JPH03258394A - 建物給水設備の飲料水殺菌装置 - Google Patents
建物給水設備の飲料水殺菌装置Info
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- JPH03258394A JPH03258394A JP5925190A JP5925190A JPH03258394A JP H03258394 A JPH03258394 A JP H03258394A JP 5925190 A JP5925190 A JP 5925190A JP 5925190 A JP5925190 A JP 5925190A JP H03258394 A JPH03258394 A JP H03258394A
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- water
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ビル、マンションなどの屋上据付けた高置水
槽より各室に給水する給水設備を対象とした飲料水膜W
装置に関する。
槽より各室に給水する給水設備を対象とした飲料水膜W
装置に関する。
中、高層のビル、マンションなどの建物に対する給水設
備として一般には高置水槽方式が採用されている。第4
図はかかる高置水槽方式の給水設備を示したものであり
、図中、1は建物、2は建物lの屋上に据付けた高置水
槽、3は水道引込み管であり、水道水は建物lの一階、
ないし地下に設置した受水槽4で受水してここから揚水
ポンプ5により高置水槽2へ揚水し、ここから建物内の
各所へ配水するようにしている。
備として一般には高置水槽方式が採用されている。第4
図はかかる高置水槽方式の給水設備を示したものであり
、図中、1は建物、2は建物lの屋上に据付けた高置水
槽、3は水道引込み管であり、水道水は建物lの一階、
ないし地下に設置した受水槽4で受水してここから揚水
ポンプ5により高置水槽2へ揚水し、ここから建物内の
各所へ配水するようにしている。
ところで、前記した高置水槽方式を採用した建物の給水
設備では飲料水の水質維持の面で次記のような問題点が
残る。
設備では飲料水の水質維持の面で次記のような問題点が
残る。
すなわち、水道法では配水管路末端での水中における残
留塩素濃度が0.1pp−以上になるよう規定されてい
る。これに対して、先記のように水道からの飲料水を一
旦高置水槽に送り込んで貯留する方式では、水が水槽内
で長時間放置されていると水中の塩素が空気または水槽
壁などに接触して分解、吸着され、水中の残留塩素濃度
が規定濃度である0、 l ppm以下に低下して飲料
水として適さなくなることがある。また、特に強化プラ
スチック製の高置水槽では、僅かであるが太陽光がプラ
スチックの壁面を透過するために水中に混入している藻
、mwが光合成により増殖し、水質をますます劣化させ
る。
留塩素濃度が0.1pp−以上になるよう規定されてい
る。これに対して、先記のように水道からの飲料水を一
旦高置水槽に送り込んで貯留する方式では、水が水槽内
で長時間放置されていると水中の塩素が空気または水槽
壁などに接触して分解、吸着され、水中の残留塩素濃度
が規定濃度である0、 l ppm以下に低下して飲料
水として適さなくなることがある。また、特に強化プラ
スチック製の高置水槽では、僅かであるが太陽光がプラ
スチックの壁面を透過するために水中に混入している藻
、mwが光合成により増殖し、水質をますます劣化させ
る。
本発明は上記の点にかんがみなされたものであり、先記
した高置水槽方式の給水設備を対象に、飲料水として水
質の適正維持を図ることができるようにした建物給水設
備の飲料水殺菌装置を提供することを目的とする。
した高置水槽方式の給水設備を対象に、飲料水として水
質の適正維持を図ることができるようにした建物給水設
備の飲料水殺菌装置を提供することを目的とする。
(81111を解決するための手段〕
上記課題を解決するために、本発明の飲料水殺菌装置は
、高置水槽に対し、所定周期ごとに塩素を水槽内に補給
して貯留飲料水の残留塩素濃度を適正値に維持する塩素
供給手段を備えて構成するものとする。
、高置水槽に対し、所定周期ごとに塩素を水槽内に補給
して貯留飲料水の残留塩素濃度を適正値に維持する塩素
供給手段を備えて構成するものとする。
上記の構成において、塩素供給手段としては、水道水中
に存在している塩素イオンを電気分解法により陽極酸化
して塩素ガスを発生させる方式、ないしは次亜塩素酸ナ
トリニウム液を直接水槽内に滴下させる方式などが採用
される。
に存在している塩素イオンを電気分解法により陽極酸化
して塩素ガスを発生させる方式、ないしは次亜塩素酸ナ
トリニウム液を直接水槽内に滴下させる方式などが採用
される。
ここで、塩素供給量を制御するコントローラにあらかじ
め飲料水として適正な塩素濃度を目標値として設定し、
タイマ制御により所定周期ごとに高置水槽の水槽内に塩
素を補給する。これにより高置水槽の水中塩素濃度を飲
料水として適正範囲に安定維持し、併せて水中内での雑
菌の繁殖を防ぐことができる。
め飲料水として適正な塩素濃度を目標値として設定し、
タイマ制御により所定周期ごとに高置水槽の水槽内に塩
素を補給する。これにより高置水槽の水中塩素濃度を飲
料水として適正範囲に安定維持し、併せて水中内での雑
菌の繁殖を防ぐことができる。
第1図、第2図、第3図それぞれ本発明の異なる実施例
を示すものであり、第4図に対応する部材には同じ符号
が付しである。
を示すものであり、第4図に対応する部材には同じ符号
が付しである。
まず、第1図の実施例において、高置水槽2に対して本
発明により、塩素発生電極6.コントローラ7、電源8
.タイマ9などを組合わせた塩素発生装置10と、二種
の金属で構成した電極11と電極電流検出部12を組合
わせた残留塩素濃度センサエ3と、および水槽内の水を
撹拌する撹拌器14が装備されている。
発明により、塩素発生電極6.コントローラ7、電源8
.タイマ9などを組合わせた塩素発生装置10と、二種
の金属で構成した電極11と電極電流検出部12を組合
わせた残留塩素濃度センサエ3と、および水槽内の水を
撹拌する撹拌器14が装備されている。
ここで、塩素発生装置10のコントローラ7にはあらか
じめ飲料水として適正な水中塩素濃度(例えば0.1p
p■より若干高い値)が設定されており、タイマ9で設
定の所定周期ごとにセンサ13から取り込んだ残留塩素
濃度の検出信号を基に、塩素発生電極6を通電制御する
。これにより塩素発注電極6の陽極側に塩素ガスが発生
して水中に溶解するとともに、撹拌器14の運転により
水槽内の水中塩素濃度が均一化される。この結果、高置
水槽2の貯留水の残留塩素濃度が飲料水として適した濃
度範囲に維持される。
じめ飲料水として適正な水中塩素濃度(例えば0.1p
p■より若干高い値)が設定されており、タイマ9で設
定の所定周期ごとにセンサ13から取り込んだ残留塩素
濃度の検出信号を基に、塩素発生電極6を通電制御する
。これにより塩素発注電極6の陽極側に塩素ガスが発生
して水中に溶解するとともに、撹拌器14の運転により
水槽内の水中塩素濃度が均一化される。この結果、高置
水槽2の貯留水の残留塩素濃度が飲料水として適した濃
度範囲に維持される。
第2図は第1図の実施例における残留濃度センサを省略
した簡易形の実施例を示すものであり、タイマ9の制御
により所定周期ごとにあらかじめコントローラ9で設定
した一定時間ずつ塩素発生電極6を通電制御する。この
方式は第1図の実施例と比べて、建物内での水消費量の
如何により水中の残留塩素濃度に多少のバラツキが生じ
るが、低コストで構成できる。
した簡易形の実施例を示すものであり、タイマ9の制御
により所定周期ごとにあらかじめコントローラ9で設定
した一定時間ずつ塩素発生電極6を通電制御する。この
方式は第1図の実施例と比べて、建物内での水消費量の
如何により水中の残留塩素濃度に多少のバラツキが生じ
るが、低コストで構成できる。
第3図9実施例は、塩素供給手段として、次亜塩素酸ナ
トリウム15の収容タンク16と、滴定ポンプ17と、
ポンプの運転コントローラ18を備え、第1図の実施例
と同様なタイマ9.および残留塩素濃度制1113を組
合わせて所定周期ごとに高置水槽2の水槽内に次亜塩素
酸ナトリウム15を適量ずつ直接に滴下供給するように
したものである。
トリウム15の収容タンク16と、滴定ポンプ17と、
ポンプの運転コントローラ18を備え、第1図の実施例
と同様なタイマ9.および残留塩素濃度制1113を組
合わせて所定周期ごとに高置水槽2の水槽内に次亜塩素
酸ナトリウム15を適量ずつ直接に滴下供給するように
したものである。
本発明の給水設備の飲料水殺菌装置は、以上説明したよ
うに構成されているので、次記の効果を奏する。
うに構成されているので、次記の効果を奏する。
(1)高置水槽に対し、所定周期ごとに塩素を補給する
ことにより、水槽内の貯留水の残留塩素濃度を常に0.
1pp−以上に保って飲料水として好ましい水質維持を
図ることができる。
ことにより、水槽内の貯留水の残留塩素濃度を常に0.
1pp−以上に保って飲料水として好ましい水質維持を
図ることができる。
(2)高置水槽方式の給水設備に対して、特に建物内各
所の給水栓に通じる貯水槽であり、かつ塩素の分解、雑
菌の繁殖の影響を最も受は易い屋上に据付けた高置水槽
へ塩素を補給するようにしたので、最も効果的に飲料水
の適正維持が図れる。
所の給水栓に通じる貯水槽であり、かつ塩素の分解、雑
菌の繁殖の影響を最も受は易い屋上に据付けた高置水槽
へ塩素を補給するようにしたので、最も効果的に飲料水
の適正維持が図れる。
第1図、第2図、第3図はそれぞれ本発明の異なる実施
例の構成図、第4図は高置水槽方式の一般的な建物給水
設備の配管図である0図において、1:建物、2:高置
水槽、6:塩素発止電極、7:コントローラ、9;タイ
マ、10:塩素発生装置、13:残留塩素濃度センサ、
15:次亜塩素酸ナトリウム、i7:m定ポンプ。
例の構成図、第4図は高置水槽方式の一般的な建物給水
設備の配管図である0図において、1:建物、2:高置
水槽、6:塩素発止電極、7:コントローラ、9;タイ
マ、10:塩素発生装置、13:残留塩素濃度センサ、
15:次亜塩素酸ナトリウム、i7:m定ポンプ。
Claims (1)
- 1)ビル、マンションなどの屋上に据付けた高置水槽よ
り建物内の各所へ給水する給水設備の飲料水殺菌装置で
あって、前記の高置水槽に対し、所定周期ごとに塩素を
水槽内に補給して貯留飲料水の残留塩素濃度を適正値に
維持する塩素供給手段を備えたことを特徴とする建物給
水設備の飲料水殺菌装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5925190A JPH03258394A (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | 建物給水設備の飲料水殺菌装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5925190A JPH03258394A (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | 建物給水設備の飲料水殺菌装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03258394A true JPH03258394A (ja) | 1991-11-18 |
Family
ID=13107976
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5925190A Pending JPH03258394A (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | 建物給水設備の飲料水殺菌装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03258394A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020094986A (ja) * | 2018-12-14 | 2020-06-18 | クリナップ株式会社 | 遊離残留塩素濃度算出方法、遊離残留塩素濃度算出システム、及び空間洗浄システム |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6038084A (ja) * | 1983-07-05 | 1985-02-27 | オリン・コーポレイシヨン | 容器中の水部分を消毒する方法および装置 |
JPS6231173B2 (ja) * | 1982-04-22 | 1987-07-07 | Matsuda Kk | |
JPS62168589A (ja) * | 1985-10-02 | 1987-07-24 | オ−トトロル コ−ポレ−シヨン | 殺菌性混合物制御装置 |
-
1990
- 1990-03-09 JP JP5925190A patent/JPH03258394A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6231173B2 (ja) * | 1982-04-22 | 1987-07-07 | Matsuda Kk | |
JPS6038084A (ja) * | 1983-07-05 | 1985-02-27 | オリン・コーポレイシヨン | 容器中の水部分を消毒する方法および装置 |
JPS62168589A (ja) * | 1985-10-02 | 1987-07-24 | オ−トトロル コ−ポレ−シヨン | 殺菌性混合物制御装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020094986A (ja) * | 2018-12-14 | 2020-06-18 | クリナップ株式会社 | 遊離残留塩素濃度算出方法、遊離残留塩素濃度算出システム、及び空間洗浄システム |
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