JPH03246913A - 軟磁性薄膜の形成方法 - Google Patents

軟磁性薄膜の形成方法

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JPH03246913A
JPH03246913A JP4480290A JP4480290A JPH03246913A JP H03246913 A JPH03246913 A JP H03246913A JP 4480290 A JP4480290 A JP 4480290A JP 4480290 A JP4480290 A JP 4480290A JP H03246913 A JPH03246913 A JP H03246913A
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JP
Japan
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soft magnetic
substrate
film
nitrogen
thin soft
Prior art date
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Pending
Application number
JP4480290A
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English (en)
Inventor
Masashi Fujinaga
政志 藤長
Takashi Ebisawa
孝 海老沢
Takaharu Yonemoto
米本 隆治
Junzo Takahashi
高橋 純三
Hideaki Murata
秀明 村田
Tsugio Miyagawa
宮川 亜夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LIMES KK
Original Assignee
LIMES KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、鉄系の軟磁性薄膜の形成方法に関する。
[従来の技術及び課題] 磁気記録の高密度化に伴い、ヘッドに使用される軟磁性
薄膜の重要性が高まっている。また、磁性薄膜を磁心に
用いた薄膜磁性素子が提案されており、使用する薄膜の
特性が重視されている。これらの軟磁性薄膜の応用にお
いて、飽和磁束密度は極めて重要な特性である。即ち、
高飽和磁束密度化は磁気記録のヘッド材料において記録
密度を高めることができ、薄膜磁気素子においては小型
化を図ることができる。
ところで、前述した軟磁性薄膜としては従来よりパーマ
ロイ、ゼンダスト、Co系非晶質合金等が知られている
。しかしながら、これらの軟磁性薄膜の飽和磁束密度は
高々ITであり、磁気記録のヘッドに使用した場合、記
録密度に制約があり、薄膜磁気素子に使用した場合、小
型化が制約されるという欠点があった。また、前記ゼン
ダスト、Co系非晶質合金は透磁率の周波数特性が優れ
ているものの、成膜後に焼鈍を行う必要があり、製造工
程が繁雑となり、応用分野が制限されるという問題があ
った。
このような欠点を解消するために特開昭64−1590
7号公報には、Feを主体とし、Fe4N及び/又はF
e、Nからなる窒化鉄を含有し、前記窒化鉄の含有量を
2.1〜9.7モル%とした軟磁性薄膜が提案されてい
る。しかしながら、かかる軟磁性薄膜にあっては保持力
が前記パーマロイ、ゼンダスト、Co系非晶質合金と比
較して高く、しかも飽和磁束密度も 1.5T程度と十
分に改善されてない。
本発明は、上記従来の課題を解決するためになされたも
ので、大きな飽和磁束密度、低保磁力、優れた周波数特
性を有する軟磁性薄膜を簡単な工程により形成し得る方
法を提供しようとするものである。
[課題を解決するための手段] 本発明は、基板上にFeを窒素とArの混合雰囲気中で
スパッタ蒸着して軟磁性薄膜を形成する方法において、
成膜速度R(ns/s )と窒素分圧PN(Pa)を 25≦R/PN≦170、R≧1 とし、かつ前記基板温度Ts(K)を 350≦Ts≦ 600 としてスパッタ蒸着を行うことを特徴とする軟磁性薄膜
の形成方法である。
上記基板としては、ガラス基板、各種の金属基板、或い
はポリイミド等の耐熱性プラスチック基板等を用いるこ
とができる。
上記成膜速度Rと窒素分圧PNの比(R/PN)を限定
した理由は、その比を25未満にすると飽和磁化の向上
と保磁力の低減を達成できず、一方その比が170を越
えると保磁力が上昇するからである。また、Rを1未満
にすると保磁力が上昇する。
上記基板温度Tsを限定した理由は、350〜600に
の範囲を逸脱すると保磁力が上昇するからである。
上記スパッタ蒸着法としては、各種の方法を採用し得る
が、低作動圧力と高速成膜が可能なマグネトロンスパッ
タ法が望ましい。
[作 用] 本発明によれば、基板上にFeを窒素とArの混合雰囲
気中でスパッタ蒸着して軟磁性薄膜を形成する方法にお
いて、成膜速度R(nm/s )及び該Rと窒素分圧P
H(Pa)の比(R/PN)、並びに基板温度Tsを規
定してスパッタ蒸着を行うことによって、該基板上にα
−FeとγFe4Nの2相からなる多結晶体で、γFe
4Nのモル比が5〜50%で、かつα−Feが(110
)面に、7−−Fe4Nが(100)面に強く配向した
組織の軟磁性薄膜を形成できる。かかる組織の軟磁性薄
膜は、保磁力が30e以下、飽和磁束密度が1.8T以
上でlk Hz 〜10MHz程度まで均一な透磁率を
示し、良好な軟磁性と高い飽和磁束密度と優れた周波数
特性を有する。
このように本発明方法により形成された軟磁性薄膜が優
れた磁気特性を有する理由については明らかではないが
、α−Feとγ−−Fe4Nの2相間の配向関係に起因
するものと推定される。
[実施例コ 以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
実施例1〜6及び比較例1〜IO 基板として厚さ 0.5mmのコーニング社製のガラス
基板を、ターゲットとして直径101.6mm s純度
3NのFeを用い、DCマグネトロンスパッタ法により
基板温度を437Kに一定にし、窒素分圧及び成膜速度
を下記第1表に示す条件に設定して前記基板上に厚さ 
500nmの16種の軟磁性薄膜を形成した。
得られた実施例1〜6及び比較例1〜lOの各軟磁性薄
膜について、保磁力(Oe)及び飽和磁束密度(T)を
測定した。その結果を同第1表に併記する。
実施例7〜12及び比較例11〜19 基板として厚さ 0.5mmのコーニング社製のガラス
基板を、ターゲットとして直径101.6++v 、純
度3NのFeを用い、DCマグネトロンスパッタ法によ
り基板温度、窒素分圧及び成膜速度を下記第2表に示す
条件に設定して前記基板上に厚さ 500nrAの15
種の軟磁性薄膜を形成した。
得られた実施例7〜12及び比較例11〜19の各軟磁
性薄膜について、保磁力(Oe)及び飽和磁束密度(T
)を測定した。その結果を同第2表に併記する。
上記第1表及び第2表から明らかなように成膜速度R(
n+m/s )と窒素分圧P、、(Pa)を25≦R/
 P N≦ 170、R≧1とし、かつ基板温度Ts(
K)を350≦Ts≦ 600としてスパッタ蒸着を行
うにより基板上に形成された本実施例1〜12の軟磁性
薄膜は、比較例1〜19で形成された軟磁性薄膜に比べ
て保磁力が低く (30e以下)、かつ高い飽和磁束密
度(1,8T以上)を有することがわかる。
また、各実施例1〜12中のうち例えば実施例3で形成
された軟磁性薄膜の周波数に対する透磁率の変化を第1
図に示す。この第1図から明らかなように本実施例3の
軟磁性薄膜は1kHzからIQM Hz間で均一な透磁
率を示すことかわかる。
なお、実施例3以外の実施例においても第1図とほぼ同
様な優れた周波数特性を示した。
[発明の効果〕 以上詳述した如く、本発明によれば大きな飽和磁束密度
、低保磁力、優れた周波数特性を有し、高密度化磁気記
録のヘッド材料等に好適な軟磁性薄膜を簡単な工程によ
り形成し得る方法を提供できる。
4、
【図面の簡単な説明】
第 1図は、 実施例3により形成された軟磁性薄 膜の周波数に対する透磁率の変化を示す特性図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  基板上にFeを窒素とArの混合雰囲気中でスパッタ
    蒸着して軟磁性薄膜を形成する方法において、成膜速度
    R(nm/s)と窒素分圧P_N(Pa)を 25≦R/P_N≦170、R≧1 とし、かつ前記基板温度Ts(K)を 350≦Ts≦600 としてスパッタ蒸着を行うことを特徴とする軟磁性薄膜
    の形成方法。
JP4480290A 1990-02-26 1990-02-26 軟磁性薄膜の形成方法 Pending JPH03246913A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110123727A1 (en) * 2004-12-28 2011-05-26 General Electric Company Magnetic laminated structure and method of making

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110123727A1 (en) * 2004-12-28 2011-05-26 General Electric Company Magnetic laminated structure and method of making
US8323728B2 (en) * 2004-12-28 2012-12-04 General Electric Company Magnetic laminated structure and method of making

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