JPH03252623A - カラー表示装置の製造方法 - Google Patents
カラー表示装置の製造方法Info
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- JPH03252623A JPH03252623A JP2051133A JP5113390A JPH03252623A JP H03252623 A JPH03252623 A JP H03252623A JP 2051133 A JP2051133 A JP 2051133A JP 5113390 A JP5113390 A JP 5113390A JP H03252623 A JPH03252623 A JP H03252623A
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- Japan
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- display device
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- photosensitive resin
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、ワープロ、ラップトツブコンピューター等、
幅広い用途への応用が可能なカラー表示装置に関するも
のである。
幅広い用途への応用が可能なカラー表示装置に関するも
のである。
［発明の概要］
本発明は、カラーフィルターとその間隙に遮光膜を有す
るカラー表示装置の製造方法において、該遮光膜の製造
工程に基板背面からの露光工程と基板表面からの赤外線
照射工程を組み合わせることにより、従来より高歩留り
、且つ高品質のカラー表示装置の製造方法を提供するも
のである。
るカラー表示装置の製造方法において、該遮光膜の製造
工程に基板背面からの露光工程と基板表面からの赤外線
照射工程を組み合わせることにより、従来より高歩留り
、且つ高品質のカラー表示装置の製造方法を提供するも
のである。
［従来の技術］
従来のカラー表示装置のカラーフィルター間隙の遮光膜
の製造方法として、透明電極上に無電解メツキで形成し
たＮｉ膜や、カラーフィルターをフォトマスクとして利
用した背面露光法が考案されている。その−例を第４．
５図に示す。
の製造方法として、透明電極上に無電解メツキで形成し
たＮｉ膜や、カラーフィルターをフォトマスクとして利
用した背面露光法が考案されている。その−例を第４．
５図に示す。
第４図はＮｉ膜をフォトマスクとして利用した遮光膜の
製造方法である。パターニングされた透明電極２上に無
電解メツキによりＮ１膜３を析出させる（（ｂ））。つ
いで感光性の黒色樹脂または被染色性樹脂４を塗布する
（（Ｃ） ’）。ついで透明基板１の背面より露光する
（（ｄ） ）。ついで現像を行い、露光されなかったＮ
ｉｌ’ｌ上の感光性樹脂を除去する（（６））。ついで
Ｎｉのみをエツチングする（（ｆ））。
製造方法である。パターニングされた透明電極２上に無
電解メツキによりＮ１膜３を析出させる（（ｂ））。つ
いで感光性の黒色樹脂または被染色性樹脂４を塗布する
（（Ｃ） ’）。ついで透明基板１の背面より露光する
（（ｄ） ）。ついで現像を行い、露光されなかったＮ
ｉｌ’ｌ上の感光性樹脂を除去する（（６））。ついで
Ｎｉのみをエツチングする（（ｆ））。
第５図はカラーフィルターをフォトマスクとして利用し
た遮光膜の製造方法である。印刷法、染色決、電着法等
で透明基板１−１−にカラーフィルター６を形成する（
（ａ））。ついで感光性の黒色樹脂または被染色性樹脂
４を塗布する（（ｂ） ）。
た遮光膜の製造方法である。印刷法、染色決、電着法等
で透明基板１−１−にカラーフィルター６を形成する（
（ａ））。ついで感光性の黒色樹脂または被染色性樹脂
４を塗布する（（ｂ） ）。
ついで基板１の背面より露光する（（Ｃ））。ついで現
像を行い、露光されなかったカラーフィルター上の感光
性樹脂を除去する（（ｄ））。
像を行い、露光されなかったカラーフィルター上の感光
性樹脂を除去する（（ｄ））。
上記方法によれば、遮光膜のためのフォトマスクが不要
であるのはもちろんのこと、さらにフォトマスクと基板
とのアライメント工程を除去でき、また極めて高精度の
遮光膜を形成できるため、従来の製造方法上り筒便な製
造工程で、高品質なカラー表示装置を、高歩留りで製造
することが可能である。
であるのはもちろんのこと、さらにフォトマスクと基板
とのアライメント工程を除去でき、また極めて高精度の
遮光膜を形成できるため、従来の製造方法上り筒便な製
造工程で、高品質なカラー表示装置を、高歩留りで製造
することが可能である。
［発明が解決しようとする課題］
しかし背面からの露光は、感光性樹脂の光による重合が
基板側から開始するため、現像後の膜厚は露光量に比例
する。従って平行光を使っても、′ｉ！ｉ、仮による光
の散乱やカラーフィルターからの光の回り込み等により
露光量にバラツキができ、その結果感光性樹脂ずなわら
遮光膜の膜厚バラツキが生じる。このことは、歩留りの
低下だりでなく、表示品質低下の原因となる。
基板側から開始するため、現像後の膜厚は露光量に比例
する。従って平行光を使っても、′ｉ！ｉ、仮による光
の散乱やカラーフィルターからの光の回り込み等により
露光量にバラツキができ、その結果感光性樹脂ずなわら
遮光膜の膜厚バラツキが生じる。このことは、歩留りの
低下だりでなく、表示品質低下の原因となる。
［課題を解決するだめの手段］
上記問題点を解決するため、基板背面からの露光工程の
前または後に基板表面からの赤外線照射工程を加えた。
前または後に基板表面からの赤外線照射工程を加えた。
［作用］
基板表面からの赤外線照射により感光性樹脂表面が硬化
するため、その膜厚は感光性樹脂を基板に塗布した時の
状態に保たれる。すなわち露光量には依存ゼす、均一な
膜厚の遮光膜が得られる。
するため、その膜厚は感光性樹脂を基板に塗布した時の
状態に保たれる。すなわち露光量には依存ゼす、均一な
膜厚の遮光膜が得られる。
なおりラーフィルターやＮｉ膜上の感光性樹脂にも赤外
線照射が行われることになるが、この部分は背面からの
露光を受けていないため表面のほんの一部が硬化しただ
ｉＪであり、従っていわゆるリフトオフと同様に現像時
に剥離されてしまう。
線照射が行われることになるが、この部分は背面からの
露光を受けていないため表面のほんの一部が硬化しただ
ｉＪであり、従っていわゆるリフトオフと同様に現像時
に剥離されてしまう。
以下実施例により、本発明を詳説する。
［実施例１］
第１図をもとに説明する。
■ 透明基板１上にＩＴＯ２を蒸着し、表示バタんにエ
ツチングを行う（ａ）。
ツチングを行う（ａ）。
■ 無電解メツキによりＩＴＯ２ＦにＮｉ膜３を析出さ
せる（ｂ）。
せる（ｂ）。
■ 」−記基板に、フタロシアニン系顔料とアントラギ
ノン系顔料を分散させて黒色にしたネガ型感光性樹脂を
スピンコーターにより塗布し、８０℃、１０分ヘ−キン
グする（ｃ）。
ノン系顔料を分散させて黒色にしたネガ型感光性樹脂を
スピンコーターにより塗布し、８０℃、１０分ヘ−キン
グする（ｃ）。
■ 」二記基板を基板背面より露光する（ｄ）。
■ 」二記基板を基板表面より表面温度が瞬間的に２０
０°Ｃになるように赤外線照射する（ｅ）■ 上記基板
を現像液に浸漬し、未感光部すなわちＮ１膜上の感光性
樹脂を除去し、２００℃６０分ヘ−キングする（ｆ）。
０°Ｃになるように赤外線照射する（ｅ）■ 上記基板
を現像液に浸漬し、未感光部すなわちＮ１膜上の感光性
樹脂を除去し、２００℃６０分ヘ−キングする（ｆ）。
■ 上記基板を４０χＨＮＯ３’４弓こ浸漬し、Ｎ＋を
エツチングする（ｇ）。
エツチングする（ｇ）。
■ 電着法によりＩＴＯ上にカラーフィルター６を形成
する（ｈ）。
する（ｈ）。
以上の工程で得られたカラーフィルター基板の遮光膜は
、膜厚バラツキが０．１μｍ以下であった。このカラー
フィルター基板を用いて、第３図のごとく液晶表示装置
を作製したところ、高品質の表示装置を高い歩留りで製
造することが出来た。
、膜厚バラツキが０．１μｍ以下であった。このカラー
フィルター基板を用いて、第３図のごとく液晶表示装置
を作製したところ、高品質の表示装置を高い歩留りで製
造することが出来た。
なお、」１記工程の■と■は順番を逆にしても同様な効
果が得られた。
果が得られた。
［実施例２］
実施例１の製造工程において、感光性樹脂として被染色
性樹脂であるゼラチンを使用し、Ｎｉエツチング後に黒
色染料で染色して液晶表示装置を作製したところ、実施
例１と同様の効果が得られた。
性樹脂であるゼラチンを使用し、Ｎｉエツチング後に黒
色染料で染色して液晶表示装置を作製したところ、実施
例１と同様の効果が得られた。
［実施例３］
第２図をもとに説明する。
■ 染色法で透明基板１上にカラーフィルター６を形成
する（ａ）。
する（ａ）。
■ 上記基板に、感光性の黒色樹脂または被染色性樹脂
４をスピンコーク−により塗布し、ヘーキングする（Ｃ
）。
４をスピンコーク−により塗布し、ヘーキングする（Ｃ
）。
■ 上記基板を基板背面より露光する（ｄ）。
■ ト記基板を基板表面より表面温度が瞬間的に２００
°Ｃになるように赤外線照射する（ｅ）■ 上記基板を
現像液に浸漬し、未感光部すなわちカラーフィルター」
二の感光性樹脂を除去し、２００℃６０分ヘ−キングす
る（ｅ）。
°Ｃになるように赤外線照射する（ｅ）■ 上記基板を
現像液に浸漬し、未感光部すなわちカラーフィルター」
二の感光性樹脂を除去し、２００℃６０分ヘ−キングす
る（ｅ）。
以」二の工程で得られたカラーフィルター基板を用いて
、実施例１と同様に液晶表示装置を作製した。その結果
、高品質の表示装置を高い歩留りで製造することが出来
た。
、実施例１と同様に液晶表示装置を作製した。その結果
、高品質の表示装置を高い歩留りで製造することが出来
た。
［発明の効果］
以上詳説したごとく、本発明は、カラーフィルターとそ
の間隙に遮光膜を有するカラー表示装置の製造方法にお
いて、該遮光膜の製造工程に基板背面からの露光工程と
基板表面からの赤外線照射工程を組み合わセることによ
り遮光膜の膜厚を均一化し、従来より高歩留り、且つ高
品質のカラー表示装置の製造方法を提供するものである
。
の間隙に遮光膜を有するカラー表示装置の製造方法にお
いて、該遮光膜の製造工程に基板背面からの露光工程と
基板表面からの赤外線照射工程を組み合わセることによ
り遮光膜の膜厚を均一化し、従来より高歩留り、且つ高
品質のカラー表示装置の製造方法を提供するものである
。
るカラー表示装置の一実施例の断面模式図、第４図（ａ
＋〜（「）及び第５図（ａｌ〜（ｄｉは従来の遮光膜製
造方法の模式１程図を示すものである。
＋〜（「）及び第５図（ａｌ〜（ｄｉは従来の遮光膜製
造方法の模式１程図を示すものである。
１・・・・・ガラス基板
２・・・・・透明電極
３・・・・・Ｎｉ膜
４・・・・・透明電極
５・・・・・遮光膜
６・・・・・カラーフィルター
７・・・・・偏光板
８・・・・・液晶
以上
Claims (1)
- カラーフィルターとその間隙に遮光膜を有するカラー表
示装置の製造方法において、該遮光膜の製造工程に基板
背面からの露光工程と基板表面からの赤外線照射工程を
含むことを特徴とするカラー表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2051133A JPH03252623A (ja) | 1990-03-01 | 1990-03-01 | カラー表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2051133A JPH03252623A (ja) | 1990-03-01 | 1990-03-01 | カラー表示装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03252623A true JPH03252623A (ja) | 1991-11-11 |
Family
ID=12878320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2051133A Pending JPH03252623A (ja) | 1990-03-01 | 1990-03-01 | カラー表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03252623A (ja) |
-
1990
- 1990-03-01 JP JP2051133A patent/JPH03252623A/ja active Pending
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