JPH03238013A - ガス流を除塵するための装置 - Google Patents

ガス流を除塵するための装置

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JPH03238013A
JPH03238013A JP2330825A JP33082590A JPH03238013A JP H03238013 A JPH03238013 A JP H03238013A JP 2330825 A JP2330825 A JP 2330825A JP 33082590 A JP33082590 A JP 33082590A JP H03238013 A JPH03238013 A JP H03238013A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ガス流、特に高い圧力の熱ガス流を除塵する
ための装置であって、ケーシング、ケーシングの上側の
部分内に配置された生ガス入口、ケーシングの下側の部
分内に配置された除塵漏斗、階状に上下に配置された少
くとも2つのクリーンガス捕集装置を備えており、クリ
ーンガス捕集装置がケーシングの内部に垂直に配置され
た少くとも1つのクリーンガス管に接続されており、垂
直に配置された管状のフィルタ部材を備えており、フィ
ルタ部材がクリーンガス捕集装置に接続されている形式
のものに関する。
500−1200°C及びそれ以上の温度でのろ過のた
めにキャンドルが多孔性のセラミック材料から或ってい
る。このようなキャンドルは任意の長さで製造できない
。今日使用できる最も長いキャンドルはほぼ1.50m
の長さである。必要なフィルタ面、すなわち必要な数の
フィルタキャンドルを底面積の制限されたケーシング内
に配置するためには、フィルタキャンドルを上下に複数
の階に配置することは避けられない。
本発明はヨーロッパ特許第B1−0129053号明細
書により公知の装置から出発している。この場合垂直に
位置する円筒形のケーシング内に配置されているクリー
ンガス捕集装置が平らな円形の底部プレート、リング状
の狭い周壁部分、及び円錐形の蓋板から戊っている。周
壁部分とケーシング壁との間に下方に向けられたガス流
のためのリング間隙が形成されている。穴の形成された
底部プレートには吊下がるフィルタ部材が配置されてい
る。クリーンガス捕集装置は同軸的なりリーンガス管に
接続されており、クリーンガス管は選択的にカバーを通
して若しくはケーシングの除塵漏斗として構成された底
部を通して案内されている。圧力洗浄のための駆動ガス
を供給すために、ケーシング壁の近くに垂直な管を配置
してあり、この管から4− 各階で水平な送風管が延びていてクリーンガス捕集装置
の周壁部分を通してクリーンガス捕集装置内に案゛内さ
れている。各送風管は複数のフィルタ部材のグループに
配属されかつ個別のフィルタ部材を介して下方に向けら
れたノズルを備えている。
前記公知の装置においては、個別のフィルタ部材はクリ
ーニングしようとするガス流によって貫流される。従っ
て洗浄の後にすでに分離した塵、特に微塵が再びフィル
タ部材に付着することになる。このことにより洗浄周期
並びに微塵の堆積に基づきフィルタ部材の耐用年数が短
くなる。
フィルタ部材グループの洗浄の後に、塵はクリーンガス
捕集装置の円錐形の着根上に落下する。塵を滑り落とす
ために、付加的なりリーニング装置の設けられていない
場合には蓋板の傾斜角が少なくとも摩擦角と同じであら
ねばならない。蓋板の傾斜に相応してケーシング軸線の
方向でのフィルタ部材の長さが短くなる。これによって
、所定の大きさのケーシング内に得られる全フィルタ面
がそこなわれる。蓋板の円錐形に基づき垂直なフィルタ
部材においては蓋板のクリーニングが困難である。
高い圧力の駆動ガスの分岐した長い導管が熱ガスの流過
する室内に位置していて、従って高い温度にさらされ、
このような温度においてはオーステナイト貿の鋼自体小
さい強度しか有していない。圧力衝撃及び転向箇所に作
用する反力は材料に損傷を与えることになる。
ドイツ連邦共和国特許出願公告第1757635号明細
書に記載のフィルタ装置においては生ガス入口がケーシ
ングの上側部分に配置されかつ唯一のクリーンガス捕集
装置がケーシングの下側部分内で除塵漏斗のすぐ上に配
置されている。クリーンガス捕集装置は中間室を備えた
格子状に平行に配置された複数の捕集通路から成ってお
り、捕集通路の上側にフィルタホースを接続してあり、
フィルタホースがケーシングの上側部分に懸架されてい
る。個別の捕集通路はケーシング壁を通して外側へ案内
されていて、別個のクリーンガス室に開口している。各
捕集通路は端部にノズル付加部を有しており、ノズル付
加部内に駆動ガスノズルが突入している。捕集通路の端
部は  ガス導管に接続されている。
このような装置においては生ガスは垂直方向にフィルタ
ホースにそって流れる。フィルタホースグループを洗浄
する場合には、生ガス流が離れた塵の落下運動を助成す
ることになる。塵は捕集通路の中間室を通って除塵漏斗
内に落下する。ガス流は中間室を通って流れない。
このような装置は明らかに熱ガスによるクリニングに適
していない。ケーシング壁を通しての供給によって熱的
な負荷が生じ、このような負荷により材料が損なわれる
ことになる。さらに異種ガスによる洗浄はサーモショッ
クを生ぜしめることになり、異種ガスがクリーニングし
ようとするガスの温度に加熱されることになる。
本発明の課題は、冒頭に述べた形式の装置を改善して、
クリーニングしようとするガスがすべての階でフィルタ
部材に平行に、すなわち洗浄の際に落下する塵に対して
正流で流れるようにし、さらに所定の寸法のケーシング
内に設けられるフィルタ面が増大されるようにすること
である。
前記課題を解決するために本発明の構成では、各クリー
ンガス捕集装置が複数の捕集通路から戊っており、捕集
通路が中間室を備えた格子状に配置されており、各捕集
通路に複数のフィルタ部材が接続されている。
特許請求の範囲第2項に記載した構成は簡単であって、
ケーシングの横断面にわたるフィルタ部材の密度の高い
均一な分配を特徴とする特許請求の範囲第3項に記載の
構成はフィルタ部材の洗浄にとって特に有利である。ク
リーンガス管がケーシング内で洗浄ガスの供給のために
用いられる。これによってケーシング内に駆動ガスのた
めの導管系を配置する必要がなく− なる。クリーンガス室内へ案内された駆動ガス管は短く
かつ直線的に構成できる。従って、圧力衝撃に基づく機
械的な負荷による駆動ガス管の損傷が少なくなる。駆動
ガス管への冷却装置の装着が簡単になる。エゼクタ作用
に基づき洗浄ガスの大部分がクリーンガス室内へ流入で
き、その結果サーモショックが避けられる。
特許請求の範囲第4項及び第5項に記載の構成により、
利点として、ケーシング内に配置された部分が独立の構
造ユニットであり、このような独立の構造ユニットはケ
ーシングと無関係に熱に基づく変形を可能にしかつケー
シングを開いた後に、例えば検査のために若しくは保守
作業及び修理作業のために取り出され得る。
特許請求の範囲第6項に基づくフィルタキャンドルの直
立配置により、懸架配置に対して利点として捕集通路へ
のフィルタキャンドルの保持が簡単に行なわれ、その結
果保持部が高温運転の場合に焼損されにくい。
次に図面を用いて本発明の実施例を具体的に説明する。
第1図から第5図に示す実施例において、垂直に立って
いる円筒形の二部構造のケーシングlは湾曲したカバー
3を備えた上部部分2と湾曲した底部5を備えた下部部
分4とから戊っている。上部部分2と下部部分4との間
に7ランジ結合部6が設けられている。カバー3が素ガ
スのための流入接続部7を備えている。下部部分4の側
部にクリーンガスのための流出接続部8が配置されてい
る。
上部部分2内には捕集装置9が段階状に上下に設けられ
ている。捕集装置はそれぞれ水平な複数の捕集通路lO
から戊っており、捕集通路は第3図に示すように格子の
形式で互いに平行に円形のケーシング断面の弦上に配置
されている。捕集通路10の断面は狭幅と広幅の比がl
:2の狭幅側で直立する方形である。隣接する各2つの
捕集通路10間には中間室が設けられており、この中間
室の幅は捕集通路10の幅とほぼ同じである。各捕集通
路lOの上側には列状に密接に並べられた複数のフィル
タキャンドル11が配置されている。下の階のフィルタ
キャンドル11は上の階の捕集通路IOまでほぼ延びて
おり、上の階のフィルタキャンドルはカバー3の近くま
で延びている。
各捕集通路10の両方の端部はクリーンガス管12に接
続されている。クリーンガス管12は円筒形のケーシン
グ壁に対して短い距離を置いて配置されていて相対する
2つのグループを形式している。各クリーンガス管12
は下側の階でも上側の階でも1つの捕集通路10に結合
されている。クリーンガス管12は結合箇所に捕集通路
lOの横断面に相応した切欠きを有しており、捕集通路
lOの内部とクリーンガス管12の内部とが互いに連通
している。しかしながら捕集通路10は中央で仕切り壁
13によって中断されており、従って捕集通路の両端部
に接続された両方のクリーンガス管12は互いに連通し
ていない。
第4図から明らかなように、クリーンガス管11 は水平に配置された支持リング14を貫通しており、支
持リングの縁部ストリップが下部部分4の壁に結合され
た支持支承部15に支えられていて、上面を上部部分の
絶縁部内に位置するシール16によって覆われている。
支持りング14に溶着されたクリーンガス管12は支持
リング14の下側にノズル状に先細の付加部17を有し
ており、付加部のトランペット状に拡大開口する端部(
第5図)が底部5の近くまで達している。
各クリーンガス管12に配属され底部5を貫通する著し
く薄い駆動ガス管18はがクリーンガス管12に同軸的
に向けられており、駆動ガス管の先細の開口がクリーン
ガス管の開口する端部の近くに達している。駆動ガス管
18はっは状の保持リング19を備えており、保持リン
グが底部5に溶着された接続片20のフランジにねじ結
合されている。駆動ガス管18と接続片20の内壁との
間のリング室内にシール21を配置しあり、このシール
は同時に熱絶縁のた12 めにも役立っている。
支持リング14の内側の縁部に除塵漏斗22が溶着して
あり、除塵漏斗の出口接続部23が例えばパツキン箱を
介して底部5の開口を通して移動可能に案内され、若し
くは軸線方向補償装置(図示せず)を備えている。下部
部分4の、除塵漏斗22を取り囲むリング状の室がクリ
ーンガス室を形式している。
支持リング、クリーンガス管12、捕集通路lO1及び
除塵漏斗22から成る構造部分は取り出し可能な1つの
構成ユニットを形式しており、この構成ユニットはケー
シングlに無関係に熱変形可能である。保守作業を実施
するために、上部部分が7ランジ結合部6をゆるめた後
に下部部分4から持ち上げられる。
運転中、塵を含んだ生ガスがケーシングl内を上から下
へ流れる。部分的な抵抗に相応して部分流がフィルタキ
ャンドル11を外側から内側へ貫通する。この場合、塵
が外面に付着されてケーキを形式する。クリーニング(
除塵)されたガスはフィルタキャンドル11の内部、捕
集通路10.クリーンガス管12及びクリーンガス管の
付加部17を通ってクリーンガス捕集室内に流入する。
上部の階の床部に存在する残留ガス流は、上部の階の捕
集通路を形成する格子を通って下部の階に達する。
フィルタキャンドル11のクリーニングが、周知のよう
にフィルタキャンドルをグループ毎に内側から洗浄ガス
衝撃で負荷することによって行われる。この場合、フィ
ルタキャンドル11から分離された塵は離れて、自重及
び−様に下方に向いたガス流の影響を受けて下流へ運動
する。横流が生じるフィルタ装置の場合と異なって、分
離された塵、特に微塵をカス流によって再びフィルタキ
ャンドルへ運びかつそこに堆積するようなことがほぼ避
けられる。
洗浄ガス衝撃を形成するために、駆動ガス管18が衝撃
的に駆動ガスで負荷され、駆動ガスはクリーニングしよ
うとするガスのほぼ1.2〜5倍の運転圧力である。こ
のような比較的高い圧力はクリーンガス管12のノズル
状の付加部17内への流入の際にわずかな過圧に変化す
る。この場合、クリーンガス室からクリーニングされた
熱いガスが吸引され、クリーンガスの通常の流れ方向へ
転向され洗浄ガスとして捕集通路を介して所属のフィル
タキャンドル内へ押し込まれる。この場合有利には、供
給される圧力ガスは直線的な短い駆動ガス管18を介し
てのみ流れる。
第6図に示す実施例はこれまで述べた実施例と、下部の
階の捕集通路10が上部の階の捕集通路の下に接して配
置されかつ対応して下部の階のフィルタキャンドル11
が吊り下げて配置されていることによって異なっている
第7図の実施例においては円筒形のケーシング31がカ
バー33を備えた上部部分32と除塵漏斗35の接続さ
れた下部部分34とから戊っている。上部部分32と下
部部分34との間に7ランジ結合部36が配置されてい
る。カバー33を生ガスのための流入接続部37が貫通
−15= している。
下部部分34内には2つのクリーンガス捕集装置39を
階状に上下に配置してあり、クリーンガス捕集装置は第
1の実施例の捕集装置9と類似して捕集通路40から構
成してあって、フィルタキャンドル41を備えていてか
つ垂直のクリーンガス管42に接続されている。
クリーンガス管42は第1の実施例と同じように支持リ
ング44を貫通してぃてがっ支持リングに溶着されてい
る。支持リング44は第1の実施例の支持リング14と
同じように支持機構に支えられており、この支持機構は
下部部分34の壁に取り付けられている。第1の実施例
との相異は、フィルタ装置全体が支持リング44に懸架
されていてかつ下部部分34内に配置されており、下部
部分の高さが相応に規定されていることにある。
支持リング44の上側に、クリーンガス管はノズル状に
先細の付加部47を有しており、付加部のトランペット
状に拡大開口する端部がカ6 バー33の近くまで達している。
各クリーンガス管42に、第5図に類似してカバー33
を貫通する駆動ガス管48が配属されている。
支持リング44の内側の縁部に開口漏斗52を溶着して
あり、この開口漏斗は流入接続部37から延びている。
上部部分32の、開口漏斗52を取囲むリング状の室が
クリーンガス室を形成している。
理解を容易にするために、もっばら2つの階に構成され
た実施例を用いて説明しである。実際には装置を2つの
よりも多い複数の階に構成すると多くの場合有利である
。もちろんケーシングは図示の実施例と異なって横断面
を方形に構成してよい。このような形状の装置は特に大
気圧条件下で有利に使用される。高い圧力下での除塵の
ためには円筒形あるいは球形の構造が有利である。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例を示すものであって、第1図は第
1実施例の垂直断面図、第2図は第1実施例の第1図に
対して90’回動させた位置での垂直断面図、第3図は
第1実施例の水平断面図、第4図は第1図の符号Aで示
す箇所の拡大図、第5図は第1図の符号Bで示す箇所の
拡大図、第6図は第2実施例の垂直断面図、及び第7図
は第3実施例の垂直断面図である。 l・・・ケーシング、2・・・上部部分、3・・・カバ
ー4・・・下部部分、5・・・底部、6・・・7ランジ
結合部、8・・・流出接続部、9・・・捕集装置、10
・・・捕集通路、ll・・・フィルタキャンドル、12
・・・クリーンガス管、14・・・支持リング、15・
・・支持支承部、16・・・シール、17・・・付加部
、18・・・駆動ガス、19・・・保持リング、20・
・・接続片、21・・・シール、22・・・除塵漏斗、
23・・・出口接続部、30・・・ケーシング、32・
・・上部部分、33・・・カバー 34・・・下部部分
、36・・・7ランジ結合部、37・・・流入接続部、
39・・・クリーンガス捕集装置、40・・・捕集通路
、41・・・フィルタキャンドル、42・・・クリーン
ガス管、44・・・支持リング、47・・・付加部、 52・・・開口漏斗 8・・・駆動ガス管、 19 特開平3−238013 (8)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ガス流を除塵するための装置であって、ケーシング
    (1、31)、ケーシング(1、31)の上側の構造部
    分内に配置された生ガス入口(7、37)、ケーシング
    (1、31)の下側の構造部分内に配置された除塵漏斗
    (22、35)、階状に上下に配置された少くとも2つ
    のクリーンガス捕集装置(9、39)を備えており、ク
    リーンガス捕集装置がケーシング(1、31)の内部に
    垂直に配置された少くとも1つのクリーンガス管(12
    、42)に接続されており、垂直に配置された管状のフ
    ィルタ部材(11、41)を備えており、フィルタ部材
    がクリーンガス捕集装置(9、39)に接続されている
    形式のものにおいて、各クリーンガス捕集装置(9、3
    9)が複数の捕集通路(10、40)から成っており、
    捕集通路が中間室を備えた格子状に配置されており、各
    捕集通路(10、40)に複数のフィルタ部材(11、
    41)が接続されていることを特徴とする、ガス流を除
    塵するための装置。 2、捕集通路(10、40)が平行に配置されており、
    各捕集通路(10、40)の少くとも一方の端部が1つ
    のクリーンガス管(12、42)に接続されている請求
    項1記載の装置。 3、セパレートの複数のクリーンガス管(12、42)
    がそれぞれ少くとも1つの捕集通路(10、40)に接
    続されており、クリーンガス管の開いた端部がクリーン
    ガス室に開口しており、駆動ガス管(18、48)がク
    リーンガス室内でクリーンガス管(12、42)の開い
    た端部に突入している請求項1記載の装置。 4、クリーンガス管(12)が共通の支持リング(14
    )に取付けられかつこの支持リングを貫通しており、支
    持リング(14)がつば状に除塵漏斗(22)の上側の
    縁部に結合されていて、かつケーシング壁に固定された
    支持支承部(15)に支えられており、クリーンガス室
    が除塵漏斗(22)を同軸的に取り囲んでおり、個別の
    駆動ガス管(18)がケーシング(1)の底部(5)を
    通して案内されている請求項3記載の装置。 5、クリーンガス管(42)が共通の支持リング(44
    )に取付けられかつこの支持リングを貫通しており、支
    持リング(44)がつば状に生ガス供給管の開口漏斗(
    52)の縁部に結合されていて、かつケーシング壁に固
    定された支持支承部に支えられており、クリーンガス室
    が開口漏斗(52)を同軸的に取り囲んでおり、個別の
    駆動ガス管(48)がケーシング(1)のカバー(33
    )を通して案内されている請求項3記載の装置。 6、フィルタ部材が直立に配置されたフイルタキャンド
    ル(11、41)から成っている請求項1から5のいず
    れか1項記載の装置。
JP2330825A 1989-12-21 1990-11-30 ガス流を除塵するための装置 Expired - Lifetime JPH0732855B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE8914966U DE8914966U1 (de) 1989-12-21 1989-12-21 Vorrichtung zum Entstauben eines Gasstromes
DE8914966.1 1989-12-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03238013A true JPH03238013A (ja) 1991-10-23
JPH0732855B2 JPH0732855B2 (ja) 1995-04-12

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ID=6845661

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JP2330825A Expired - Lifetime JPH0732855B2 (ja) 1989-12-21 1990-11-30 ガス流を除塵するための装置

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US (1) US5094673A (ja)
EP (1) EP0433637B1 (ja)
JP (1) JPH0732855B2 (ja)
AT (1) ATE106265T1 (ja)
DE (2) DE8914966U1 (ja)
DK (1) DK0433637T3 (ja)
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