP JP2059870A patent/JP2794475B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2008037751A (ja) * | 2002-01-28 | 2008-02-21 | Covalent Materials Corp | シリカ板の製造方法 |
JP4683665B2 (ja) * | 2002-01-28 | 2011-05-18 | コバレントマテリアル株式会社 | シリカ板の製造方法 |
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JP2794475B2 (ja) | 1998-09-03 |
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