JPH03251395A - 孔明け用金型の製造方法 - Google Patents
孔明け用金型の製造方法Info
- Publication number
- JPH03251395A JPH03251395A JP4825990A JP4825990A JPH03251395A JP H03251395 A JPH03251395 A JP H03251395A JP 4825990 A JP4825990 A JP 4825990A JP 4825990 A JP4825990 A JP 4825990A JP H03251395 A JPH03251395 A JP H03251395A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mold
- etching
- mask
- photoresist layer
- convex
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 238000005553 drilling Methods 0.000 title description 7
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 13
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 2
- 229910001315 Tool steel Inorganic materials 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Perforating, Stamping-Out Or Severing By Means Other Than Cutting (AREA)
- Mounting, Exchange, And Manufacturing Of Dies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は孔明は用金型の製造方法に係り、特にプリント
配線板などに小径(直径巾な)孔を穿設するのに適する
孔明は用金型の製造方法に関する。
配線板などに小径(直径巾な)孔を穿設するのに適する
孔明は用金型の製造方法に関する。
(従来の技術)
たとえば、プリント配線板においては、周知のように回
路パターン層間の電気的な接続や電子部品のリードの挿
入接続などのため、いわゆるスルホールなどの孔明は加
工が行われている。すなわち、積層加圧によるプリント
配線板の成形に先立って素材の所定位置に、またはプリ
ント配線板の成形後所定位置にドリル加工もしくは金型
加工によって、所要の孔明けを行っている。
路パターン層間の電気的な接続や電子部品のリードの挿
入接続などのため、いわゆるスルホールなどの孔明は加
工が行われている。すなわち、積層加圧によるプリント
配線板の成形に先立って素材の所定位置に、またはプリ
ント配線板の成形後所定位置にドリル加工もしくは金型
加工によって、所要の孔明けを行っている。
しかして、前記孔明は加工は、所要のスルホール数に応
じ繰り返してドリル加工などを施すことによって行って
いる。また、前記スルホールの径(設計値)に対応して
それぞれ所要のドリルなどに交換して、所望の孔明けを
している。
じ繰り返してドリル加工などを施すことによって行って
いる。また、前記スルホールの径(設計値)に対応して
それぞれ所要のドリルなどに交換して、所望の孔明けを
している。
(発明か解決しようとする課題)
しかし、上記ドリルや金型による孔明は加工には、実用
上次のような不都合がある。すなわぢ穿設するスルホー
ルなどの径が0 、2mm以上の場合には、特に問題も
ないが、スルホール径が0.21より小径になると、ア
スベスト比の高い所要のスルホールを穿設することか困
難となる。つまり、スルホール径が小径になるに伴い低
下し易いアスベスト比を高く維持するには、前記加工具
としてのドリルや金型について、高い精度とともに比較
的頻繁な交換を要し、著しいコストアップを招来する。
上次のような不都合がある。すなわぢ穿設するスルホー
ルなどの径が0 、2mm以上の場合には、特に問題も
ないが、スルホール径が0.21より小径になると、ア
スベスト比の高い所要のスルホールを穿設することか困
難となる。つまり、スルホール径が小径になるに伴い低
下し易いアスベスト比を高く維持するには、前記加工具
としてのドリルや金型について、高い精度とともに比較
的頻繁な交換を要し、著しいコストアップを招来する。
しかも、プリント配線板について、配線の高密度化と小
径のスルホールによる接続などの増大化、さらにはスル
ホール径がますます小径化されつつある現状においては
、前記孔明は加工における問題は由々しいことといえる
。
径のスルホールによる接続などの増大化、さらにはスル
ホール径がますます小径化されつつある現状においては
、前記孔明は加工における問題は由々しいことといえる
。
本発明は上記事情に対処してなされたもので、プリント
配線板に小径なスルホールなどの穿設に適する孔明は用
金型が容易にえられる孔明は用金型の製造方法の提供を
目的とする。
配線板に小径なスルホールなどの穿設に適する孔明は用
金型が容易にえられる孔明は用金型の製造方法の提供を
目的とする。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明は、金属板の所定面にフォトレジスト層を被着形
成する工程、 前記フォトレジスト層に選択的な露光を施した後、現像
処理を施して所要のマスクを形成する工程および 前記マスクを形成した金属板にエツチング処理を施して
露出部選択的にエツチング除去する工程により、 径小の凸設領域を有する凸型と前記径小の凸設領域に噛
合する径小の凹設領域を有する凹型とをそれぞれ製作す
ることを特徴とする。
成する工程、 前記フォトレジスト層に選択的な露光を施した後、現像
処理を施して所要のマスクを形成する工程および 前記マスクを形成した金属板にエツチング処理を施して
露出部選択的にエツチング除去する工程により、 径小の凸設領域を有する凸型と前記径小の凸設領域に噛
合する径小の凹設領域を有する凹型とをそれぞれ製作す
ることを特徴とする。
(作 用)
本発明によれば、いわゆるフォトエツチングにより、凸
型およびこれに噛合する凹型がら成る一対の金型が形成
される。しかして、上記凸型の凸設領域および前記凸設
領域に噛合する凹型の凹設領域は、同時に複数対しかも
比較的微細な構造ないし形状に精度よく形成される。つ
まり、所要の径小なかっ、異径の高精度なスルホールを
同時に複数個穿設・形成し得る孔明は用金型が容易に得
られる。
型およびこれに噛合する凹型がら成る一対の金型が形成
される。しかして、上記凸型の凸設領域および前記凸設
領域に噛合する凹型の凹設領域は、同時に複数対しかも
比較的微細な構造ないし形状に精度よく形成される。つ
まり、所要の径小なかっ、異径の高精度なスルホールを
同時に複数個穿設・形成し得る孔明は用金型が容易に得
られる。
(実施例)
以下第1図(a)ないしくe)および第2図を参照して
本発明の詳細な説明する。
本発明の詳細な説明する。
第1図(a) 、(b) 、(c) 、 (d)および
(e)はそれぞれ本発明に係る孔明は用金型の各製造工
程における態様を説明するための模式図である。
(e)はそれぞれ本発明に係る孔明は用金型の各製造工
程における態様を説明するための模式図である。
先ず、厚さ1Qnv程度の、lIS G 4404規定
のSKS 42(工具鋼)板を用意し、この工具鋼板1
の所定面に厚さ 2〜5μm程度のネガ型フォトレジス
ト層2を被着形成した。また前記工具鋼板1の他の面に
はポリイミド樹脂テープ3を貼合せた(第1図a)。
のSKS 42(工具鋼)板を用意し、この工具鋼板1
の所定面に厚さ 2〜5μm程度のネガ型フォトレジス
ト層2を被着形成した。また前記工具鋼板1の他の面に
はポリイミド樹脂テープ3を貼合せた(第1図a)。
次いで、上記ネガ型フォトレジスト層2を被着形成した
面に、所要のマスク4を介して紫外線5を照射し、選択
的な露光処理を行った(第1図b)後、エツチング液に
浸漬して露出している部分を選択的にエツチング除去し
、深さ1m1ll s直径 0.15mmの凹設領域6
aを有する凹型の金型6とした(第1図C)。その後、
アセトンを用いてマスクを成していたネガ型フォトレジ
スト層2を除去し、約850℃で焼入れを行い強靭性を
備えた所望の凹型金型6を得た(第1図d)。
面に、所要のマスク4を介して紫外線5を照射し、選択
的な露光処理を行った(第1図b)後、エツチング液に
浸漬して露出している部分を選択的にエツチング除去し
、深さ1m1ll s直径 0.15mmの凹設領域6
aを有する凹型の金型6とした(第1図C)。その後、
アセトンを用いてマスクを成していたネガ型フォトレジ
スト層2を除去し、約850℃で焼入れを行い強靭性を
備えた所望の凹型金型6を得た(第1図d)。
一方、上記に準じて厚さIQmm程度のJIS G 4
404規定のSKS 42 (工具鋼)板を用意し、こ
の工具鋼板1の所定面に厚さ 2〜5μm程度のネガ型
フォトレジスト層2を被着形成した。また前記工具鋼板
1の他の面にはポリイミド樹脂テープ3を貼合せた(第
1図a)。
404規定のSKS 42 (工具鋼)板を用意し、こ
の工具鋼板1の所定面に厚さ 2〜5μm程度のネガ型
フォトレジスト層2を被着形成した。また前記工具鋼板
1の他の面にはポリイミド樹脂テープ3を貼合せた(第
1図a)。
次いで、上記ネガ型フォトレジスト層2を被着形成した
面に、前記のマスク4とは逆パターンのマスクを介して
紫外線を照射し、選択的な露光処理を行った後、エツチ
ング液に浸漬して露出している部分を選択的にエツチン
グ除去し、高さ 0.8■、直径0.1mmの凸設領域
7aを有する凸型の金型7とした後、アセトンを用いて
マスクを成していたネガ型フォトレジスト層2を除去し
てがら、約850℃で焼入れを行い強靭性を備えた所望
の凸型金型7を得た。
面に、前記のマスク4とは逆パターンのマスクを介して
紫外線を照射し、選択的な露光処理を行った後、エツチ
ング液に浸漬して露出している部分を選択的にエツチン
グ除去し、高さ 0.8■、直径0.1mmの凸設領域
7aを有する凸型の金型7とした後、アセトンを用いて
マスクを成していたネガ型フォトレジスト層2を除去し
てがら、約850℃で焼入れを行い強靭性を備えた所望
の凸型金型7を得た。
上記によってそれぞれ製作した、凹型金型6の凹設領域
6aと凸型金型7の凸設領域7aとは互いに噛合(係合
)する構成を成し2ている(第1図e)。
6aと凸型金型7の凸設領域7aとは互いに噛合(係合
)する構成を成し2ている(第1図e)。
上記孔明は用金型は、凹型金型6と凸型金型7とに分け
ておいて、たとえばパンチプレス機に装着し、所要の孔
明けに適用してもよいが、たとえば第2図に側面的に示
すごとく、凹型金型6および凸型金型7の各四隅に摺動
iiJ能に支持棒8を挿a L、その支持棒8にコイル
バネ9を巻装しておき、弾発に抗して前記凹型金型6の
凹設領域6aと凸型金型7の凸設領域7aとか噛合うよ
うに構成し2て所要の孔明けに供してもよい。
ておいて、たとえばパンチプレス機に装着し、所要の孔
明けに適用してもよいが、たとえば第2図に側面的に示
すごとく、凹型金型6および凸型金型7の各四隅に摺動
iiJ能に支持棒8を挿a L、その支持棒8にコイル
バネ9を巻装しておき、弾発に抗して前記凹型金型6の
凹設領域6aと凸型金型7の凸設領域7aとか噛合うよ
うに構成し2て所要の孔明けに供してもよい。
なお、上記パンチプレス機に装着または第2図に図示す
るように構成したいずれの場合も、厚さ0.3mmの樹
脂フィルムなどに直径0.1mm 〜0.5mmのスル
ホールを穿設し得た。
るように構成したいずれの場合も、厚さ0.3mmの樹
脂フィルムなどに直径0.1mm 〜0.5mmのスル
ホールを穿設し得た。
[発明の効果]
上記説明から分るように、本発明によれば、複数の凸設
領域を有する凸型金型および前記凸設領域に噛合する複
数の凹設領域を有する凹型金型を容易に製造し得る。し
かも、前記凸設領域およびこれと噛合する凹設領域は比
較的微細な構造ないし形状に精度よく形成し得る。つま
り、所要の直径巾なかつ、直径が互いに異なる場合でも
高精度なスルホールを同時に複数個穿設・形成し得る孔
明は用金型が容易に得ることができる。
領域を有する凸型金型および前記凸設領域に噛合する複
数の凹設領域を有する凹型金型を容易に製造し得る。し
かも、前記凸設領域およびこれと噛合する凹設領域は比
較的微細な構造ないし形状に精度よく形成し得る。つま
り、所要の直径巾なかつ、直径が互いに異なる場合でも
高精度なスルホールを同時に複数個穿設・形成し得る孔
明は用金型が容易に得ることができる。
第1図(a) 、 (、b) 、(e) 、 (d)お
よび(e)は本発明に係る孔明は用金型の製造方法の実
施態様例を説明するための模式図、第2図は本発明に係
る孔明は用金型の製造方法で製作した孔明は用金型の使
用例を示す側面図である。 1・・・・・・工具鋼板 2・・・・・フすトレジスト層 3・・・・・・ポリイミド樹脂フィルム4・・・・・・
マスク 5・・・紫外線(露光用) 6・・・凹型金型 6a・・・・・・凹設領域 7・・・・・凸型金型 7a・・・・・凸設領域 8・・・・・・支持棒 9・・・・・・コイルバネ
よび(e)は本発明に係る孔明は用金型の製造方法の実
施態様例を説明するための模式図、第2図は本発明に係
る孔明は用金型の製造方法で製作した孔明は用金型の使
用例を示す側面図である。 1・・・・・・工具鋼板 2・・・・・フすトレジスト層 3・・・・・・ポリイミド樹脂フィルム4・・・・・・
マスク 5・・・紫外線(露光用) 6・・・凹型金型 6a・・・・・・凹設領域 7・・・・・凸型金型 7a・・・・・凸設領域 8・・・・・・支持棒 9・・・・・・コイルバネ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 金属板の所定面にフォトレジスト層を被着形成する工
程、 前記フォトレジスト層に選択的な露光を施した後、現像
処理を施して所要のマスクを形成する工程および 前記マスクを形成した金属板にエッチング処理を施して
露出部選択的にエッチング除去する工程により、 径小の凸設領域を有する凸型の金型と前記径小の凸設領
域に噛合する径小の凹設領域を有する凹型の金型とをそ
れぞれ製作することを特徴とする孔明け用金型の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4825990A JPH03251395A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | 孔明け用金型の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4825990A JPH03251395A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | 孔明け用金型の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03251395A true JPH03251395A (ja) | 1991-11-08 |
Family
ID=12798446
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4825990A Pending JPH03251395A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | 孔明け用金型の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03251395A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7309447B2 (en) * | 2003-02-03 | 2007-12-18 | Tessera, Inc. | Method for making a microelectronic package using pre-patterned, reusable mold and method for making the mold |
KR100819874B1 (ko) * | 2006-08-31 | 2008-04-07 | 삼성전기주식회사 | 스템퍼 및 이를 이용한 인쇄회로기판 제조방법 |
KR100862006B1 (ko) * | 2007-06-19 | 2008-10-07 | 삼성전기주식회사 | 임프린팅용 필터 및 이를 이용한 임프린팅 방법 |
-
1990
- 1990-02-28 JP JP4825990A patent/JPH03251395A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7309447B2 (en) * | 2003-02-03 | 2007-12-18 | Tessera, Inc. | Method for making a microelectronic package using pre-patterned, reusable mold and method for making the mold |
KR100819874B1 (ko) * | 2006-08-31 | 2008-04-07 | 삼성전기주식회사 | 스템퍼 및 이를 이용한 인쇄회로기판 제조방법 |
KR100862006B1 (ko) * | 2007-06-19 | 2008-10-07 | 삼성전기주식회사 | 임프린팅용 필터 및 이를 이용한 임프린팅 방법 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7454832B2 (en) | Method of forming metal plate pattern and circuit board | |
US20070017090A1 (en) | Method of forming metal plate pattern and circuit board | |
CN101135841A (zh) | 制造宽压模的方法 | |
JPH03251395A (ja) | 孔明け用金型の製造方法 | |
KR100815361B1 (ko) | 인쇄회로기판의 제조방법 | |
US5595858A (en) | Manufacturing method for double-sided wiring board | |
DE102020111895A1 (de) | Herstellung von dreidimensionalen Strukturen mittels Photoresisten | |
JP4817009B2 (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
KR20110110664A (ko) | 양면 인쇄회로기판의 제조방법 | |
JPH08107263A (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
JPH04286389A (ja) | 回路基板の製造方法 | |
TWI442857B (zh) | 一種埋入式線路結構及其形成方法 | |
EP1360881A1 (de) | Verfahren zur herstellung von verdrahtungen mit groben leiterstrukturen und mindestens einem bereich mit feinen leiterstrukturen | |
JPH1130851A (ja) | フォトマスク用フィルム並びにフォトマスク及びその製造方法 | |
JPH04166844A (ja) | スクリーン印刷用メタルマスクの製造方法 | |
JPH06244529A (ja) | プリント配線基板の製造方法 | |
US6251565B1 (en) | Method of making molds for manufacturing multiple-lead microstructures | |
JPH04130791A (ja) | プリント回路板の製造方法 | |
JPH03255693A (ja) | 印刷配線板の製造方法 | |
JP2004091909A (ja) | レーザ加工機用マスク等に用いる精密な貫通部パターンを含む銅製プレートの電鋳方法 | |
JP2021163893A (ja) | 回路配線基板および配線パターン形成方法 | |
CN117858351A (zh) | 线路板及其制作方法 | |
JPS63310195A (ja) | プリント配線基板の製造方法 | |
TW202408330A (zh) | 加成法細線路電路板製造方法 | |
JPH04334084A (ja) | 配線基板の製造方法 |