JPH03244124A - 超音波洗浄機 - Google Patents
超音波洗浄機Info
- Publication number
- JPH03244124A JPH03244124A JP4167490A JP4167490A JPH03244124A JP H03244124 A JPH03244124 A JP H03244124A JP 4167490 A JP4167490 A JP 4167490A JP 4167490 A JP4167490 A JP 4167490A JP H03244124 A JPH03244124 A JP H03244124A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- washing
- ultrasonic
- works
- controller
- cleaned
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 15
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims description 15
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract 10
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は超音波洗浄機に関し、特に、自動化工場にお
ける超音波洗浄機の性能向上に関するものである。
ける超音波洗浄機の性能向上に関するものである。
第２図は従来の超音波洗浄機を示す模式図である。図中
、１は被洗浄物、２は超音波洗浄槽で、内部に洗浄ｆｉ
３が満たしである。４は超音波洗浄ｍ２に洗浄を指令す
る上位制御器、５は高周波発振器、６は上位制御器４と
高周波発振器５を結ぶ信号線、７は超音波振動子、８は
高周波発振器５と超音波振動子７を結ぶ同軸ケーブル、
９は伝播水である。
、１は被洗浄物、２は超音波洗浄槽で、内部に洗浄ｆｉ
３が満たしである。４は超音波洗浄ｍ２に洗浄を指令す
る上位制御器、５は高周波発振器、６は上位制御器４と
高周波発振器５を結ぶ信号線、７は超音波振動子、８は
高周波発振器５と超音波振動子７を結ぶ同軸ケーブル、
９は伝播水である。
次に動作について説明する。
まず、洗浄かごに入れた被洗浄物１が搬送ロボット（図
示せず）により、超音波洗浄槽２に運ばれ、洗浄液３に
浸漬される。次に上位制御器４から高周波発振器５に信
号線６を通して高周波出力ＯＮ指令が送られる。すると
、高周波発振器５ば超音波振動子７に同軸ケーブル８を
通して予め調整した出力、整合条件で高周波電力を送る
。すると、超音波振動子７は超音波を発生し、超音波は
伝播水９．超音波洗浄槽２を透過し、洗浄液３中に伝わ
り、被洗浄物１に作用する。洗浄が終了し、搬送ロホ・
７ト（図示せず）が被洗浄物１が運び出すと、上位制御
器４から高周波出力ＯＦＦ指令が送られ、高周波発振器
７の出力が止まり、超音波の発生が止まる。
示せず）により、超音波洗浄槽２に運ばれ、洗浄液３に
浸漬される。次に上位制御器４から高周波発振器５に信
号線６を通して高周波出力ＯＮ指令が送られる。すると
、高周波発振器５ば超音波振動子７に同軸ケーブル８を
通して予め調整した出力、整合条件で高周波電力を送る
。すると、超音波振動子７は超音波を発生し、超音波は
伝播水９．超音波洗浄槽２を透過し、洗浄液３中に伝わ
り、被洗浄物１に作用する。洗浄が終了し、搬送ロホ・
７ト（図示せず）が被洗浄物１が運び出すと、上位制御
器４から高周波出力ＯＦＦ指令が送られ、高周波発振器
７の出力が止まり、超音波の発生が止まる。
従来の超音波洗浄機は以上のように槽底されており、高
周波発振器５の整合回路の設定が固定されているので、
特に人手を介さない自動化工場では被洗浄物の違いによ
る共振周波数の変化に対応できない。そのため、整合の
ずれが被洗浄物によって違う場合でも高周波発振器の保
護回路が作動しないよう、高周波出力を下げる必要があ
るという問題点があった。
周波発振器５の整合回路の設定が固定されているので、
特に人手を介さない自動化工場では被洗浄物の違いによ
る共振周波数の変化に対応できない。そのため、整合の
ずれが被洗浄物によって違う場合でも高周波発振器の保
護回路が作動しないよう、高周波出力を下げる必要があ
るという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、被洗浄物の違いによる共振周波数の変化に自
動的に対応できる超音波洗浄機を得ることを目的とする
。
たもので、被洗浄物の違いによる共振周波数の変化に自
動的に対応できる超音波洗浄機を得ることを目的とする
。
この発明による超音波洗浄機は、上位制御器から洗浄指
令とともに被洗浄物の情報を送り、送られた被洗浄物の
情報に合わせて整合回路を調整し、被洗浄物の違いによ
り必要となる整合回路の調整を行うようにしたものであ
る。
令とともに被洗浄物の情報を送り、送られた被洗浄物の
情報に合わせて整合回路を調整し、被洗浄物の違いによ
り必要となる整合回路の調整を行うようにしたものであ
る。
この発明における超音波洗浄機は、上位制御器からの被
洗浄物、洗浄かどの数や種類などの情報にあわせ、各々
予め設定した値に整合回路の設定を行うことにより超音
波出力を常に最大にできる。
洗浄物、洗浄かどの数や種類などの情報にあわせ、各々
予め設定した値に整合回路の設定を行うことにより超音
波出力を常に最大にできる。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第１図はこの発明の一実施例による超音波洗浄機を示す
模式図である。図中、１は被洗浄物で、この例ではシリ
コンウェハ、２は超音波洗浄槽で、この例では３ｍｍ厚
の石英槽、３は洗浄液、４は上位制御器、５は高周波発
振器で、この例では整合を７５０ＫＨｚの発振周波数を
±１００ＫＨｚ調整して行っている。７は超音波振動子
で、この例ではＰＺＴ製の電歪振動子を用いている。８
は同軸ケーブル、１１は整合調整制御器、１２は上位制
御器４と整合調整制御器１１を結ぶ信号線、１３は整合
調整制御器１１で駆動されるサーボモータで、高周波発
振器５の発振周波数調整用のトリマ１４を回している。
模式図である。図中、１は被洗浄物で、この例ではシリ
コンウェハ、２は超音波洗浄槽で、この例では３ｍｍ厚
の石英槽、３は洗浄液、４は上位制御器、５は高周波発
振器で、この例では整合を７５０ＫＨｚの発振周波数を
±１００ＫＨｚ調整して行っている。７は超音波振動子
で、この例ではＰＺＴ製の電歪振動子を用いている。８
は同軸ケーブル、１１は整合調整制御器、１２は上位制
御器４と整合調整制御器１１を結ぶ信号線、１３は整合
調整制御器１１で駆動されるサーボモータで、高周波発
振器５の発振周波数調整用のトリマ１４を回している。
１５は整合調整制御器１１と高周波発振器５を結ぶ信号
線である。
線である。
次に動作について説明する。
洗浄かごに入れた被洗浄物１が搬送ロボット（図示せず
）により超音波洗浄槽２に運ばれ、洗浄液３に浸漬され
る。すると上位制御器４から整合調整制御器１１に信号
線１２を通して洗浄指令とともに被洗浄物１の情報、例
えば、被洗浄物１や洗浄かどの数、あるいは種類等（本
実施例では数）が送られる。整合調整制御器１１はサー
ボモータ１３を駆動し、トリマ１４を被洗浄物１の数に
より予め設定した角度に回し、高周波発振器５の発振周
波数を共振周波数に調整する。調整完了後、整合調整制
御器１１は信号線１５を通して高周波発振器５に高周波
出力○Ｎ指令を送り、同軸ケーブル８に高周波電力を送
り、超音波振動子７から超音波を発生させる。
）により超音波洗浄槽２に運ばれ、洗浄液３に浸漬され
る。すると上位制御器４から整合調整制御器１１に信号
線１２を通して洗浄指令とともに被洗浄物１の情報、例
えば、被洗浄物１や洗浄かどの数、あるいは種類等（本
実施例では数）が送られる。整合調整制御器１１はサー
ボモータ１３を駆動し、トリマ１４を被洗浄物１の数に
より予め設定した角度に回し、高周波発振器５の発振周
波数を共振周波数に調整する。調整完了後、整合調整制
御器１１は信号線１５を通して高周波発振器５に高周波
出力○Ｎ指令を送り、同軸ケーブル８に高周波電力を送
り、超音波振動子７から超音波を発生させる。
このような本実施例では、被洗浄物１の情報により予め
設定した値に整合回路の設定を行うようにしたので、被
洗浄物の違いによる共振周波数の変化に自動的に対応で
き、超音波出力を常に最大に設定できる。例えば、本実
施例においては高周波出力を約５％も向上させることが
できた。
設定した値に整合回路の設定を行うようにしたので、被
洗浄物の違いによる共振周波数の変化に自動的に対応で
き、超音波出力を常に最大に設定できる。例えば、本実
施例においては高周波出力を約５％も向上させることが
できた。
以上のように、この発明によれば、被洗浄物の情報によ
り、これに応じて予め設定した値に整合回路の調整を行
うようにしたので、人手を介さずに超音波洗浄機の整合
をとることができ、これにより超音波出力を最大にでき
、洗浄効果の向上を図れる効果がある。
り、これに応じて予め設定した値に整合回路の調整を行
うようにしたので、人手を介さずに超音波洗浄機の整合
をとることができ、これにより超音波出力を最大にでき
、洗浄効果の向上を図れる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例による超音波洗浄機の模式
図、第２図は従来の超音波洗浄機の模式図である。 図中、１は被洗浄物、２は超音波洗浄槽、３は洗浄液、
４は上位制御器、５は高周波発振器、７は超音波振動子
、８は同軸ケーブル、９は伝播水、１１は整合調整制御
器、１２は信号線、１３は。 １４はそれぞれ整合調整を行うためのサーボモータとト
リマである。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
図、第２図は従来の超音波洗浄機の模式図である。 図中、１は被洗浄物、２は超音波洗浄槽、３は洗浄液、
４は上位制御器、５は高周波発振器、７は超音波振動子
、８は同軸ケーブル、９は伝播水、１１は整合調整制御
器、１２は信号線、１３は。 １４はそれぞれ整合調整を行うためのサーボモータとト
リマである。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）上位制御器からの洗浄指令により高周波発振器を動
作させ、被洗浄物の処理を行う超音波洗浄機において、 上記上位制御器から洗浄指令とともに被洗浄物の情報を
送り、該被洗浄物の情報に応じて上記高周波発振器の発
振周波数を設定する整合回路の調整を行う整合回路調整
手段を備えたことを特徴とする超音波洗浄機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4167490A JPH03244124A (ja) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | 超音波洗浄機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4167490A JPH03244124A (ja) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | 超音波洗浄機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03244124A true JPH03244124A (ja) | 1991-10-30 |
Family
ID=12614958
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4167490A Pending JPH03244124A (ja) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | 超音波洗浄機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03244124A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0947733A (ja) * | 1995-08-03 | 1997-02-18 | Kokusai Denki L Tec:Kk | 超音波洗浄装置 |
| US6138698A (en) * | 1997-11-20 | 2000-10-31 | Tokyo Electron Limited | Ultrasonic cleaning apparatus |
| JP2007035548A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Pre-Tech Co Ltd | 同軸ケーブル及び超音波洗浄機 |
-
1990
- 1990-02-21 JP JP4167490A patent/JPH03244124A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0947733A (ja) * | 1995-08-03 | 1997-02-18 | Kokusai Denki L Tec:Kk | 超音波洗浄装置 |
| US6138698A (en) * | 1997-11-20 | 2000-10-31 | Tokyo Electron Limited | Ultrasonic cleaning apparatus |
| JP2007035548A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Pre-Tech Co Ltd | 同軸ケーブル及び超音波洗浄機 |
| JP4562612B2 (ja) * | 2005-07-29 | 2010-10-13 | 株式会社プレテック | 同軸ケーブル及び超音波洗浄機 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20060260641A1 (en) | Megasonic cleaning system with buffered cavitation method | |
| US7586235B2 (en) | Matching circuit for megasonic transducer device | |
| TWI479548B (zh) | 具有控制邊界層厚度之兆頻超音波清洗及相關系統及方法 | |
| US6085764A (en) | Cleaning apparatus and method | |
| JP2900788B2 (ja) | 枚葉式ウェーハ処理装置 | |
| KR20120018296A (ko) | 반도체 웨이퍼 세정 방법 및 장치 | |
| US6554003B1 (en) | Method and apparatus for cleaning a thin disc | |
| JPH03244124A (ja) | 超音波洗浄機 | |
| US20060054182A1 (en) | System and method of powering a sonic energy source and use of the same to process substrates | |
| JP2013086059A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JPH03218016A (ja) | 半導体基板の洗浄方法およびその洗浄装置 | |
| US6047246A (en) | Computer-controlled ultrasonic cleaning system | |
| JPH04213827A (ja) | 半導体製造用ウェーハ表面洗浄装置 | |
| JP2008141023A (ja) | 超音波洗浄装置及び基板洗浄方法 | |
| JPH02109333A (ja) | 洗浄装置 | |
| JPH10235303A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| CN206854240U (zh) | 用于光电零部件的交替振荡兆声波清洗仪 | |
| GB2227254A (en) | Preventing and removing scale deposits by application of ultrasonic vibrations | |
| JPS59142885A (ja) | 超音波処理方法およびその装置 | |
| JPH0581314B2 (ja) | ||
| JP4334813B2 (ja) | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 | |
| JPH10180204A (ja) | 超音波洗浄装置及び駆動方法 | |
| JPH08131978A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JPH05308067A (ja) | 超音波洗浄装置および方法 | |
| JP2002248429A (ja) | 超音波発振装置及び超音波発振方法 |