JP2001327975A - 歯科用水道水の残留塩素補正装置 - Google Patents
歯科用水道水の残留塩素補正装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電気分解によって生成する次亜塩素酸イオン
濃度を高い精度でかつ容易に制御することができる残留
塩素補正装置を提供する。 【解決手段】 歯科治療用水道水に塩素を注入して殺菌
力を維持する歯科用水道水の残留塩素補正装置におい
て、超純水(ＲＯ水)に食塩（ＮａＣｌ）と酢酸（ＣＨ３
ＣＯＯＨ）混合した原液を収容する原液タンク１と、原
液を電気分解して次亜塩素酸イオンを生成する原液注入
ポンプ３１と次亜塩素酸生成電解槽３２とを有する塩素
生成ユニット３と、貯水タンク５とを備えた。
濃度を高い精度でかつ容易に制御することができる残留
塩素補正装置を提供する。 【解決手段】 歯科治療用水道水に塩素を注入して殺菌
力を維持する歯科用水道水の残留塩素補正装置におい
て、超純水(ＲＯ水)に食塩（ＮａＣｌ）と酢酸（ＣＨ３
ＣＯＯＨ）混合した原液を収容する原液タンク１と、原
液を電気分解して次亜塩素酸イオンを生成する原液注入
ポンプ３１と次亜塩素酸生成電解槽３２とを有する塩素
生成ユニット３と、貯水タンク５とを備えた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、歯科治療用水道
水などに次亜塩素酸イオンを添加して残留塩素濃度を補
正する残留塩素補正装置に関する。
水などに次亜塩素酸イオンを添加して残留塩素濃度を補
正する残留塩素補正装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、歯科用水道水などに次亜塩素酸イ
オンを添加して殺菌力を高める残留塩素補正装置とし
て、各種の装置が提案されている。水道水に次亜塩素酸
イオンを加える方法として、電解質を電気分解して次亜
塩素酸イオンを生成したり、次亜塩素酸ナトリウム溶液
を注入したり、次亜塩素酸カルシウム錠剤を投入する方
法がある。このような薬液や薬剤を使用する方法は、電
解質原液を水道水で希釈してから電気分解して次亜塩素
酸イオン（ＯＣｌ−）を得ているので、水道水に存在す
る不純物により次亜塩素酸イオンの濃度を精度良く制御
することが難しいという問題を有している。
オンを添加して殺菌力を高める残留塩素補正装置とし
て、各種の装置が提案されている。水道水に次亜塩素酸
イオンを加える方法として、電解質を電気分解して次亜
塩素酸イオンを生成したり、次亜塩素酸ナトリウム溶液
を注入したり、次亜塩素酸カルシウム錠剤を投入する方
法がある。このような薬液や薬剤を使用する方法は、電
解質原液を水道水で希釈してから電気分解して次亜塩素
酸イオン（ＯＣｌ−）を得ているので、水道水に存在す
る不純物により次亜塩素酸イオンの濃度を精度良く制御
することが難しいという問題を有している。
【０００３】さらに、電解質として塩酸などの取り扱い
に注意を要する薬剤を用いるので、操作に危険が伴うと
いう問題を有している。
に注意を要する薬剤を用いるので、操作に危険が伴うと
いう問題を有している。
【０００４】さらに、薬剤の注入に人手を用いているの
で、注入量にバラツキを生じ、塩素濃度が不安定となる
という問題を有している。また、微量塩素濃度の管理が
困難で、一般に塩素濃度が高くなってしまい、環境への
悪影響へ繋がるという問題を有している。
で、注入量にバラツキを生じ、塩素濃度が不安定となる
という問題を有している。また、微量塩素濃度の管理が
困難で、一般に塩素濃度が高くなってしまい、環境への
悪影響へ繋がるという問題を有している。
【０００５】さらに、安定した濃度管理をしようとする
と機械が大型化および複雑化してしまい、又、専任の管
理者が必要となってコストアップとなるという問題を有
している。
と機械が大型化および複雑化してしまい、又、専任の管
理者が必要となってコストアップとなるという問題を有
している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を解決することを目指した発明であり、電気分解によっ
て生成する次亜塩素酸イオン濃度を高い精度でかつ容易
に制御することができる残留塩素補正装置を提供するこ
とを目的とする。
を解決することを目指した発明であり、電気分解によっ
て生成する次亜塩素酸イオン濃度を高い精度でかつ容易
に制御することができる残留塩素補正装置を提供するこ
とを目的とする。
【０００７】また、本発明は、原液の取り扱いに危険を
ともなわない残留塩素補正装置を提供することをも目的
とする。
ともなわない残留塩素補正装置を提供することをも目的
とする。
【０００８】さらに、本発明は、水道水に含まれる不純
物によって配管中にスケールが付着するのを防ぐことを
目的とする。
物によって配管中にスケールが付着するのを防ぐことを
目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、塩素薬剤を水道水に直接混合させるので
はなく、専用の添加液（ＲＯ水（超純水）、食塩（Ｎａ
Ｃｌ），酢酸（ＣＨ３ＯＯＨ））を電気分解して、次亜
塩素酸イオン（ＯＣｌ−）を生成しその後、水道水と混
合させることによって、適切な残留塩素濃度を得る残留
塩素補正装置である。
に、本発明は、塩素薬剤を水道水に直接混合させるので
はなく、専用の添加液（ＲＯ水（超純水）、食塩（Ｎａ
Ｃｌ），酢酸（ＣＨ３ＯＯＨ））を電気分解して、次亜
塩素酸イオン（ＯＣｌ−）を生成しその後、水道水と混
合させることによって、適切な残留塩素濃度を得る残留
塩素補正装置である。
【００１０】具体的には、本発明は、歯科治療用水道水
に塩素を注入して殺菌力を維持する歯科用水道水の残留
塩素補正装置において、超純水に塩素剤とＰｈ調整剤を
混合した原液を収容する原液タンクと、原液を電気分解
して次亜塩素酸イオンを生成する次亜塩素酸生成ユニッ
トと、貯水タンクとを備えたことを特徴とする。
に塩素を注入して殺菌力を維持する歯科用水道水の残留
塩素補正装置において、超純水に塩素剤とＰｈ調整剤を
混合した原液を収容する原液タンクと、原液を電気分解
して次亜塩素酸イオンを生成する次亜塩素酸生成ユニッ
トと、貯水タンクとを備えたことを特徴とする。
【００１１】また、本発明は、上記残留塩素補正装置に
おいて、上記原液を構成する塩素剤が食塩（ＮａＣｌ）
または塩化カリウム(ＫＣｌ)もしくはこれらの混合物で
あることを特徴とする。
おいて、上記原液を構成する塩素剤が食塩（ＮａＣｌ）
または塩化カリウム(ＫＣｌ)もしくはこれらの混合物で
あることを特徴とする。
【００１２】本発明は、上記残留塩素補正装置におい
て、上記原液を構成するＰｈ調整剤が酢酸（ＣＨ３ＣＯ
ＯＨ）または過酢酸またはリンゴ酸またはクエン酸のい
ずれかもしくはこれらの２以上の混合物であることを特
徴とする。
て、上記原液を構成するＰｈ調整剤が酢酸（ＣＨ３ＣＯ
ＯＨ）または過酢酸またはリンゴ酸またはクエン酸のい
ずれかもしくはこれらの２以上の混合物であることを特
徴とする。
【００１３】さらに、本発明は、上記残留塩素補正装置
において、上記次亜塩素酸生成ユニットが、一定の量の
原料を供給する原料注入ポンプと、次亜塩素酸生成電解
槽とを備えることを特徴とする。
において、上記次亜塩素酸生成ユニットが、一定の量の
原料を供給する原料注入ポンプと、次亜塩素酸生成電解
槽とを備えることを特徴とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】図１を用いて次亜塩素酸生成ユニ
ットを用いた本発明にかかる残留塩素補正装置の構成概
要を説明する。
ットを用いた本発明にかかる残留塩素補正装置の構成概
要を説明する。
【００１５】本発明にかかる残留塩素補正装置は、原液
タンク１と、次亜塩素酸生成ユニット３と、貯水タンク
５と、給水系７とから構成される。
タンク１と、次亜塩素酸生成ユニット３と、貯水タンク
５と、給水系７とから構成される。
【００１６】原液タンク１には、ＲＯ膜を介して得た超
純水(ＲＯ水)と、食塩（ＮａＣｌ）と、酢酸（ＣＨ３Ｏ
ＯＨ）との混合液からなる原液が蓄えられている。この
原液の比率は、例えば、ＲＯ水：ＮａＣｌ：ＣＨ３ＣＯ
ＯＨの容積比が９７：２.６５：０.３５となるように設
定されている。
純水(ＲＯ水)と、食塩（ＮａＣｌ）と、酢酸（ＣＨ３Ｏ
ＯＨ）との混合液からなる原液が蓄えられている。この
原液の比率は、例えば、ＲＯ水：ＮａＣｌ：ＣＨ３ＣＯ
ＯＨの容積比が９７：２.６５：０.３５となるように設
定されている。
【００１７】次亜塩素酸生成ユニット３は、原液注入ポ
ンプ３１と、次亜塩素酸生成電解槽３２とが設けられて
いる。原液注入ポンプ３１は、原液タンク１から延びる
原液吸込チューブ１１に接続され、原液を次亜塩素酸生
成電解槽３２へ供給するポンプであり、原液の供給量を
厳密に制御できる電磁定量ポンプを用いることが望まし
い。次亜塩素酸生成電解槽３２は、原液タンク１から送
られてきた前記原液を電気分解して、食塩をナトリウム
イオン（Ｎａ＋）と次亜塩素酸イオン（ＯＣｌ −）に分
解する電解槽であり、生成物と酢酸（ＣＨ３ＯＯＨ）
は、貯水タンク５に供給される。原料に酢酸を加えるこ
とにより、ＰＨを中性域に制御して水質基準内に補正し
ている。
ンプ３１と、次亜塩素酸生成電解槽３２とが設けられて
いる。原液注入ポンプ３１は、原液タンク１から延びる
原液吸込チューブ１１に接続され、原液を次亜塩素酸生
成電解槽３２へ供給するポンプであり、原液の供給量を
厳密に制御できる電磁定量ポンプを用いることが望まし
い。次亜塩素酸生成電解槽３２は、原液タンク１から送
られてきた前記原液を電気分解して、食塩をナトリウム
イオン（Ｎａ＋）と次亜塩素酸イオン（ＯＣｌ −）に分
解する電解槽であり、生成物と酢酸（ＣＨ３ＯＯＨ）
は、貯水タンク５に供給される。原料に酢酸を加えるこ
とにより、ＰＨを中性域に制御して水質基準内に補正し
ている。
【００１８】貯水タンク５は、塩素混合水を貯蔵するタ
ンクでる。貯水タンク５の上方には、次亜塩素酸生成ユ
ニット３の電解槽３２の排出管３３と給水管７８が開口
するとともに、下部付近に塩素混合水排出管７Ｄが設け
られている。
ンクでる。貯水タンク５の上方には、次亜塩素酸生成ユ
ニット３の電解槽３２の排出管３３と給水管７８が開口
するとともに、下部付近に塩素混合水排出管７Ｄが設け
られている。
【００１９】給水系７は、プレフィルタ７１と、開閉用
電磁弁７２と、流量計７３と、流量調節弁７４と、加圧
給水ポンプ７５と、給水切替三方弁７６と、水道配管に
接続され市水が供給される配管７Ａと、貯水槽５への給
水管７Ｂと、バイパス用配管７Ｃと、塩素混合水排出管
７Ｄと、治療用ユニットなどへの給水配管７Ｅとから構
成される。プレフィルタ７１は配管７Ａに、開閉用電磁
弁７２および流量計７３ならびに流量調節弁７４は給水
管７Ｂに、加圧給水ポンプ７５は塩素混合水排出管７Ｄ
にそれぞれ設けられる。給水切替三方弁７６は、バイパ
ス用配管７Ｃまたは塩素混合水排出管７Ｄのいずれか一
方を選択して給水配管７Ｅへの流路を形成する弁であ
り、電動機によって駆動させる弁として形成することが
できる。
電磁弁７２と、流量計７３と、流量調節弁７４と、加圧
給水ポンプ７５と、給水切替三方弁７６と、水道配管に
接続され市水が供給される配管７Ａと、貯水槽５への給
水管７Ｂと、バイパス用配管７Ｃと、塩素混合水排出管
７Ｄと、治療用ユニットなどへの給水配管７Ｅとから構
成される。プレフィルタ７１は配管７Ａに、開閉用電磁
弁７２および流量計７３ならびに流量調節弁７４は給水
管７Ｂに、加圧給水ポンプ７５は塩素混合水排出管７Ｄ
にそれぞれ設けられる。給水切替三方弁７６は、バイパ
ス用配管７Ｃまたは塩素混合水排出管７Ｄのいずれか一
方を選択して給水配管７Ｅへの流路を形成する弁であ
り、電動機によって駆動させる弁として形成することが
できる。
【００２０】以下、上記構成を有する残留塩素補正装置
の働きを説明する。貯水タンク５内の上部に設けた図示
を省略した上限水位スイッチが貯水タンク５内の塩素混
合水の減少を検知すると、原液注入ポンプ３１が動作し
て原液タンク１から原液を吸い上げて次亜塩素酸生成電
解層３２に供給する。貯水タンク５内の塩素混合水の水
位が上昇してタンク内上部に設けた図示を省略した上限
水位スイッチが動作すると、原液注入ポンプ３１は停止
する。
の働きを説明する。貯水タンク５内の上部に設けた図示
を省略した上限水位スイッチが貯水タンク５内の塩素混
合水の減少を検知すると、原液注入ポンプ３１が動作し
て原液タンク１から原液を吸い上げて次亜塩素酸生成電
解層３２に供給する。貯水タンク５内の塩素混合水の水
位が上昇してタンク内上部に設けた図示を省略した上限
水位スイッチが動作すると、原液注入ポンプ３１は停止
する。
【００２１】次亜塩素酸生成電解槽３２には一定量の原
液が供給されるとともに、１対の電極に所定の電力が供
給されて、濃度が２０００ｐｐｍの次亜塩素酸イオンを
含む電気分解液が排出管３３から、貯水タンク５内に点
滴状態で排出される。
液が供給されるとともに、１対の電極に所定の電力が供
給されて、濃度が２０００ｐｐｍの次亜塩素酸イオンを
含む電気分解液が排出管３３から、貯水タンク５内に点
滴状態で排出される。
【００２２】貯水タンク５内には、上記排出管３３から
電気分解液が給水管７８から水道水が供給され、貯水タ
ンクに落下して撹拌混合されて次亜塩素酸イオン濃度が
１５ｐｐｍに希釈された塩素混合水を生成する。流量調
節弁７４を調節することによって貯水タンク５内の塩素
混合水を所定の次亜塩素酸イオン濃度に調整する。
電気分解液が給水管７８から水道水が供給され、貯水タ
ンクに落下して撹拌混合されて次亜塩素酸イオン濃度が
１５ｐｐｍに希釈された塩素混合水を生成する。流量調
節弁７４を調節することによって貯水タンク５内の塩素
混合水を所定の次亜塩素酸イオン濃度に調整する。
【００２３】給水管７８を介して貯水タンク５に供給さ
れる水道水の量は、次亜塩素酸生成ユニット３から供給
される次亜塩素酸イオンの量に比例して流量計７３およ
び流量調節弁７４を用いて精度高く制御される。
れる水道水の量は、次亜塩素酸生成ユニット３から供給
される次亜塩素酸イオンの量に比例して流量計７３およ
び流量調節弁７４を用いて精度高く制御される。
【００２４】貯水タンク５に蓄えられた所定濃度に調整
された塩素混合水は、加圧給水ポンプ７５によって所定
の圧力で給水切替三方弁７６を経由して給水配管７Ｅに
配水される。
された塩素混合水は、加圧給水ポンプ７５によって所定
の圧力で給水切替三方弁７６を経由して給水配管７Ｅに
配水される。
【００２５】上記の説明では、電気分解により次亜塩素
酸イオンを生成する塩素剤として食塩(ＮａＣｌ)を用い
たが、塩化カリウム(ＫＣｌ)等の電気分解により次亜塩
素酸イオン(ＯＣｌ−)を生成する電解可能な塩素化合物
もしくはれらの混合物からなる他の次亜塩素酸イオン生
成剤を用いることができる。
酸イオンを生成する塩素剤として食塩(ＮａＣｌ)を用い
たが、塩化カリウム(ＫＣｌ)等の電気分解により次亜塩
素酸イオン(ＯＣｌ−)を生成する電解可能な塩素化合物
もしくはれらの混合物からなる他の次亜塩素酸イオン生
成剤を用いることができる。
【００２６】さらに、上記の説明では、Ｐｈ調整剤とし
て酢酸（ＣＨ３ＣＯＯＨ）を用いたが、これ以外に過酢
酸、リンゴ酸、クエン酸もしくは酢酸を含むこれらの混
合物からなるＰｈ調整剤を用いることができる。
て酢酸（ＣＨ３ＣＯＯＨ）を用いたが、これ以外に過酢
酸、リンゴ酸、クエン酸もしくは酢酸を含むこれらの混
合物からなるＰｈ調整剤を用いることができる。
【００２７】以上の構成を有する本発明は、危険な薬
剤管理が必要なくなる、専用添加液を用いることによ
って、一定の電解質と一定の電気量で次亜塩素酸イオン
を生成でき、低濃度から高濃度まで、自在に次亜塩素酸
イオンの量を制御することができる。酢酸（ＣＨ３Ｏ
ＯＨ）などのＰｈ調整剤を添加することによって、Ｐｈ
を調整するとともに、配管のスケールの除去が可能とな
る。次亜塩素酸イオン(ＯＣｌ−)は、排水時に塩化物
として安定するので、環境への影響が少ない。ＯＣｌ
―濃度を低濃度で供給することができるので、環境への
影響を最小限に留めることができる。などの優れた働き
をする。
剤管理が必要なくなる、専用添加液を用いることによ
って、一定の電解質と一定の電気量で次亜塩素酸イオン
を生成でき、低濃度から高濃度まで、自在に次亜塩素酸
イオンの量を制御することができる。酢酸（ＣＨ３Ｏ
ＯＨ）などのＰｈ調整剤を添加することによって、Ｐｈ
を調整するとともに、配管のスケールの除去が可能とな
る。次亜塩素酸イオン(ＯＣｌ−)は、排水時に塩化物
として安定するので、環境への影響が少ない。ＯＣｌ
―濃度を低濃度で供給することができるので、環境への
影響を最小限に留めることができる。などの優れた働き
をする。
【００２８】
【発明の効果】以上のように、上記構成を有する本発明
にかかる残留塩素補正装置は、原液に超純水（ＲＯ水）
を用いているので、不純物を含まず、次亜塩素酸生成電
解槽３２で電気分解するに当たって、正確にかつ容易に
次亜塩素酸イオンの濃度を制御することができ、塩素混
合水の濃度を精度高く制御することができる。
にかかる残留塩素補正装置は、原液に超純水（ＲＯ水）
を用いているので、不純物を含まず、次亜塩素酸生成電
解槽３２で電気分解するに当たって、正確にかつ容易に
次亜塩素酸イオンの濃度を制御することができ、塩素混
合水の濃度を精度高く制御することができる。
【００２９】さらに、本発明は、塩酸などの注意して取
り扱う必要のある薬剤を用いずに食塩や塩化カリウムな
どの塩素剤を用いているので、安全に取り扱うことがで
きるとともに、塩素混合水に含まれる酢酸などのＰｈ調
整剤が水道水に含まれるカルシウムと反応して配管内面
に付着しにくい酢酸カルシウム(Ｃａ(ＣＯＯＨ)２)や酢
酸マグネシウム(Ｍｇ(ＣＯＯＨ)２)となるので、スケー
ルが配管内面に付着することを防ぎ、スケールの付着を
防止することができる。
り扱う必要のある薬剤を用いずに食塩や塩化カリウムな
どの塩素剤を用いているので、安全に取り扱うことがで
きるとともに、塩素混合水に含まれる酢酸などのＰｈ調
整剤が水道水に含まれるカルシウムと反応して配管内面
に付着しにくい酢酸カルシウム(Ｃａ(ＣＯＯＨ)２)や酢
酸マグネシウム(Ｍｇ(ＣＯＯＨ)２)となるので、スケー
ルが配管内面に付着することを防ぎ、スケールの付着を
防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明にかかる歯科用水道水の残留塩素補正
装置の構成を説明する概念図。
装置の構成を説明する概念図。
１：原液タンク、 １１：原液吸込チューブ、３：次亜
塩素酸生成ユニット、 ３１：原液注入ポンプ、 ３
２：次亜塩素酸生成電解槽、 ３３：排出管、５：貯水
タンク、７：給水系、 ７１：プレフィルタ、 ７２：
開閉用電磁弁、 ７３：流量計、 ７４：流量調節弁、
７５：加圧給水ポンプ、 ７６：給水切替三方弁。
塩素酸生成ユニット、 ３１：原液注入ポンプ、 ３
２：次亜塩素酸生成電解槽、 ３３：排出管、５：貯水
タンク、７：給水系、 ７１：プレフィルタ、 ７２：
開閉用電磁弁、 ７３：流量計、 ７４：流量調節弁、
７５：加圧給水ポンプ、 ７６：給水切替三方弁。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｃ 17/00 Ａ６１Ｃ 17/00 Ａ Ｅ Ａ６１Ｌ 2/02 Ａ６１Ｌ 2/02 Ｚ 2/18 2/18 Ｃ０２Ｆ 1/46 ＺＡＢ Ｃ０２Ｆ 1/46 ＺＡＢＺ 1/66 ５１０ 1/66 ５１０Ｚ ５２２ ５２２Ｆ ５３０ ５３０Ｇ ５４０ ５４０Ｅ Ｆターム(参考） 4C058 AA20 BB02 BB07 DD07 EE26 JJ07 4D061 DA03 DB01 DB10 EA02 EB12 EB19 EB39 ED12 ED13 FA11 GC20
Claims (4)
- 【請求項１】 歯科治療用水道水に塩素を注入して殺菌
力を維持する歯科用水道水の残留塩素補正装置におい
て、超純水に塩素剤とＰｈ調整剤を混合した原液を収容
する原液タンクと、原液を電気分解して次亜塩素酸イオ
ンを生成する次亜塩素酸生成ユニットと、貯水タンクと
を備えたことを特徴とする残留塩素補正装置。 - 【請求項２】 上記原液を構成する塩素剤が食塩（Ｎａ
Ｃｌ）または塩化カリウム（ＫＣｌ）もしくはこれらの
混合物であることを特徴とする請求項１に記載の残留塩
素補正装置。 - 【請求項３】 上記原液を構成するＰｈ調整剤が酢酸
（ＣＨ３ＣＯＯＨ）または過酢酸またはリンゴ酸または
クエン酸のいずれかもしくはこれらの２以上の混合物で
あることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の
残留塩素補正装置。 - 【請求項４】 上記次亜塩素酸生成ユニットが、一定の
量の原料を供給する原料注入ポンプと、次亜塩素酸生成
電解槽とを備えることを特徴とする請求項１ないし請求
項３のいずれか１項に記載の残留塩素補正装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000149605A JP2001327975A (ja) | 2000-05-22 | 2000-05-22 | 歯科用水道水の残留塩素補正装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000149605A JP2001327975A (ja) | 2000-05-22 | 2000-05-22 | 歯科用水道水の残留塩素補正装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001327975A true JP2001327975A (ja) | 2001-11-27 |
Family
ID=18655438
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000149605A Pending JP2001327975A (ja) | 2000-05-22 | 2000-05-22 | 歯科用水道水の残留塩素補正装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001327975A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007072697A1 (ja) * | 2005-12-20 | 2007-06-28 | Noguchi Dental Medical Research Institute | 殺菌水及びその生成方法並びに生成装置 |
| JP2010104655A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Morita Mfg Co Ltd | 給水管路洗浄装置及びこれを用いた歯科用診療装置 |
| JP2013169481A (ja) * | 2012-02-17 | 2013-09-02 | Epios Inc | 洗浄水及びその製造方法 |
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