JPH03259959A - フタロシアニンの製造方法 - Google Patents
フタロシアニンの製造方法Info
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- JPH03259959A JPH03259959A JP6019090A JP6019090A JPH03259959A JP H03259959 A JPH03259959 A JP H03259959A JP 6019090 A JP6019090 A JP 6019090A JP 6019090 A JP6019090 A JP 6019090A JP H03259959 A JPH03259959 A JP H03259959A
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、新しいフタロシアニンの製造方法に関する
。
。
従来の技術
フタロシアニン化合物は、青色〜緑色の色相をもつ有@
顔料であって、その特異な分子構造と優れた安定性の故
に、塗料、印刷インク、プラスチックの着色剤として使
用されてきた。また、最近では、その優れた光電導性、
光起電力性の故に、電子写真用感光体、太陽電池等への
機能材料としての研究も盛んである。
顔料であって、その特異な分子構造と優れた安定性の故
に、塗料、印刷インク、プラスチックの着色剤として使
用されてきた。また、最近では、その優れた光電導性、
光起電力性の故に、電子写真用感光体、太陽電池等への
機能材料としての研究も盛んである。
フタロシアニンには、中心に金属原子を有する金属フタ
ロシアニンと、金属原子を有しない無金属フタロシアニ
ンがある。後者の無金属フタロシアニン(以下、H,−
Pcと略す)には、従来、α型とβ型の2種類が、その
代表として知られていた。
ロシアニンと、金属原子を有しない無金属フタロシアニ
ンがある。後者の無金属フタロシアニン(以下、H,−
Pcと略す)には、従来、α型とβ型の2種類が、その
代表として知られていた。
これに対して、近時、ゼロックス(Xerox)社が優
れた電子写真特性を有するX型H,−Pcを開発し、そ
の合成法、結晶型と電子写真特性との関係、構造解析な
どの研究を行っている(USP 3,357,989号
明細書〉。X型H,−Pcは、常法により合成したβ型
H,−Pcを硫酸処理によりα型とし、これを長時間ボ
ールミリングすることにより作製する。
れた電子写真特性を有するX型H,−Pcを開発し、そ
の合成法、結晶型と電子写真特性との関係、構造解析な
どの研究を行っている(USP 3,357,989号
明細書〉。X型H,−Pcは、常法により合成したβ型
H,−Pcを硫酸処理によりα型とし、これを長時間ボ
ールミリングすることにより作製する。
その結晶構造は、従来のα型およびβ型と明らかに異な
っている。第3図は、X型H,−PcのX線回折図(C
uKα線による測定)を示す。回折線は、2θ=7.4
,9.0.15.1,16.5.17.2,20.1,
20.6゜20.7,21.4,22.2,23.8,
27.2,28.5.30.3°に出現する。もっとも
強度の強い回折線は、7.5°(面間隔d−11,8人
に相当)付近の回折線であって、その強度を1とすると
、9.1°付近の回折線強度(面間隔d −9,8Aに
相当)は0.66である。この強度の比率は結晶の粒径
に殆ど影響されない、第4図はX型H,−Pcの吸収ス
ペクトルを示す、X型H2Pcの吸収スペクトルも、α
型およびβ型のものとは明らかに異なっている。結晶型
の相違による、このスペクトルの相違は、H2−Pc分
子の結晶状態でのスクッキング状態の相違によるもので
あり、X型H,−Pcはダイマー構造をとっていると報
告されている。
っている。第3図は、X型H,−PcのX線回折図(C
uKα線による測定)を示す。回折線は、2θ=7.4
,9.0.15.1,16.5.17.2,20.1,
20.6゜20.7,21.4,22.2,23.8,
27.2,28.5.30.3°に出現する。もっとも
強度の強い回折線は、7.5°(面間隔d−11,8人
に相当)付近の回折線であって、その強度を1とすると
、9.1°付近の回折線強度(面間隔d −9,8Aに
相当)は0.66である。この強度の比率は結晶の粒径
に殆ど影響されない、第4図はX型H,−Pcの吸収ス
ペクトルを示す、X型H2Pcの吸収スペクトルも、α
型およびβ型のものとは明らかに異なっている。結晶型
の相違による、このスペクトルの相違は、H2−Pc分
子の結晶状態でのスクッキング状態の相違によるもので
あり、X型H,−Pcはダイマー構造をとっていると報
告されている。
これら以外の結晶型をもつH,−Pcとしては、τ型H
,−Pcがある。これは、α、β、X型結晶を摩砕助剤
とともに不活性溶剤中5〜10°Cl2O時間ボールミ
リソゲすることによって得られる。そのX線回折図を第
5図に、吸収スペクトルを第6図に示す、τ型結晶のX
線回折パターンが本質的にX型のそれに類似しているこ
とが分かる。ただし、この場合は、7.5°付近の回折
線強度と9.1゜付近の回折線強度の比率はX:O,S
になっている。
,−Pcがある。これは、α、β、X型結晶を摩砕助剤
とともに不活性溶剤中5〜10°Cl2O時間ボールミ
リソゲすることによって得られる。そのX線回折図を第
5図に、吸収スペクトルを第6図に示す、τ型結晶のX
線回折パターンが本質的にX型のそれに類似しているこ
とが分かる。ただし、この場合は、7.5°付近の回折
線強度と9.1゜付近の回折線強度の比率はX:O,S
になっている。
発明が解決しようとする課題
これらのH,−Pcは、いずれも、優れた充電溝特性を
有しており、有機感光体として使用されている。しかし
、これらのHアーPc感光体は、電荷発生剤としてのみ
機能するものであり、そのために、つぎのような欠点を
有していた。
有しており、有機感光体として使用されている。しかし
、これらのHアーPc感光体は、電荷発生剤としてのみ
機能するものであり、そのために、つぎのような欠点を
有していた。
すなわち、有機感光体(以下、OPCと略す)は、通常
、光を吸収してキャリアを発生させる電荷発生層(以下
、CG層と略す)と生成したキャリアを移動させる電荷
移動層(以下、CT層と略す)の2重層構造で使用され
て、その高感度化が計られている。前記各種のフタロシ
アニンは、CG層に使用される材料(以下、CG剤と略
す)として重要なもののひとつであり、特に、X型とτ
型のH,−Pcは、最も重要なCG剤である。一方、C
T層に使用される材料(以下、CT剤と略す)としては
、各種ヒドラゾン系化合物、オキサゾール系化合物、ト
リフェニルメタン系化合物、了り−ルアミン系化合物、
等が開発されている。
、光を吸収してキャリアを発生させる電荷発生層(以下
、CG層と略す)と生成したキャリアを移動させる電荷
移動層(以下、CT層と略す)の2重層構造で使用され
て、その高感度化が計られている。前記各種のフタロシ
アニンは、CG層に使用される材料(以下、CG剤と略
す)として重要なもののひとつであり、特に、X型とτ
型のH,−Pcは、最も重要なCG剤である。一方、C
T層に使用される材料(以下、CT剤と略す)としては
、各種ヒドラゾン系化合物、オキサゾール系化合物、ト
リフェニルメタン系化合物、了り−ルアミン系化合物、
等が開発されている。
CG剤やCT剤は、通常、バインダー高分子とともに、
比較的簡単な塗布法でドラムやベルト、等の基板上に塗
布されて層形成される。一般に、2重層構造では、高感
度化のために、CG層は数ミクロンの厚さで重布され、
CT層は数十ミクロンの厚さで塗布される。このとき、
その強度、耐剛性、等の理由からCG層は基板側に形成
され、CT層は表面側に形成されるのが普通である。C
T剤としては正孔の移動により作動するもののみが実用
化されているので、上記のような層構成においては、こ
の2重層感光体は負帯電方式となる。
比較的簡単な塗布法でドラムやベルト、等の基板上に塗
布されて層形成される。一般に、2重層構造では、高感
度化のために、CG層は数ミクロンの厚さで重布され、
CT層は数十ミクロンの厚さで塗布される。このとき、
その強度、耐剛性、等の理由からCG層は基板側に形成
され、CT層は表面側に形成されるのが普通である。C
T剤としては正孔の移動により作動するもののみが実用
化されているので、上記のような層構成においては、こ
の2重層感光体は負帯電方式となる。
しかしながら、この負帯電方式では、(1)帯電に用い
られる負電荷により空気中の酸素がオゾンになる、(2
)帯電が不完全である、(3)ドラム表面性状の影響を
受けやすい、と言う課題があった。オゾンは、人体にと
って有害であるばかりでなく、しばしば感光体と反応し
て感光体の寿命を短くする。
られる負電荷により空気中の酸素がオゾンになる、(2
)帯電が不完全である、(3)ドラム表面性状の影響を
受けやすい、と言う課題があった。オゾンは、人体にと
って有害であるばかりでなく、しばしば感光体と反応し
て感光体の寿命を短くする。
帯電の不安定性は、しばしば画質の低下を招く。
ドラム表面性状の影響が大きいことは、ドラム表面を鏡
面仕上げにすることを必要とするか、ドラム表面にアン
ダーコートを必要とし、製造コストの向上につながる。
面仕上げにすることを必要とするか、ドラム表面にアン
ダーコートを必要とし、製造コストの向上につながる。
さらに、このような2層方式においては、(4)製造工
程が複雑になる、(5)層間の剥離等によりその安定性
が問題になる、等の課題もあった。
程が複雑になる、(5)層間の剥離等によりその安定性
が問題になる、等の課題もあった。
このようなaimを解決するために、現在は、正帯電方
式によるOPCの開発が盛んである。正帯電方式を実現
するために、これまで、(a) CG層とCT層を負帯
電方式の場合とは逆の層構成にした逆2層構造opc、
(b)CG剤とCT剤を併せてバインダー高分子中に分
散させた単層構造○PC1(C)銅フタロシアニンを高
分子中に分散した単層型opc、が検討されてきた。
式によるOPCの開発が盛んである。正帯電方式を実現
するために、これまで、(a) CG層とCT層を負帯
電方式の場合とは逆の層構成にした逆2層構造opc、
(b)CG剤とCT剤を併せてバインダー高分子中に分
散させた単層構造○PC1(C)銅フタロシアニンを高
分子中に分散した単層型opc、が検討されてきた。
(a)の逆2層構造においては、負帯電方式の場合と同
様に、製造工程の複雑さや層間剥離の課題が未解決のま
ま残る。さらに、本質的に薄くする必要のあるCG層が
感光体の表面側に置かれることによる、耐印刷性の減少
、寿命特性の劣化、が課題となっている。
様に、製造工程の複雑さや層間剥離の課題が未解決のま
ま残る。さらに、本質的に薄くする必要のあるCG層が
感光体の表面側に置かれることによる、耐印刷性の減少
、寿命特性の劣化、が課題となっている。
一方、(ロ)(C)の単層による正帯電方式を目指した
感光体は、従来の負帯電方式の2層型感光体よりも、感
度特性、帯電特性(帯電用の電荷が乗りにくい)、残留
電位(残留電位が大きい)の点で劣っていた。感度の点
で劣っていたのは、電荷の発生と移動が1層内でランダ
ムに起こるためである。
感光体は、従来の負帯電方式の2層型感光体よりも、感
度特性、帯電特性(帯電用の電荷が乗りにくい)、残留
電位(残留電位が大きい)の点で劣っていた。感度の点
で劣っていたのは、電荷の発生と移動が1層内でランダ
ムに起こるためである。
単層型感光体の11題は、このように、感度と帯電特性
および残留電位にあった。
および残留電位にあった。
しかし、単層型の正帯電方式感光体は、本質的に多層型
負帯電方式の欠点がなく、逆層型正帯電方式感光体の欠
点もない。従って、単層型で正帯電方式の感光体におい
て、2層型と同様な高感度、残留電位および帯電特性が
実現出来るなら、それは理想的な感光体となる。
負帯電方式の欠点がなく、逆層型正帯電方式感光体の欠
点もない。従って、単層型で正帯電方式の感光体におい
て、2層型と同様な高感度、残留電位および帯電特性が
実現出来るなら、それは理想的な感光体となる。
ところが、前述のように、従来のH,−Pcは、いずれ
も、CG剤としてしか使用できなかったので、これを用
いて単層型の正帯電方式感光体を作ることが出来なかっ
たのである。
も、CG剤としてしか使用できなかったので、これを用
いて単層型の正帯電方式感光体を作ることが出来なかっ
たのである。
この発明の目的は、従来のHz−Pcのもつ上記課題を
解消し、高性能でしかも高感度であり耐久性にも優れる
正帯電単層型OPCを作製可能とさせるH、−Pcの製
造方法を提供することにある。
解消し、高性能でしかも高感度であり耐久性にも優れる
正帯電単層型OPCを作製可能とさせるH、−Pcの製
造方法を提供することにある。
課題を解決するための手段
我々は、上記の7148を解決するために、新しいH,
−Pcの開発を行った。その結果、X型またはτ型のH
z−Pcを、該H,−Pcを溶解する溶剤およびバイン
ダー高分子と共に長時間攪拌して、少なくともその一部
を新たなH,−Pc結晶とすれば良いことを見出して、
この発明を完成した。
−Pcの開発を行った。その結果、X型またはτ型のH
z−Pcを、該H,−Pcを溶解する溶剤およびバイン
ダー高分子と共に長時間攪拌して、少なくともその一部
を新たなH,−Pc結晶とすれば良いことを見出して、
この発明を完成した。
すなわち、この発明にかかるH、−Pcの製造方法は、
上記目的を達成するため、X型H2〜Pcおよび/また
はで型H,−Pcを、該H2−Pcを溶解する溶剤およ
びバインダー高分子と共に攪拌処理して、少なくとも一
部を新たなH,−Pc結晶とするようにするものである
。
上記目的を達成するため、X型H2〜Pcおよび/また
はで型H,−Pcを、該H2−Pcを溶解する溶剤およ
びバインダー高分子と共に攪拌処理して、少なくとも一
部を新たなH,−Pc結晶とするようにするものである
。
作用
この発明により得られる)(、−Pcは、従来にない構
造を有し、これを用いた感光体はOPCとして優れた特
性を実現する。
造を有し、これを用いた感光体はOPCとして優れた特
性を実現する。
実施例
以下に本発明の詳細な説明する。
この発明の方法を実施する上においては、新たなH,−
Pc結晶と、出発原料たるX型H,−Pcおよびτ型T
(、−Pcのうちの少なくとも1種のHx−Pcが同時
に含まれているHl−Pc混合体が得られるようにする
のが好ましい。
Pc結晶と、出発原料たるX型H,−Pcおよびτ型T
(、−Pcのうちの少なくとも1種のHx−Pcが同時
に含まれているHl−Pc混合体が得られるようにする
のが好ましい。
上記混練の程度、時間、温度などは用いられる溶剤やバ
インダー高分子の種類によって異なる。
インダー高分子の種類によって異なる。
感光体として最も優れた特性を得るためには、溶剤との
処理が不十分であっても、また進みすぎてもよくない。
処理が不十分であっても、また進みすぎてもよくない。
適切な反応の程度は、先に述べたX線回折パターンの7
.5°付近、9.1°付近の回折線強度比(■+□、s
/ 1 q、n )で見ることが出来、この比が1から
0.1の間にあるようにすることが好ましい。
.5°付近、9.1°付近の回折線強度比(■+□、s
/ 1 q、n )で見ることが出来、この比が1から
0.1の間にあるようにすることが好ましい。
この発明の方法で得られるH、−Pcを用いた感光体の
吸収スペクトルを第2図に示す。この吸収スペクトルは
、第4図および第6図の吸収スペクトルとは明らかに異
なる。これは、この発明の方法によって新たな結晶型が
生したことの別の証拠である。
吸収スペクトルを第2図に示す。この吸収スペクトルは
、第4図および第6図の吸収スペクトルとは明らかに異
なる。これは、この発明の方法によって新たな結晶型が
生したことの別の証拠である。
この発明に用いる溶剤としては、ニトロベンゼン、クロ
ルベンゼン、ジクロルベンゼン、ジクロルメタン、トリ
クロルエチレン、クロルナフタレン、メチルナフタレン
、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン
、シクロヘキサノン、1.4−ジオキサン、Nメチルピ
ロリドン、四塩化炭素、ブロムブタン、エチレングリコ
ール、スルホラン、エチレングリコールモツプチルエー
テル、アセトキシエトキシエタン、ピリジン、等を挙げ
ることか出来る。なお、この発明に用いられる溶剤はこ
のような溶剤に限定されるものではない。
ルベンゼン、ジクロルベンゼン、ジクロルメタン、トリ
クロルエチレン、クロルナフタレン、メチルナフタレン
、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン
、シクロヘキサノン、1.4−ジオキサン、Nメチルピ
ロリドン、四塩化炭素、ブロムブタン、エチレングリコ
ール、スルホラン、エチレングリコールモツプチルエー
テル、アセトキシエトキシエタン、ピリジン、等を挙げ
ることか出来る。なお、この発明に用いられる溶剤はこ
のような溶剤に限定されるものではない。
これらの溶剤は、単独あるいは2種類以上の混合体とし
て使用される。
て使用される。
この発明に用いるバインダー高分子としては、先に上げ
たH!−Pcを溶解する溶剤に溶解するものを用いると
良い。このような目的に適した高分子としては、ポリエ
ステル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、
ポリビニルアセトアセタール、ポリスチレン、ポリアク
リロニトリル、ポリメタアクリル酸メチル、ポリアクリ
レート、ポリカルバゾール、及びこれらの共重合体、ポ
リ(塩化ビニル/酢酸ビニル/ビニルアルコール)、ポ
リ(塩化ビニル/酢酸ビニル/マレイン酸)、ポリ(エ
チレン/酢酸ビニル)、ポリ(塩化ビニル/塩化ビニリ
デン)、メラもン樹脂、アルキド樹脂、セルロース系高
分子、各種シロキサン高分子、等が挙げられる。なお、
この発明に用いられるバインダー高分子はこのような高
分子に限定されるものではない。これらの高分子は、単
独あるいは2種類以上の混合体として使用される。
たH!−Pcを溶解する溶剤に溶解するものを用いると
良い。このような目的に適した高分子としては、ポリエ
ステル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、
ポリビニルアセトアセタール、ポリスチレン、ポリアク
リロニトリル、ポリメタアクリル酸メチル、ポリアクリ
レート、ポリカルバゾール、及びこれらの共重合体、ポ
リ(塩化ビニル/酢酸ビニル/ビニルアルコール)、ポ
リ(塩化ビニル/酢酸ビニル/マレイン酸)、ポリ(エ
チレン/酢酸ビニル)、ポリ(塩化ビニル/塩化ビニリ
デン)、メラもン樹脂、アルキド樹脂、セルロース系高
分子、各種シロキサン高分子、等が挙げられる。なお、
この発明に用いられるバインダー高分子はこのような高
分子に限定されるものではない。これらの高分子は、単
独あるいは2種類以上の混合体として使用される。
溶剤を2種類以上組み合わせて用いる際には、つの溶剤
でH,−Pcを溶解し、他の溶剤でバインダー高分子を
溶解することも可能である。
でH,−Pcを溶解し、他の溶剤でバインダー高分子を
溶解することも可能である。
この発明により得られるH2−Pcを用いて作製された
感光体の感度は、1.0〜3.Olux、secに達し
、従来の単層型○PCに比べ著しく高感度であるばかり
でなく、600〜800n−の波長範囲の光に対し優れ
た感度を示し、残留電位も30V以下である。
感光体の感度は、1.0〜3.Olux、secに達し
、従来の単層型○PCに比べ著しく高感度であるばかり
でなく、600〜800n−の波長範囲の光に対し優れ
た感度を示し、残留電位も30V以下である。
また、この系は、非常に安定であって、正帯電による特
性は1000回の繰り返し試験でも殆ど変化しなかった
。更に、この感光体は、優れた耐熱性を示し、120°
Cで8時間の処理によってもその特性は殆ど変化しなか
った。
性は1000回の繰り返し試験でも殆ど変化しなかった
。更に、この感光体は、優れた耐熱性を示し、120°
Cで8時間の処理によってもその特性は殆ど変化しなか
った。
つぎに、この発明の実施例を比較例と併せて詳細に説明
する。この発明の範囲は下記実施例に限らない。
する。この発明の範囲は下記実施例に限らない。
一実施例1
X型H,−Pc(大日本インキ■製、ファストゲンブル
ー”Fastogen Blue”8120B)とポリ
エステル(以下、PETと略す。東洋紡績■製、)\イ
ロン200)をテトラヒドロフランに溶解し、攪拌処理
により、十分混合したのち2日間かけて混練した。
ー”Fastogen Blue”8120B)とポリ
エステル(以下、PETと略す。東洋紡績■製、)\イ
ロン200)をテトラヒドロフランに溶解し、攪拌処理
により、十分混合したのち2日間かけて混練した。
得られた溶液をアルミドラム上にデイツプ法により塗布
し、真空中、120°Cで1時間処理して、OPC層(
厚さ10〜20μm)を形成した。
し、真空中、120°Cで1時間処理して、OPC層(
厚さ10〜20μm)を形成した。
こうして得られた感光体のX線回折パターンをX線デイ
フラクトメーター(理学電気■製、RADB SYST
EM)を用いて測定した。光源はCuKα線である。ま
た、その感光特性については、用ロ電機■l81EP^
−8100型ペーパーアナライザーを用い、タングステ
ンによる白色光を照射して、正帯電による光感度(半減
露光量、E+/z)を測定し、1000回の繰り返し試
験後の光感度も同様に測定した。
フラクトメーター(理学電気■製、RADB SYST
EM)を用いて測定した。光源はCuKα線である。ま
た、その感光特性については、用ロ電機■l81EP^
−8100型ペーパーアナライザーを用い、タングステ
ンによる白色光を照射して、正帯電による光感度(半減
露光量、E+/z)を測定し、1000回の繰り返し試
験後の光感度も同様に測定した。
更に、400〜1(100n+sの範囲での波長特性を
測定した。
測定した。
Ht−PcとPETの重量比が1:4の場合のX線回折
図では回折線強度比(I l、、s/ I 、、e )
は0.8であり、原料X型H2−Pcの場合の強度比1
.5と比較して、その回折線強度が著しく変化していた
。この強度比は、H2−PcとPETの重量比が変わっ
ても、はぼ一定であった。H2−PcとPETの重量比
をいろいろ変化させたときの感光特性を第1表に示す。
図では回折線強度比(I l、、s/ I 、、e )
は0.8であり、原料X型H2−Pcの場合の強度比1
.5と比較して、その回折線強度が著しく変化していた
。この強度比は、H2−PcとPETの重量比が変わっ
ても、はぼ一定であった。H2−PcとPETの重量比
をいろいろ変化させたときの感光特性を第1表に示す。
第1表
この結果から明らかであるように、X型HzPcとPE
Tの比は、l:1から1=10の間が適当で、この範囲
内の組成では、帯電特性、感度特性共に良好な特性を得
ることが出来る。
Tの比は、l:1から1=10の間が適当で、この範囲
内の組成では、帯電特性、感度特性共に良好な特性を得
ることが出来る。
一実施例2一
実施例1と同しX型H2−Pcとポリビニルブチラール
(以下、PVBと略す。積木化学工業■製エスレソクB
M−2)をテトラヒドロフランに溶解し、十分攪拌混合
混練したの5、得られた溶液をアルミドラム上にデイツ
プ法により塗布し、真空中、120”Cで1時間処理し
て、opc層(厚さ10〜20μm)を形成した。
(以下、PVBと略す。積木化学工業■製エスレソクB
M−2)をテトラヒドロフランに溶解し、十分攪拌混合
混練したの5、得られた溶液をアルミドラム上にデイツ
プ法により塗布し、真空中、120”Cで1時間処理し
て、opc層(厚さ10〜20μm)を形成した。
こうして得られた感光体の感光特性について、用ロit
s■製EPA−8100型ペーパーアナライザーを用い
、タングステンによる白色光を照射して、正帯電による
光感度(半減露光量、E、/りを測定し、1000回の
繰り返し試験後の光感度も同様に測定した。更に、40
0〜1000nsの範囲での波長特性を測定した。
s■製EPA−8100型ペーパーアナライザーを用い
、タングステンによる白色光を照射して、正帯電による
光感度(半減露光量、E、/りを測定し、1000回の
繰り返し試験後の光感度も同様に測定した。更に、40
0〜1000nsの範囲での波長特性を測定した。
Ht−PcとPVBの重量比を1=4とし、反応時間を
変えたときのX線特性における回折線の強度比N+□、
e/L1)および感光特性を第2表に示す。
変えたときのX線特性における回折線の強度比N+□、
e/L1)および感光特性を第2表に示す。
第2表
上記結果から、この発明の方法においては、X線回折に
よる回折線の強度比([11,s/ I q、s )が
0.8から0.lの間にある時に、優れた特性を示すこ
とが分かった。強度比が0.1以下の場合には感光特性
は優れたものとなるが、繰り返し安定性に少し欠けるこ
とがわかる。
よる回折線の強度比([11,s/ I q、s )が
0.8から0.lの間にある時に、優れた特性を示すこ
とが分かった。強度比が0.1以下の場合には感光特性
は優れたものとなるが、繰り返し安定性に少し欠けるこ
とがわかる。
一比較例1
比較のため、溶剤としてn−ブチルアルコールを使用す
るようにした以外は、実施例2と同様にした場合の特性
を示す。■−ブチルアルコールは、PVBを溶解するが
、X型H2−Pcは熔解しない。
るようにした以外は、実施例2と同様にした場合の特性
を示す。■−ブチルアルコールは、PVBを溶解するが
、X型H2−Pcは熔解しない。
従って、この比較例の製造方法では、PVB中にX型H
z−Pcが粒子状で混合されており、新たな結晶は存在
しないと考えられる。その結果を第3表に示す。
z−Pcが粒子状で混合されており、新たな結晶は存在
しないと考えられる。その結果を第3表に示す。
第3表
上表に見るように、正帯電による感度、巳、/2は、第
1.2表に結果と比較して著しく悪くなっている。この
ことから、X型H,−Pcの少なくとも一部が新たな結
晶に変化することが、この発明にとって必要であること
がわかる。
1.2表に結果と比較して著しく悪くなっている。この
ことから、X型H,−Pcの少なくとも一部が新たな結
晶に変化することが、この発明にとって必要であること
がわかる。
実施例3一
実施例1と同しX型H2−Pcと各種のバインダー高分
子をl:4の比率で混合し、テトラヒドロフランに溶解
し、十分に攪拌混合混練したのち、得られた溶液をアル
ミドラム上にデイツプ法により塗布し、真空中、120
°Cで1時間処理して、OPC層(厚さ10〜20μm
)を形成した。いずれの試料でも、先に述べたX線回折
による強度比が0.8〜0.5の間になるように反応時
間を調整した。
子をl:4の比率で混合し、テトラヒドロフランに溶解
し、十分に攪拌混合混練したのち、得られた溶液をアル
ミドラム上にデイツプ法により塗布し、真空中、120
°Cで1時間処理して、OPC層(厚さ10〜20μm
)を形成した。いずれの試料でも、先に述べたX線回折
による強度比が0.8〜0.5の間になるように反応時
間を調整した。
こうして得られた感光体の感光特性について、用ロ電機
■製EP^−810o型ペーパーアナライザーを用い、
タングステンによる白色光を照射して、正帯電による光
感度(半減露光量、E+/z)を測定し、1000回の
繰り返し試験後の光感度も同様に測定した。更に、40
0〜b 定した。得られた特性を第4表に示す。
■製EP^−810o型ペーパーアナライザーを用い、
タングステンによる白色光を照射して、正帯電による光
感度(半減露光量、E+/z)を測定し、1000回の
繰り返し試験後の光感度も同様に測定した。更に、40
0〜b 定した。得られた特性を第4表に示す。
(以下余白)
第4表
Claims (3)
- (1)X型無金属フタロシアニンおよび/またはτ型無
金属フタロシアニンを、前記フタロシアニンを溶解する
溶剤および高分子と共に攪拌処理して、少なくとも一部
を新たな無金属フタロシアニン結晶とするフタロシアニ
ンの製造方法。 - (2)新たな無金属フタロシアニン結晶とX型無金属フ
タロシアニンおよびτ型無金属フタロシアニンのうちの
少なくとも1種の無金属フタロシアニンとの無金属フタ
ロシアニン混合体が得られるようにする請求項1記載の
フタロシアニンの製造方法。 - (3)無金属フタロシアニン混合体のX線測定による回
折パターンにおいて、面間隔が約11.8Åである結晶
面からの反射に基づく回折線強度が、面間隔が約9.8
Åである結晶面からの反射に基づく回折線強度よりも弱
くなっているようにする請求項2記載のフタロシアニン
の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2060190A JPH07103321B2 (ja) | 1990-03-12 | 1990-03-12 | フタロシアニンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2060190A JPH07103321B2 (ja) | 1990-03-12 | 1990-03-12 | フタロシアニンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03259959A true JPH03259959A (ja) | 1991-11-20 |
JPH07103321B2 JPH07103321B2 (ja) | 1995-11-08 |
Family
ID=13134996
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2060190A Expired - Fee Related JPH07103321B2 (ja) | 1990-03-12 | 1990-03-12 | フタロシアニンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07103321B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018085346A1 (en) | 2016-11-03 | 2018-05-11 | Sun Chemical Corporation | Pigment compositions containing chlorinated copper phthalocyanine pigments in the gamma crystal form |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6462648A (en) * | 1987-09-02 | 1989-03-09 | Alps Electric Co Ltd | Coating solution for organic photosensitive body |
JPH01303442A (ja) * | 1988-05-31 | 1989-12-07 | Somar Corp | ヒドラゾン化合物含有電子写真感光体 |
-
1990
- 1990-03-12 JP JP2060190A patent/JPH07103321B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6462648A (en) * | 1987-09-02 | 1989-03-09 | Alps Electric Co Ltd | Coating solution for organic photosensitive body |
JPH01303442A (ja) * | 1988-05-31 | 1989-12-07 | Somar Corp | ヒドラゾン化合物含有電子写真感光体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07103321B2 (ja) | 1995-11-08 |
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