JPH03237401A - カルコゲナイドガラスの反射防止膜 - Google Patents
カルコゲナイドガラスの反射防止膜Info
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- JPH03237401A JPH03237401A JP2032400A JP3240090A JPH03237401A JP H03237401 A JPH03237401 A JP H03237401A JP 2032400 A JP2032400 A JP 2032400A JP 3240090 A JP3240090 A JP 3240090A JP H03237401 A JPH03237401 A JP H03237401A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はカルコゲナイドガラス、特に高エネルギー伝送
用として使用されるカルコゲナイドガラス基板面もしく
はファイバ一端面上に反射防止膜に関する。
用として使用されるカルコゲナイドガラス基板面もしく
はファイバ一端面上に反射防止膜に関する。
［従来の技術］
カルコゲナイドガラスは波長２−１４μ扉にかけて優れ
た透過特性を示す。しかもＫＨ２−５などの結晶性ファ
イバーと比較すると紡糸が容易でファイバーの曲げ半径
が小さいという長所を有す。
た透過特性を示す。しかもＫＨ２−５などの結晶性ファ
イバーと比較すると紡糸が容易でファイバーの曲げ半径
が小さいという長所を有す。
一方、カルコゲナイドガラスは屈折率が大きいため表面
反射損失も大きくなる。特にエネルギー伝送において表
面の反射損失を下げるために、反射防止膜を設ける必要
がある。しかもエネルギー伝送路端面上の反射防止膜は
耐環境性および極度のレーザー光に対する耐損傷性を備
えていなければならない。しかし、カルコゲナイドガラ
スに関して反射防＋Ｔｈ１ｌを設ける技術は未だｖｌ立
されておらず、報告例も殆ど無い。富国、小野、岩ｉ３
（松下技研■）：東北大通研シンポジュウム［１１−２
，６８〜８５（１９８６）ではＫＨ２−５のファイバー
両端面にｉｍ目としてＡｓ２Ｓｅ３ （光学的膜厚ｄ−
λ／（４ｎ））、２ｍ！！目ニＰ ｄ Ｆ ２ （光
学的膜Ｍｌｄ＝λ／（４ｎ））、３１ｉＩ目にＡｓｚＳ
ｅ３ ＜光学的膜厚ｄ−λ／（４ｎ））を積層して反射
防」［膜を設けることを提唱している。
反射損失も大きくなる。特にエネルギー伝送において表
面の反射損失を下げるために、反射防止膜を設ける必要
がある。しかもエネルギー伝送路端面上の反射防止膜は
耐環境性および極度のレーザー光に対する耐損傷性を備
えていなければならない。しかし、カルコゲナイドガラ
スに関して反射防＋Ｔｈ１ｌを設ける技術は未だｖｌ立
されておらず、報告例も殆ど無い。富国、小野、岩ｉ３
（松下技研■）：東北大通研シンポジュウム［１１−２
，６８〜８５（１９８６）ではＫＨ２−５のファイバー
両端面にｉｍ目としてＡｓ２Ｓｅ３ （光学的膜厚ｄ−
λ／（４ｎ））、２ｍ！！目ニＰ ｄ Ｆ ２ （光
学的膜Ｍｌｄ＝λ／（４ｎ））、３１ｉＩ目にＡｓｚＳ
ｅ３ ＜光学的膜厚ｄ−λ／（４ｎ））を積層して反射
防」［膜を設けることを提唱している。
この反射防Ｉ［膜をカルコゲナイドガラスに設けた場合
、伝送路端面（カルコゲナイドガラス基板）と１層目（
カルコゲナイドガラス族）は両方ともに強い圧縮応力を
示す。よって伝送路端面（カルコゲナイドガラス基板）
と１層目（カル」ゲナイドガラスｍｌ）間の応力緩和を
少なくすることは困難であり、２層目に引っ張り応力を
有するＰｂ「２を設け、３層目に圧縮応力を示すカルコ
ゲナイドガラス膜を設けても全体的な構成は旨くいかな
い。このため膜の付着強度が弱くなり、基板面（ファイ
バ一端面）と膜の間で界面不整が生じ、吸収損失が大き
くなることが考えられる。また模の吸収はＩＩ厚が薄い
ほど小さくなり、レーデ−尤に対する耐損傷性に有利と
なるため、上記反射防止膜では膜構成が３層構造と多く
、しかも膜厚が３μ■以上と厚くなる。よって、カルコ
ゲナイドガラスに設けてもネト分である。従って、本発
明の目的は反射防止膜の膜厚が薄く、しかも耐環境性お
よび極度のレーザー光に対する耐損傷性を備えたカルコ
ゲナイドガラスの反射防止膜を提供することにある。
、伝送路端面（カルコゲナイドガラス基板）と１層目（
カルコゲナイドガラス族）は両方ともに強い圧縮応力を
示す。よって伝送路端面（カルコゲナイドガラス基板）
と１層目（カル」ゲナイドガラスｍｌ）間の応力緩和を
少なくすることは困難であり、２層目に引っ張り応力を
有するＰｂ「２を設け、３層目に圧縮応力を示すカルコ
ゲナイドガラス膜を設けても全体的な構成は旨くいかな
い。このため膜の付着強度が弱くなり、基板面（ファイ
バ一端面）と膜の間で界面不整が生じ、吸収損失が大き
くなることが考えられる。また模の吸収はＩＩ厚が薄い
ほど小さくなり、レーデ−尤に対する耐損傷性に有利と
なるため、上記反射防止膜では膜構成が３層構造と多く
、しかも膜厚が３μ■以上と厚くなる。よって、カルコ
ゲナイドガラスに設けてもネト分である。従って、本発
明の目的は反射防止膜の膜厚が薄く、しかも耐環境性お
よび極度のレーザー光に対する耐損傷性を備えたカルコ
ゲナイドガラスの反射防止膜を提供することにある。
［課題を解決するために手段］
上記した本発明の目的は、圧縮ゐ力を示すカルコゲブイ
トガラス両面士にまず引っ張り応力の強いフッ化物の１
！！（第１騎）を形成させ、ついでこの第１Ｈの士に圧
縮応力の強いＡｓとＳもしくはＡｓとｓｅの２成分系カ
ルコゲナイドガラスの膜（第２層〉を積層させた２層コ
ーティングを施すことにより達成される。
トガラス両面士にまず引っ張り応力の強いフッ化物の１
！！（第１騎）を形成させ、ついでこの第１Ｈの士に圧
縮応力の強いＡｓとＳもしくはＡｓとｓｅの２成分系カ
ルコゲナイドガラスの膜（第２層〉を積層させた２層コ
ーティングを施すことにより達成される。
本発明において反射防Ｊト膜は適当な低屈折率の膜と高
屈折率の膜をλ／４の正数倍づつを組み合わせることに
より理論士、設計中心波＆域において表面反射損失は０
％となる。最も簡単にできる単ＩＩ膜構造において、該
カルコゲナイドガラス材料の屈折率の平方根に近い膜材
料を光学的膜厚ｄ−λ／（４ｎ）設けることにより表面
反射損失は設計中心波長域において０％となる。上記式
において、ｎは膜材料の屈折率、ｄは膜材料の光学的膜
厚、λは設計中心波長である。また計算上組み合わせる
膜の数が増加するほど表面反射損失は低下するが、膜の
吸収係数および製造コストは大きくなる。よって反射防
止膜のｌｌ！Ｉ厚はなるべく薄いほうが望ましい。
屈折率の膜をλ／４の正数倍づつを組み合わせることに
より理論士、設計中心波＆域において表面反射損失は０
％となる。最も簡単にできる単ＩＩ膜構造において、該
カルコゲナイドガラス材料の屈折率の平方根に近い膜材
料を光学的膜厚ｄ−λ／（４ｎ）設けることにより表面
反射損失は設計中心波長域において０％となる。上記式
において、ｎは膜材料の屈折率、ｄは膜材料の光学的膜
厚、λは設計中心波長である。また計算上組み合わせる
膜の数が増加するほど表面反射損失は低下するが、膜の
吸収係数および製造コストは大きくなる。よって反射防
止膜のｌｌ！Ｉ厚はなるべく薄いほうが望ましい。
一般にカルコゲナイドガラスは耐水性を有すると言われ
ている。しかし発明者らが調べた結果、Ｇｅを含んだカ
ルコゲナイドガラスはある一定の環境ト、例えば温度５
５℃、湿度９８％に数ＦＲ間置くと表面にＧｅの酸化物
が析出し、耐水性に劣ると苫われているフッ化物のＭ（
例えばＰｂＦ２など）より耐環境性に劣ることを見出だ
した。なおＡｓとＳもしくはＡｓとＳｅの２成分系カル
コゲナイドガラスを数日間同環境下に置いても何等変化
は観察されず、従来赤外透過性が優れ、レンズなどに用
いられるフッ化物や７ｎＳｅの単結晶より耐環境性に優
れていることを見出だした。
ている。しかし発明者らが調べた結果、Ｇｅを含んだカ
ルコゲナイドガラスはある一定の環境ト、例えば温度５
５℃、湿度９８％に数ＦＲ間置くと表面にＧｅの酸化物
が析出し、耐水性に劣ると苫われているフッ化物のＭ（
例えばＰｂＦ２など）より耐環境性に劣ることを見出だ
した。なおＡｓとＳもしくはＡｓとＳｅの２成分系カル
コゲナイドガラスを数日間同環境下に置いても何等変化
は観察されず、従来赤外透過性が優れ、レンズなどに用
いられるフッ化物や７ｎＳｅの単結晶より耐環境性に優
れていることを見出だした。
よって、第２層目に耐Ｍ境性に優れたＡｓとＳもしくは
ＡｓとＳｅの２成分系カルコゲナイドガラスの躾をＩｌ
厚Ｘ≦０，５μｍ設け（好ましくはＸ≦０，２μｍ）、
第１層目のフッ化物の膜厚Ｙを該フッ化物の単層反射防
止膜の形態をとった場合の光学的膜厚ｄ＝λ／（４０）
≧Ｘ＋Ｙで構成させる。換言すると、第２Ｎの膜厚Ｘが
Ｘ≦０．５μ肌、好ましくは０２μ扉で、かつ、第１！
１の膜厚Ｙが単層反射防止膜の形態をとった場合の光学
的ｇｌＪｌｄ＝λ／（４ｎ）から膜厚Ｘを減じたものと
同等もしくは減じたものより小であることを意味する。
ＡｓとＳｅの２成分系カルコゲナイドガラスの躾をＩｌ
厚Ｘ≦０，５μｍ設け（好ましくはＸ≦０，２μｍ）、
第１層目のフッ化物の膜厚Ｙを該フッ化物の単層反射防
止膜の形態をとった場合の光学的膜厚ｄ＝λ／（４０）
≧Ｘ＋Ｙで構成させる。換言すると、第２Ｎの膜厚Ｘが
Ｘ≦０．５μ肌、好ましくは０２μ扉で、かつ、第１！
１の膜厚Ｙが単層反射防止膜の形態をとった場合の光学
的ｇｌＪｌｄ＝λ／（４ｎ）から膜厚Ｘを減じたものと
同等もしくは減じたものより小であることを意味する。
なお、本発明の最適な反躬訪止膜材として、第１層を可
視域および赤外域で優れた透過性を示し、屈折率が低い
ＰｂＦ？ＢａＦ？、Ｍ（ＪＦ２．３ｒ［２のいずれかで
構成させる。続いて、第２剃を赤外域で優れた透過特性
を示し、屈折率が高く、均一な膜に戚り易い該ＡｓとＳ
の２成分系カルコゲブイトガラスの組成範囲Ａ Ｓ （
１００−Ｘ） Ｓ Ｘ（Ｘ ＝ ５５−９５ａｔｓ％）
もしくは、該ＡｓとＳｅの２成分系カルコゲナイドガラ
スの組成範囲Ａｓ（１００−Ｘ） Ｓ ｅ ｘ（Ｘ ＝
４０−９５ａｔｍ％）で構成させることが望ましい。
視域および赤外域で優れた透過性を示し、屈折率が低い
ＰｂＦ？ＢａＦ？、Ｍ（ＪＦ２．３ｒ［２のいずれかで
構成させる。続いて、第２剃を赤外域で優れた透過特性
を示し、屈折率が高く、均一な膜に戚り易い該ＡｓとＳ
の２成分系カルコゲブイトガラスの組成範囲Ａ Ｓ （
１００−Ｘ） Ｓ Ｘ（Ｘ ＝ ５５−９５ａｔｓ％）
もしくは、該ＡｓとＳｅの２成分系カルコゲナイドガラ
スの組成範囲Ａｓ（１００−Ｘ） Ｓ ｅ ｘ（Ｘ ＝
４０−９５ａｔｍ％）で構成させることが望ましい。
本発明の反射防圧膜は導波路用カルコゲナイドガラスフ
ァイバーの反射防止膜として特に好適であるが、上記フ
ァイバーに限られること無く、カルコゲナイドガラスの
レンズ、プリズム等にも利用することが可能である。
ァイバーの反射防止膜として特に好適であるが、上記フ
ァイバーに限られること無く、カルコゲナイドガラスの
レンズ、プリズム等にも利用することが可能である。
また、本発明の反射防圧膜は真空蒸肴もしくはスパッタ
ー法で成膜することが望ましい。
ー法で成膜することが望ましい。
［作 用］
本発明の２層反射防止膜において、第１層目のフッ化物
は耐環境性に若干者る。一般にカルコゲナイドガラスは
耐水性を有すると言われている。
は耐環境性に若干者る。一般にカルコゲナイドガラスは
耐水性を有すると言われている。
しかしながら発明者らが調べた結果の中で最も耐環境性
に富むＡｓとＳもしくはＡｓとＳｅの２成分系カルコゲ
ナイドガラスを第１層目のヒに積層させることにより、
耐環境性およびレーザー光に対する耐損傷性を備えた反
射防止膜となる。
に富むＡｓとＳもしくはＡｓとＳｅの２成分系カルコゲ
ナイドガラスを第１層目のヒに積層させることにより、
耐環境性およびレーザー光に対する耐損傷性を備えた反
射防止膜となる。
［実施例］
次ぎに本発明の方法を実施例に基づいて詳細に説明する
。
。
実施例１
コア組成がＧｅ？ｏＳｅｚｓＴｅｓ＋、５（ａｔｍ％）
”’Ｃある］ア・クラッド構造のカルコゲナイドガラス
ファイバーを用いた。なおこのコアガラスは波長１０６
μ風において屈折率が２．９７である。該ファイバーの
両端面に下記の様な２層反射防止膜を２×１０６Ｔｏｒ
ｒ以下の真空条件下で蒸着法によって成膜した。
”’Ｃある］ア・クラッド構造のカルコゲナイドガラス
ファイバーを用いた。なおこのコアガラスは波長１０６
μ風において屈折率が２．９７である。該ファイバーの
両端面に下記の様な２層反射防止膜を２×１０６Ｔｏｒ
ｒ以下の真空条件下で蒸着法によって成膜した。
すなわち、該カルコゲナイドガラスファイバー材料の屈
折率の平方根に近い膜材料Ｐｂ Ｆ２（１０，６μｍの
屈折率１６３）を第１層目として膜厚１３μ肌を該ファ
イバー両端面の温度を１２０℃に保ちながら成膜した。
折率の平方根に近い膜材料Ｐｂ Ｆ２（１０，６μｍの
屈折率１６３）を第１層目として膜厚１３μ肌を該ファ
イバー両端面の温度を１２０℃に保ちながら成膜した。
続いて真空を破らずに波長１０６μ肌における屈折率が
２．４０であるＡ、５２Ｓ３を第２層目として膜厚０．
１μ仇を該ファイバー両端面の温度を７０℃に保ちなが
ら成膜した。
２．４０であるＡ、５２Ｓ３を第２層目として膜厚０．
１μ仇を該ファイバー両端面の温度を７０℃に保ちなが
ら成膜した。
この結果、反射防止膜を設けていない場合と比較すると
本発明を施した反射防止膜は設計中心波長１０６μ肌に
おいて表面の反射損失が３９％から１．５％に減少した
。長さ１ｍのファイバーでＣＯ？レーザーパワー伝送テ
ストを行った結果、反射防圧膜を設けていない場合、最
大入射パワー１８３Ｗで出鋼パワー４．６Ｗ＋得たのに
対し、本発明を施したファイバーは最大入射パワー１３
．４Ｗで出鋼パワー５．７Ｗを得た。なお１１１１１ｉ
は両方とも、伝送路中で生じた。また同コア組成の基板
ガラスに該２層反射防止膜を設け、同様なＣＯ２レーザ
−パワー伝送評価を行った結果、入射パワ−３０Ｗ以上
でも破壊は生じなかったことから、該ファイバーに設け
た該２層反射防止膜も３０Ｗ以上入射しても、損傷を受
けないと考えられる。環境試験の結果、温度５５℃、湿
度９８％の環境下に１０００時間以時間−ても何等膜に
変化は観察されなかった。
本発明を施した反射防止膜は設計中心波長１０６μ肌に
おいて表面の反射損失が３９％から１．５％に減少した
。長さ１ｍのファイバーでＣＯ？レーザーパワー伝送テ
ストを行った結果、反射防圧膜を設けていない場合、最
大入射パワー１８３Ｗで出鋼パワー４．６Ｗ＋得たのに
対し、本発明を施したファイバーは最大入射パワー１３
．４Ｗで出鋼パワー５．７Ｗを得た。なお１１１１１ｉ
は両方とも、伝送路中で生じた。また同コア組成の基板
ガラスに該２層反射防止膜を設け、同様なＣＯ２レーザ
−パワー伝送評価を行った結果、入射パワ−３０Ｗ以上
でも破壊は生じなかったことから、該ファイバーに設け
た該２層反射防止膜も３０Ｗ以上入射しても、損傷を受
けないと考えられる。環境試験の結果、温度５５℃、湿
度９８％の環境下に１０００時間以時間−ても何等膜に
変化は観察されなかった。
比較例１
実施例１で用いた同じ組成のカルコゲナイドガラスファ
イバーを用い該ファイバーの両端面にファイバー材料の
屈折率の平方根に近い膜材料ＰｂＦ２を単層反射防止膜
として膜厚ｄ−λ／（４ｎ）（＝１．６μｍ）を設けた
。なお成膜条件は実施例１で述べた様に２ Ｘ １０’
ＴＯｒｒ以下の真空下で該ファイバー両端面の温度を１
２０℃に保ちながら成膜した。
イバーを用い該ファイバーの両端面にファイバー材料の
屈折率の平方根に近い膜材料ＰｂＦ２を単層反射防止膜
として膜厚ｄ−λ／（４ｎ）（＝１．６μｍ）を設けた
。なお成膜条件は実施例１で述べた様に２ Ｘ １０’
ＴＯｒｒ以下の真空下で該ファイバー両端面の温度を１
２０℃に保ちながら成膜した。
この結果、単層反射防止膜ＰｂＦｚは設計中心波長１０
．６μｍにおいて表面の反射損失が１，５％であり、本
発明を施した場合と一致した。また長さ１卯のファイバ
ーでＣＯ２レーザ−パワー伝送テストを行った結果も本
発明を施した最大入出射特性と何等変らなかったが、環
境試験の結果は温度５５℃、湿度９８％の環境下に１０
０時間以上画くと膜が変色した。
．６μｍにおいて表面の反射損失が１，５％であり、本
発明を施した場合と一致した。また長さ１卯のファイバ
ーでＣＯ２レーザ−パワー伝送テストを行った結果も本
発明を施した最大入出射特性と何等変らなかったが、環
境試験の結果は温度５５℃、湿度９８％の環境下に１０
０時間以上画くと膜が変色した。
実施例２
テフロンクラッドのＡｓ２Ｓ３ （波長５〜６μ丸の屈
折率２４０）のカルコゲナイドガラスを該ファイバーの
両端面に下記の様な２＠反射訪止膜を２ ｘ ｉｏ’以
下の真空かでｒｌｔ躾した。
折率２４０）のカルコゲナイドガラスを該ファイバーの
両端面に下記の様な２＠反射訪止膜を２ ｘ ｉｏ’以
下の真空かでｒｌｔ躾した。
第１層目に該ファイバ一端面温度を１２０℃に保ちなが
らＢａＦｚ （波長５−６μｍの屈折率１４）を膜厚
０８μ乳成膜し、続いて該ファイバ一端面温度を７０℃
に保ちながらＡｓｓを膜厚０．１μｍ成膜した。
らＢａＦｚ （波長５−６μｍの屈折率１４）を膜厚
０８μ乳成膜し、続いて該ファイバ一端面温度を７０℃
に保ちながらＡｓｓを膜厚０．１μｍ成膜した。
この結果、該２層反射防止膜は設計中心波長５．４μ風
において表面反射損失が７０％から１％以下に減少した
。また長さ１ｍのファイバーＣＯレーザーパワー伝送テ
ストを行った結果、最大出射パワー９０Ｗを得た。なお
破壊は伝送路中で生じた。環境試験の結果は温度５５℃
、湿度９８％の環境下に１００時間以上画いても何等変
化は生じなかった。
において表面反射損失が７０％から１％以下に減少した
。また長さ１ｍのファイバーＣＯレーザーパワー伝送テ
ストを行った結果、最大出射パワー９０Ｗを得た。なお
破壊は伝送路中で生じた。環境試験の結果は温度５５℃
、湿度９８％の環境下に１００時間以上画いても何等変
化は生じなかった。
比較例２
実施例２で用いた同じ組成のカルコゲナイドガフスフフ
ィバ−を用い該フフイバーの両端面に屯層反躬防止１ｌ
Ｂａ Ｆ ２としとて膜厚ｄ＝λ／（４ｎ） （＝
１．０μＴｒＬ）を設けた。この結果、該単層反射防
止膜は設計中心波長５．４μ机において表面反射損失が
７０％から約２％に減少した。また長さＩＴｒＬのファ
イバーでＣＯレーザーパワー伝送テストの結果、人出側
特性はほぼ一致しており、破壊は伝送路中で生じた、し
かし環境試験の結果、温度５５℃、湿度９８％の環境下
に２０時間置くと膜が変色した。
ィバ−を用い該フフイバーの両端面に屯層反躬防止１ｌ
Ｂａ Ｆ ２としとて膜厚ｄ＝λ／（４ｎ） （＝
１．０μＴｒＬ）を設けた。この結果、該単層反射防
止膜は設計中心波長５．４μ机において表面反射損失が
７０％から約２％に減少した。また長さＩＴｒＬのファ
イバーでＣＯレーザーパワー伝送テストの結果、人出側
特性はほぼ一致しており、破壊は伝送路中で生じた、し
かし環境試験の結果、温度５５℃、湿度９８％の環境下
に２０時間置くと膜が変色した。
実施例３
実施例２で用いた同じ組成のカルコゲナイドガラス基板
に、ρｂＦ２を第１層目としてｍ厚０７μｍを該ファイ
バー両端面の温度を１２０℃に保ちながら成膜した。続
いてＡｓ２ Ｓｌを第２１１目として［１７！％０６０
５μｍを該ファイバー両端面の温度を７０℃に保ちなが
ら成膜した。
に、ρｂＦ２を第１層目としてｍ厚０７μｍを該ファイ
バー両端面の温度を１２０℃に保ちながら成膜した。続
いてＡｓ２ Ｓｌを第２１１目として［１７！％０６０
５μｍを該ファイバー両端面の温度を７０℃に保ちなが
ら成膜した。
この結果、表面の反射損失がおよそ１％以下になった。
ＣＯレーザーパワー伝送テストの結果では入射パワー
１９３Ｗ （パワー密度：およそ６０ＫＷ／ ａｉ ）
で出射パワー１９２Ｗ！得られ、損傷は生じなかった。
１９３Ｗ （パワー密度：およそ６０ＫＷ／ ａｉ ）
で出射パワー１９２Ｗ！得られ、損傷は生じなかった。
また環境試験の結果は温度５５℃、湿度９８％の環境下
に１００時間以十置装ても何等変化は生じなかった。
に１００時間以十置装ても何等変化は生じなかった。
なお上記例において第１層目に使用したｐｂＦ２．８８
Ｆ２Ｉ）代わりＫＭにＪＦ２ 、Ｓ ｒＦ２を用い、第
２層目に使用したＡｓとＳの２成分系カルコゲナイドガ
ラス膜の代わりにＡｓとＳｅの２成分系カル」ゲナイド
ガラス躾を用い、上記記載の評衝実験を行った場合、同
様な効果が得られた。
Ｆ２Ｉ）代わりＫＭにＪＦ２ 、Ｓ ｒＦ２を用い、第
２層目に使用したＡｓとＳの２成分系カルコゲナイドガ
ラス膜の代わりにＡｓとＳｅの２成分系カル」ゲナイド
ガラス躾を用い、上記記載の評衝実験を行った場合、同
様な効果が得られた。
［発明の効果］
実施例で示した通り、本発明を施すことにより単層反射
防止膜のｇ！厚以下で耐環境性およびレーザー光に対し
耐損傷性を備えた反射防止膜が出来る。
防止膜のｇ！厚以下で耐環境性およびレーザー光に対し
耐損傷性を備えた反射防止膜が出来る。
非酸化物ガラス研究開発株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、カルコゲナイドガラスの面上にフッ化物の膜を形成
させ、その上にＡｓとＳもしくはＡｓとＳｅの２成分系
カルコゲナイドガラスを積層させたことを特徴とするカ
ルコゲナイドガラスの反射防止膜。 ２、上記積層膜の第１層を形成させるフッ化物の膜がＰ
ｂＦ＿２、ＢａＦ＿２、ＭｇＦ＿２、ＳｒＦ＿２のいず
れか１つであることを特徴とする請求項第１項記載のカ
ルコゲナイドガラスの反射防止膜。 ３、上記積層膜の第２層を形成させる２成分系カルコゲ
ナイドガラスの組成が、Ａｓ：５−４５ａｔｍ％、Ｓ：
５５−９５ａｔｍ％の範囲（組成比の合計が１００ａｔ
ｍ％）にあることを特徴とする請求項第１項記載のカル
コゲナイドガラスの反射防止膜。 ４、上記積層膜の第２層を形成させる２成分系カルコゲ
ナイドガラスの組成が、Ａｓ：５−６０ａｔｍ％、Ｓｅ
：４０−９５ａｔｍ％の範囲（組成比の合計が１００ａ
ｔｍ％）にあることを特徴とする請求項第１項記載のカ
ルコゲナイドガラスの反射防止膜。 ５、第２層の膜厚ＸがＸ≦０．５μｍ、好ましくは０．
２μｍで、かつ、第１層の膜厚Ｙが単層反射防止膜の形
態をとつた場合の光学的膜厚ｄ＝λ／（４ｎ）から膜厚
Ｘを減じたものと同等もしくは減じたものより小である
ことを特徴とする請求項第３項または第４項に記載のカ
ルコゲナイドガラスの反射防止膜。 ６、カルコゲナイドガラスの面をカルコゲナイドガラス
ファバーの端面とすることを特徴とする請求項第１項記
載のカルコゲナイドガラスの反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2032400A JPH03237401A (ja) | 1990-02-15 | 1990-02-15 | カルコゲナイドガラスの反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2032400A JPH03237401A (ja) | 1990-02-15 | 1990-02-15 | カルコゲナイドガラスの反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03237401A true JPH03237401A (ja) | 1991-10-23 |
Family
ID=12357906
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2032400A Pending JPH03237401A (ja) | 1990-02-15 | 1990-02-15 | カルコゲナイドガラスの反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03237401A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10191186B2 (en) | 2013-03-15 | 2019-01-29 | Schott Corporation | Optical bonding through the use of low-softening point optical glass for IR optical applications and products formed |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60263902A (ja) * | 1984-06-13 | 1985-12-27 | Agency Of Ind Science & Technol | 塩化カリウム用反射防止膜 |
| JPS62178901A (ja) * | 1986-02-03 | 1987-08-06 | Toray Ind Inc | 多層反射防止膜を有する光学物品 |
| JPS6415703A (en) * | 1987-07-09 | 1989-01-19 | Nikon Corp | Optical thin film for infra red ray |
-
1990
- 1990-02-15 JP JP2032400A patent/JPH03237401A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60263902A (ja) * | 1984-06-13 | 1985-12-27 | Agency Of Ind Science & Technol | 塩化カリウム用反射防止膜 |
| JPS62178901A (ja) * | 1986-02-03 | 1987-08-06 | Toray Ind Inc | 多層反射防止膜を有する光学物品 |
| JPS6415703A (en) * | 1987-07-09 | 1989-01-19 | Nikon Corp | Optical thin film for infra red ray |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10191186B2 (en) | 2013-03-15 | 2019-01-29 | Schott Corporation | Optical bonding through the use of low-softening point optical glass for IR optical applications and products formed |
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