JPH03261630A - 高珪酸ガラス部材の製造方法およびその製造装置 - Google Patents

高珪酸ガラス部材の製造方法およびその製造装置

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JPH03261630A
JPH03261630A JP5987090A JP5987090A JPH03261630A JP H03261630 A JPH03261630 A JP H03261630A JP 5987090 A JP5987090 A JP 5987090A JP 5987090 A JP5987090 A JP 5987090A JP H03261630 A JPH03261630 A JP H03261630A
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Hideyasu Matsuo
松尾 秀逸
Yasusane Sasaki
佐々木 泰実
Hajime Abe
一 阿部
Yuji Hayashi
裕二 林
Tsutomu Nishiwaki
西脇 勉
Shuzo Mitsui
三井 周造
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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    • C03B23/051Re-forming tubes or rods by gravity, e.g. sagging

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、たとえばコイル支持板などに使用される大
型の高珪酸ガラス部材の製造方法および製造装置に関す
るものである。
従来の技術 従来、大型高珪酸ガラス板の製造方法は次のとおりであ
る。すなわち、酸水素炎等で上部から高珪酸ガラス原料
粉末を少しづつ落下させながら溶融し、ブロック状の高
珪酸塊を製造し、その塊をスライスして所定数枚の板を
溶接によってはり合わせることで大型高珪酸ガラス板を
製造していた。
あるいは、高珪酸ガラスパイプを長さ方向に切断し、酸
水素炎で加熱して開き、同様に数枚の板を溶接して大型
の高珪酸ガラス板を製造していた。
また従来の方法では、溶接部に歪が残るため、さらに熱
処理を施さなければならなかった。
ところで、半導体工業では年々、ウェハーが大口径化の
傾向にあり、その製造装置に使用される部材も大型のも
のが要求されてきている。このため、高珪酸ガラス板に
おいても例外ではなく、大型で均質、高粘性が要求され
ている。
発明の目的 この発明は、安価で大型の高珪酸ガラスの部材を大量に
供給することができる高珪酸ガラス部材の製造方法およ
び製造装置を提供することを目的としたものである。
発明の要旨 第1発明は、管状または坩堝状の大型高珪酸ガラス母材
の側壁に長手方向に沿ってスリットを入れた後、該スリ
ットを上方に向けて平滑な面上に載置し、上部からヒー
タの輻射熱にて1500℃〜1600℃に加熱、軟化さ
せ、該スリットにスリット拡大部材を貫通させて該スリ
ットを広げた後、さらにヒータで1600℃〜1800
℃に加熱することを特徴とする高珪酸ガラス部材の製造
方法を要旨としている。
第2発明は、高珪酸ガラスの被加熱体を載置した台の導
入・排出用扉を有し、炉内がカーボンで内張りされ、炉
内にカーボン製の輻射熱式ヒータを配置し、該ヒータの
間にスリット拡大部材を炉の入口方向に向けて設置し、
炉内に非酸化性ガス導入口を有することを特徴とする高
珪酸ガラス部材の製造装置を要旨としている。
問題点を解決するための手段 第1発明の高珪酸ガラス部材の製造方法は、第1図を参
照すると、管状或いは坩堝状の大型高珪酸ガラス母材の
長さ方向にスリットを形成し、被加熱体13を作る。こ
の被加熱体13は、台12の平滑面12a上に載置する
そして、炉1内においてヒータ3の輻射熱で加熱する。
加熱は上部から行うのが望ましい。
1500〜1600℃に加熱されて被加熱体が軟化した
ところで被加熱体13を炉内で移動させ、スリット中に
スリット拡大部材を貫通させ、スリットの幅を広げる。
その後ヒータ3′により、1600℃〜1800℃に加
熱する。スリット拡大部材はクサビ状断面をもつことが
望ましい。
第2発明の高珪酸ガラス部材の製造装置は、第1発明の
方法を実施するための装置である。
第1図を参照すると、被加熱体としての母材13を載置
した台12の導入・排出用扉を有し、炉1内がカーボン
材で内張すされている。
この炉1内にカーボン製の輻射熱式ヒータ3゜3′が間
隔をあけて配置しであるとともに、ヒータ3,3′の間
にスリット拡大部材Aが設置され、非酸化性ガスの導入
口4,5を有している。輻射熱式ヒータ3,3′は好ま
しくは上部に設ける。なお、第2の発明に用いられる炉
の方式は、プッシャー炉、タンマン炉が望ましく、被加
熱体が、連続的に処理される構成にすることが好ましい
。また、スリット拡大部材Aは、軟化したスリット部を
広げられる程度に鋭利なりサビ状の部分を1ケ所もてば
十分である。スリット拡大部材Aの材質は、石英ガラス
とぬれにくく、1800℃において、化学的に安定で、
軟化したガラスを変形する強度があれば十分であり、好
ましくはカーボン材が採用できる。また、このカーボン
材に、各種コーティング層を設けてもよい。被加熱体に
形成するスリットの幅は、スリット拡大部材Aの先端部
が入る大きさでよい。また、スリットの形成方法は、通
常の石英ガラス用溝切り機で形成してもよいし、レーザ
ー等で形成してもよい。また、スリット形成工程は、台
12に被加熱体13を載置する前でもよいし、載置した
後、第1図のBの位置で形成してもよい。Bの位置でス
リットを形成する場合は製管から板状の成形までが連続
して行なえる。また、被加熱体のスリットにスリット拡
大部材Aの先端部を正確に貫通させるため、炉lの入口
6からスリット拡大部材Aの先端部まで、スリット拡大
部材Aと一体にまたは分離してガイドレール30を設け
てもよい。ガイドレール30は、カーボン材で板状であ
ることが望ましく、炉入口からスリット拡大部材Aの先
端部までの長さがあり、被加熱体13のスリットの中以
上の厚みを有し、被加熱体の横ゆれ等の防止をすること
ができる。
作  用 台12上の被加熱体13は、ヒータ3の輻射熱により加
熱されて、軟化し、スリット拡大部材Aによってスリッ
トが広げられる。さらにヒータ3′に加熱されることに
より、被加熱体13は自重により開管される。こうして
被加熱体13は無理なく平滑な板になる。
実  施  例 以下、この発明の製造装置とその製造方法を説明する。
第1図はこの発明の製造装置の実施例を示している。
炉1の炉壁2は、全てカーボン材料で作られている。す
なわち、炉1の内面全部がカーボンで内張すしである。
炉1内には、その上部に輻射熱式のヒータ3,3′が間
隔をおいて2ケ所に設けられている。このヒータ3゜3
′はカーボン製である。ヒータ3,3′の間には、長さ
200 mm、角度30°の鋭利な部分をもつカーボン
製のスリット拡大部材Aが鋭利な部分を入口6の方向に
向けて、炉壁2の上部に強固に固定されている。スリッ
ト拡大部材は第4〜11図に示すように様々な形状のも
のA ’  A ” A ’ 、  A rr′を採用
でき、スリット幅を拡大するためのクサビ状部分を持っ
ている。ヒータは炉の側部に設けてもよい。
炉壁2には、非酸化性ガスの導入口4.5が設けである
。非酸化性ガスは、たとえば窒素ガスである。この導入
口4,5から炉1内に非酸化性ガス好ましくは窒素ガス
を常に流し、カーボン製の炉壁2とヒータ3の酸化を抑
えるようにしである。
炉1の前端側には、入口6がある。この人口6には扉7
が支持部7aを介して開閉自在に設けである。また、炉
1の後端側には出口8がある。この出口8には扉9が支
持部8aを介して開閉自在に設けである。この両扉7゜
9は耐熱レンガで内張すされている。
この炉1の特徴はカーボン材料を使用している炉であり
ながら、連続炉であることである。炉1は、カーボンの
酸化により寿命が短かいと思われるが、実際には窒素ガ
スの影響で、炉壁2の酸化は、おどろく程微量である。
すなわち、後掲の表−1で示すように、稼動している炉
1の炉壁2における酸化消耗深さは、30日経過しても
わずかに4.5關程度である。
炉1の前には支持台10が設置しである。
また炉1の後には別の支持台11が設置しである。支持
台10の上にはすでにカーボン製の台12が載せである
。この台12は平滑な面12aを有し、石英ガラス母材
の被加熱体13の横転、後退を防止する突起20が設け
である(第2図参照)。高珪酸ガラスとは高純度の珪酸
ガラスのことであり、高珪酸ガラス母材として石英ガラ
ス母材を用いている。
被加熱体13は大型高珪酸ガラス母材である石英管の側
壁に、長手方向のスリットを設けたものである。この被
加熱体はたとえば肉厚が201ffln1外径が250
mmの管状部材に幅7mmのスリットを設けたものであ
る。例えば、酸水素炎で石英粉末を溶融することにより
、製造した石英管を用いることもてきる。
支持台10の前にはプッシャー14が設定しである。プ
ッシャー14のロッド15は、支持台10上の台12を
押して台12を入口6から炉1内に導入し、処理後に台
12を炉1の出口8から排出するようになっている。
すなわち、炉1はプッシャー式の炉である。
次に上述した製造装置により大型の石英ガラスの板を製
造する方法を説明する。
台12には石英ガラス母材の被加熱体13をスリットが
真上にくるように載置しである。
扉9は閉めである。炉1のヒータ3は発熱している。扉
7を開け、プッシャー14のロッド15を伸長して、台
12と被加熱体13を移動し炉1内に挿入する。ロッド
15を収縮して扉7を閉めたあと、ヒータ3の輻射熱に
より好ましくは1550℃で被加熱体13を上部から加
熱する。
これにより、被加熱体13は挿入してから約3分で形状
を保ちつつ軟化を始める。そこで、扉7を開けてロッド
15を伸長して台12を出口方向に移動する。台12は
、部材Aの下を通過するとともに、被加熱体13のスリ
ット部を部材Aが貫通しスリット幅が拡大される。貫通
後にロッド15を収縮して扉を閉める。その後、被加熱
体13はヒータ3′により好ましくは1700℃まで加
熱される。
約20分後には台12の平滑面12aに沿った平滑な大
型の石英ガラス板となる。
この大型石英ガラス板ができたら、扉7を開けてプッシ
ャー14のロッド15を伸長しかつ扉9を開けて、台1
2とともに石英ガラス板を支持台11側に排出する。
平滑な石英ガラス板の製造は、石英ガラスの自重によっ
て、たれてく−る原理を応用したもので、無理なく板に
することができる。それ由にこの方法によって、製造さ
れた板には、歪が存在しない。
なお、被加熱体13は高温でカーボン製の台12の平滑
面12aに接触するため、SiOガス等を発生する。好
ましくは台12の平滑面12aに多数の貫通孔を設けて
、SiOガス等を平滑面12aと被加熱体13の間から
外部ににがすようにすればよい。さらに好ましくはSi
Oガス等を炉1の外に排気する。
このようにすることて、面12aに被加熱体13がより
密着しやすく平滑な石英ガラス部材が得られる。
また、被加熱体13を、前処理として、1000℃〜1
090℃でアニールし、この炉1によって板にすれば、
表−2から明らかなように、極端に粘性の高い特性を有
する板が製造できる。
この炉1は、カーボン材料の熱容量の大きさから、連続
炉であっても炉内温度がほぼ一定になる。
台12と被加熱体13の挿入、排出がくり返されても、
炉内温度が1550℃以下に下がるようなことはない。
このため被加熱体13を効率よく加熱できる。
なお、大型珪酸ガラス母材は側壁をもつものであれば第
3図に示したような坩堝状(ルツボ状)13′でもよい
ところてこの発明の製造方法と装置は、大型の高珪酸ガ
ラス板の製造だけでなく、極端にOH基が少ない石英ガ
ラス部材を製造する手段としても応用できる。たとえば
、各種半導体化合物の引上げ、又は熱処理用部材は、高
粘性でかつOH基のない石英ガラス部材を必要としてい
る。
そこでアーク炎で管状又は坩堝状の高珪酸ガラス(石英
ガラス)母材をアニール処理する。その後被加熱体を台
にのせて炉内に導入し、カーボン製のヒータを上部に配
置した炉の中で加熱しながらプレス成型することによっ
て、粘性が高く、OH含有量が少ない石英ガラス部材を
製造することができる。特に、GaAsやGaP等の単
結晶育成用ボート類などとして使用する石英ガラス部材
の製造に適している。
この発明は上述した実施例に限定されない。
発明の効果 この発明の製造方法及び製造装置によれば、管状或いは
坩堝状の大型高珪酸ガラス母材から均質で高粘性の大型
の高珪酸ガラスの部材(板)を大量かつ安価に供給する
ことができる。しかもこの部材は肉厚を大きくでき機械
的強度が大きい。
また、この発明の製造方法及び製造装置によれば、高珪
酸ガラス母材から単結晶育成用ボート類などとして使用
する高珪酸ガラス部材(石英ガラス部材)を製造できる
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の製造装置を示す図、第2図は被処理
物を台へ固定する様子を表わす図、第3図は他の被加熱
体を示す図、第4゜6.8.10図はスリット拡大部材
を示す図、第5.7,9.11図はそれぞれ第4.6゜
8.10図のV−V、■−■、IX−IX、刀刃線に沿
った断面図、第12図はこの発明の他の実施例にかかわ
る製造装置を示す図である。 l・・・・・・・・・炉 2・・・・・・・・・炉 壁 3・・・・・・・・・ヒータ 4.5・・・非酸化性ガスの導入ロ ア、8・・・扉 13・・・・・・被加熱体 14・・・・・・プッシャー 20・・・・・・被処理物固定突起 A・・・・・・・・・スリット拡大部材13゛ A″

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)管状または坩堝状の大型高珪酸ガラ ス母材の側壁に長手方向に沿ってスリットを入れた後、
    該スリットを上方に向けて平滑な面上に載置し、ヒータ
    の輻射熱にて1500℃〜1600℃に加熱、軟化させ
    、該スリットにスリット拡大部材を貫通させて該スリッ
    トを広げた後、さらにヒータで1600℃〜1800℃
    に加熱することを特徴とする高珪酸ガラス部材の製造方
    法。
  2. (2)高珪酸ガラスの被加熱体を載置した 台の導入・排出用扉を有し、炉内がカーボンで内張りさ
    れ、炉内にカーボン製の輻射熱式ヒータを配置し、該ヒ
    ータの間にスリット拡大部材を炉の入口方向に向けて設
    置し、炉内に非酸化性ガス導入口を有することを特徴と
    する高珪酸ガラス部材の製造装置。
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JP2008037751A (ja) * 2002-01-28 2008-02-21 Covalent Materials Corp シリカ板の製造方法
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