JPH03245891A - 超純水製造装置用ポリッシャー - Google Patents
超純水製造装置用ポリッシャーInfo
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- JPH03245891A JPH03245891A JP4360590A JP4360590A JPH03245891A JP H03245891 A JPH03245891 A JP H03245891A JP 4360590 A JP4360590 A JP 4360590A JP 4360590 A JP4360590 A JP 4360590A JP H03245891 A JPH03245891 A JP H03245891A
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- Japan
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- polisher
- way valve
- piping
- ultrapure water
- chemicals
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Landscapes
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、超純水製造装置の一部として設置されるポリ
ッシャーに係り、特に超純水製造システム内の配管及び
機器内に生育した細菌を薬品で殺菌する際に、薬品が非
再生型のイオン交換装置に流入しないようにバイパスし
て殺菌を行った後、通水を開始したとき、配管に残留す
る薬品が混入してイオン交換樹脂を劣化させないように
薬品の残留を防止することのできるポリッシャーに関す
る。
ッシャーに係り、特に超純水製造システム内の配管及び
機器内に生育した細菌を薬品で殺菌する際に、薬品が非
再生型のイオン交換装置に流入しないようにバイパスし
て殺菌を行った後、通水を開始したとき、配管に残留す
る薬品が混入してイオン交換樹脂を劣化させないように
薬品の残留を防止することのできるポリッシャーに関す
る。
超純水製造システムは、一般に、−次純水システムと超
純水システムから構成され、イオン成分や有機物、細菌
を含む微粒子などを極めて低濃度まで処理するもので、
半導体の洗浄水として使用される。そのため、超純水製
造システムには各種の単位操作が組み込まれている。
純水システムから構成され、イオン成分や有機物、細菌
を含む微粒子などを極めて低濃度まで処理するもので、
半導体の洗浄水として使用される。そのため、超純水製
造システムには各種の単位操作が組み込まれている。
ところで、細菌はデバイスの洗浄時にウェハーに付着し
易く、菌体内に含有される金属成分や有機物が悪影響を
及ぼし、デバイス特性を低下させる原因の一つである。
易く、菌体内に含有される金属成分や有機物が悪影響を
及ぼし、デバイス特性を低下させる原因の一つである。
細菌に含まれる有機物は極低濃度であるが、細菌は配管
や機器内で増殖し、配管や機器の内壁に付着・増殖する
ため、定期的に超純水システム内の殺菌が必要となる。
や機器内で増殖し、配管や機器の内壁に付着・増殖する
ため、定期的に超純水システム内の殺菌が必要となる。
殺菌の方法としては、従来から0.5〜1.5%の過酸
化水素水を用いる薬品殺菌が一般的に行われる。超純水
製造システム内には、イオン成分の仕上げ処理を行うた
め、非再生型のイオン交換装置が配置されており、この
中にはカチオン及びアニン交換樹脂を混合したイオン交
換樹脂が充填されている。このイオン交換樹脂は、酸化
性物質が流入すると、酸化を受け、樹脂が劣化し、溶出
やイオン交換性能を著しく低下させる。従って、薬品殺
菌を行う際に過酸化水素などの酸化性物質がポリッシャ
ーに流入するのを防止するため、第3図に示すようにポ
リッシャー本体3への流入部及び流出部にストップバル
ブ2A及び2Bを設け、そのストップバルブ2A及び2
Bを閉じて、薬品が三方弁5、バイパス配管4、三方弁
6の経路を通るバイパスを設けていた。
化水素水を用いる薬品殺菌が一般的に行われる。超純水
製造システム内には、イオン成分の仕上げ処理を行うた
め、非再生型のイオン交換装置が配置されており、この
中にはカチオン及びアニン交換樹脂を混合したイオン交
換樹脂が充填されている。このイオン交換樹脂は、酸化
性物質が流入すると、酸化を受け、樹脂が劣化し、溶出
やイオン交換性能を著しく低下させる。従って、薬品殺
菌を行う際に過酸化水素などの酸化性物質がポリッシャ
ーに流入するのを防止するため、第3図に示すようにポ
リッシャー本体3への流入部及び流出部にストップバル
ブ2A及び2Bを設け、そのストップバルブ2A及び2
Bを閉じて、薬品が三方弁5、バイパス配管4、三方弁
6の経路を通るバイパスを設けていた。
しかし、この方法ではメイン配管1から枝分かれしたポ
リッシャー流入管に殺菌用薬品の一部が混入し、薬品殺
菌後に押出し用の純水を通しても完全には押し出されず
、薬品が残留してしまい、この残留薬品が運転開始時に
ポリッシャー本体内に流入して、イオン交換樹脂を劣化
させる。
リッシャー流入管に殺菌用薬品の一部が混入し、薬品殺
菌後に押出し用の純水を通しても完全には押し出されず
、薬品が残留してしまい、この残留薬品が運転開始時に
ポリッシャー本体内に流入して、イオン交換樹脂を劣化
させる。
したがって、本発明は、前記従来技術の欠点を緩衝し、
超純水製造装置において殺菌用薬品が配管内に残留する
ことを防止し、イオン交換樹脂の劣化を有効に防止しう
るボリッシャーを提供することを目的とする。
超純水製造装置において殺菌用薬品が配管内に残留する
ことを防止し、イオン交換樹脂の劣化を有効に防止しう
るボリッシャーを提供することを目的とする。
本発明による超純水製造装置用ポリッシャーは、水が流
入するメイン配管のポリッシャー流入管への分岐部に三
方弁を設けるか又はポリッシャー本体への流入管及びポ
リッシャー本体からの流出管に三方弁を設け、両方の三
方弁の間にバイパス配管を設けたことを特徴とするもの
である。
入するメイン配管のポリッシャー流入管への分岐部に三
方弁を設けるか又はポリッシャー本体への流入管及びポ
リッシャー本体からの流出管に三方弁を設け、両方の三
方弁の間にバイパス配管を設けたことを特徴とするもの
である。
このように、本発明においては、薬品殺菌時の薬品は、
メイン配管から技分かれしたポリッシャーの流入管及び
流出管のバルブまでの間に残留するので、技わかれした
配管部分を滞留部とせず、薬品が流入しないか又は流れ
が生ずるように構成することによって薬品の残留を防止
し、また、押出し用純水を流したとき、十分な洗浄を可
能にすることによってイオン交換樹脂の劣化を防止した
ものである。
メイン配管から技分かれしたポリッシャーの流入管及び
流出管のバルブまでの間に残留するので、技わかれした
配管部分を滞留部とせず、薬品が流入しないか又は流れ
が生ずるように構成することによって薬品の残留を防止
し、また、押出し用純水を流したとき、十分な洗浄を可
能にすることによってイオン交換樹脂の劣化を防止した
ものである。
次に、図面に示した本発明のポリッシャーの実施態様に
基づいて本発明を具体的に説明する。
基づいて本発明を具体的に説明する。
第1図は、本発明の一実施例を示すポリッシャーの系統
図である。第1図に示した実施例では、メイン配管1の
ポリッシャー流入管7への分岐部に三方弁8が設けられ
ている。このポリッシャーでは、殺菌時には技分かれし
た流入管7へ薬品が流入しないように三方弁8を切り換
え、殺菌用薬品は三方弁8、バイパス配管4及び三方弁
6を通って流出する。この実施例では、第2図に示した
実施例に比べて三方弁の数が少なくてすむ。三方弁はか
なり高価なものであるから、第1図に示した実施例は経
済的に好ましい。
図である。第1図に示した実施例では、メイン配管1の
ポリッシャー流入管7への分岐部に三方弁8が設けられ
ている。このポリッシャーでは、殺菌時には技分かれし
た流入管7へ薬品が流入しないように三方弁8を切り換
え、殺菌用薬品は三方弁8、バイパス配管4及び三方弁
6を通って流出する。この実施例では、第2図に示した
実施例に比べて三方弁の数が少なくてすむ。三方弁はか
なり高価なものであるから、第1図に示した実施例は経
済的に好ましい。
第2図は、本発明の別の実施例を示すポリッシャーの系
統図である。第2図に示した実施例では流入管7及び流
出管9にそれぞれ三方弁10及び11が設けられ、両方
の三方弁の間にバイパス配管12が設けられている。こ
のポリッシャーにおいては、通常の超純水製造時には、
メイン配管1に流入した流入水が各ポリッシャー本体3
にそれぞれ分岐した流入管7から導かれる。ポリッシャ
ー本体3内のイオン交換樹脂でイオン交換処理された超
純水は、流出管9を通って流出する。
統図である。第2図に示した実施例では流入管7及び流
出管9にそれぞれ三方弁10及び11が設けられ、両方
の三方弁の間にバイパス配管12が設けられている。こ
のポリッシャーにおいては、通常の超純水製造時には、
メイン配管1に流入した流入水が各ポリッシャー本体3
にそれぞれ分岐した流入管7から導かれる。ポリッシャ
ー本体3内のイオン交換樹脂でイオン交換処理された超
純水は、流出管9を通って流出する。
他方、薬品殺菌時は、流入管7の三方弁10及び流出管
9の三方弁11を切り換え、メイン配管1から導入した
殺菌用薬品が各ポリッシャー本体の流入管7からバイパ
ス用配管12を経由し、流出管9の三方弁11を介して
流出管9を通って排出される。殺菌終了後は、薬品の押
出し洗浄を行う純水を殺菌時と同じ経路を通って洗浄が
行われる。このように、液の滞留部が全く無いため、残
留する薬品がなく、超純水製造を開始してもイオン交換
樹脂の劣化を生じない。
9の三方弁11を切り換え、メイン配管1から導入した
殺菌用薬品が各ポリッシャー本体の流入管7からバイパ
ス用配管12を経由し、流出管9の三方弁11を介して
流出管9を通って排出される。殺菌終了後は、薬品の押
出し洗浄を行う純水を殺菌時と同じ経路を通って洗浄が
行われる。このように、液の滞留部が全く無いため、残
留する薬品がなく、超純水製造を開始してもイオン交換
樹脂の劣化を生じない。
本発明の超純水製造装置用ポリシシャーは、液の滞留部
が無いため、殺菌用薬品を配管内に残留せず、薬品殺菌
後、洗浄が良好に行われ、したがって、イオン交換樹脂
の劣化を有効に防止することができる。
が無いため、殺菌用薬品を配管内に残留せず、薬品殺菌
後、洗浄が良好に行われ、したがって、イオン交換樹脂
の劣化を有効に防止することができる。
第1図は本発明の一実施例を示すポリッシャーの系統図
、第2図は本発明の別の実施例を示すポリッシャーの系
統図、第3図は従来のポリッシャーの系統図である。 符号の説明 1・・・メイン配管、3・・・ポリッシャー本体、4・
・・バイパス配管、5.6.8.10及び11・・・三
方弁、7・・・流入管、12・・・バイパス配管
、第2図は本発明の別の実施例を示すポリッシャーの系
統図、第3図は従来のポリッシャーの系統図である。 符号の説明 1・・・メイン配管、3・・・ポリッシャー本体、4・
・・バイパス配管、5.6.8.10及び11・・・三
方弁、7・・・流入管、12・・・バイパス配管
Claims (2)
- (1)水が流入するメイン配管のポリッシャー流入管へ
の分岐部に三方弁を設けたことを特徴とする超純水製造
装置用ポリッシャー。 - (2)ポリッシャー本体への流入管及びポリッシャー本
体からの流出管に三方弁を設け、両方の三方弁の間にバ
イパス配管を設けたことを特徴とする超純水製造装置用
ポリッシャー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4360590A JPH03245891A (ja) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | 超純水製造装置用ポリッシャー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4360590A JPH03245891A (ja) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | 超純水製造装置用ポリッシャー |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03245891A true JPH03245891A (ja) | 1991-11-01 |
Family
ID=12668462
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4360590A Pending JPH03245891A (ja) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | 超純水製造装置用ポリッシャー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03245891A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54145375A (en) * | 1978-05-02 | 1979-11-13 | Shirou Miyamoto | Pure water producing apparatus able to change water purity to get |
-
1990
- 1990-02-23 JP JP4360590A patent/JPH03245891A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54145375A (en) * | 1978-05-02 | 1979-11-13 | Shirou Miyamoto | Pure water producing apparatus able to change water purity to get |
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