JPH01230001A - カルコゲナイドガラスの反射防止膜 - Google Patents
カルコゲナイドガラスの反射防止膜Info
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- JPH01230001A JPH01230001A JP63054950A JP5495088A JPH01230001A JP H01230001 A JPH01230001 A JP H01230001A JP 63054950 A JP63054950 A JP 63054950A JP 5495088 A JP5495088 A JP 5495088A JP H01230001 A JPH01230001 A JP H01230001A
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- JP
- Japan
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- chalcogenide glass
- film
- reflection preventing
- preventing film
- reflection
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- Pending
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Landscapes
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はカルコゲナイドガラスの反射防止膜、特にＣＯ
２レーザ−（波長１０．６μ７７Ｌ）光の伝送路として
使用されるカル：１ゲナイドガラスフアイバーの端面に
設ける反印１防止膜に関りるものである。
２レーザ−（波長１０．６μ７７Ｌ）光の伝送路として
使用されるカル：１ゲナイドガラスフアイバーの端面に
設ける反印１防止膜に関りるものである。
し従来の技術と発明が解決しようとする課題］従来、Ｃ
Ｏ２レー１１−光などの赤外線を透過するｌｉｔとして
はＫＣＩ！、通常ＫＲ８５と呼ばれてい６Ｔｆ［−Ｔｅ
Ｂｒなどのハロゲン化物結晶材料が知られている。
Ｏ２レー１１−光などの赤外線を透過するｌｉｔとして
はＫＣＩ！、通常ＫＲ８５と呼ばれてい６Ｔｆ［−Ｔｅ
Ｂｒなどのハロゲン化物結晶材料が知られている。
このＫＣｆ結晶材料に対する反射防止膜としてはＡＳ２
Ｓ３ ／Ｐｂｚ Ｆ／ΔＳ’２Ｓ３などが紹介されて
いる（［レーザー研究Ｊ 、１３［２］、Ｐｌｌ−２０
１ど（相６０年）。また、ＫＲ８５に対しては、反射防
止膜としては△Ｓ ２ Ｓ ｅ ］ ／ Ｐ ｂＦ ２
又はＫＣ２／ＡＳ２ Ｓｅｚ 、又はＡｓ２Ｓ３の３
層膜が紹介されている（［光学技術］ンタクトＪ ）
２５［１］、Ｐ４４−５２（１９８７）。
Ｓ３ ／Ｐｂｚ Ｆ／ΔＳ’２Ｓ３などが紹介されて
いる（［レーザー研究Ｊ 、１３［２］、Ｐｌｌ−２０
１ど（相６０年）。また、ＫＲ８５に対しては、反射防
止膜としては△Ｓ ２ Ｓ ｅ ］ ／ Ｐ ｂＦ ２
又はＫＣ２／ＡＳ２ Ｓｅｚ 、又はＡｓ２Ｓ３の３
層膜が紹介されている（［光学技術］ンタクトＪ ）
２５［１］、Ｐ４４−５２（１９８７）。
一方、その伯の赤外透過材料としては、カルコゲナイド
ガラスがある。このカルコゲナイドガラスはＣＯ２レー
ザーなど１０．６μｍの波長の光まで通す上、他の結晶
性のＵ Ｉｔに比較して、ファイバーに紡糸することが
容易であるという長所を有している。しかしながら、こ
のカルコゲナイドガラスをＣＯ２レーザー光用の透過材
料として使用しようとするとＴｅの吊を多くしなければ
ならず、屈折率が非常に高くなり、結果として端面にお
ける反射が非常に高くなってしまう。例えば、カルコゲ
ナイドガラスの屈折率を３０とした場合、反則率Ｒ＝
（ｎ−１／ｎ＋１）’ ＝ ０．２５ （片面）多車
反、１）１率Ｒｍ＝２Ｒ／１＋Ｒ＝ ０．４となり、入
射と出射を合わせると実に４０％にも及ぶ反（ト）損失
が出てしまう。
ガラスがある。このカルコゲナイドガラスはＣＯ２レー
ザーなど１０．６μｍの波長の光まで通す上、他の結晶
性のＵ Ｉｔに比較して、ファイバーに紡糸することが
容易であるという長所を有している。しかしながら、こ
のカルコゲナイドガラスをＣＯ２レーザー光用の透過材
料として使用しようとするとＴｅの吊を多くしなければ
ならず、屈折率が非常に高くなり、結果として端面にお
ける反射が非常に高くなってしまう。例えば、カルコゲ
ナイドガラスの屈折率を３０とした場合、反則率Ｒ＝
（ｎ−１／ｎ＋１）’ ＝ ０．２５ （片面）多車
反、１）１率Ｒｍ＝２Ｒ／１＋Ｒ＝ ０．４となり、入
射と出射を合わせると実に４０％にも及ぶ反（ト）損失
が出てしまう。
このカルコゲナイドガラスに従来の結晶性の赤外透過材
料に施される反射防止膜を付けても十分反ｑ４率を下げ
ることはできない。カルコゲナイドガラスの屈折率が３
．０以上になるのに対して、ＫＣｌではその屈折率が１
．４５ 、 Ｋ ＲＳ ５では２．３７であることを考
えるとこれは当然のことと言えよう。
料に施される反射防止膜を付けても十分反ｑ４率を下げ
ることはできない。カルコゲナイドガラスの屈折率が３
．０以上になるのに対して、ＫＣｌではその屈折率が１
．４５ 、 Ｋ ＲＳ ５では２．３７であることを考
えるとこれは当然のことと言えよう。
本発明の］］的は、赤外透過材料どしてカルコゲナイド
ガラスを使用した場合、このカルコゲナイドガラスに密
着性の良い適した反則防止膜を提供することにあり、し
かも反（ト）損失は２％以下に押さえることのできる反
則防止膜を得ることにある。
ガラスを使用した場合、このカルコゲナイドガラスに密
着性の良い適した反則防止膜を提供することにあり、し
かも反（ト）損失は２％以下に押さえることのできる反
則防止膜を得ることにある。
［課題を解決するための手段１
本発明は上記目的を達成するため、多層反射膜にＪ３け
る各層をカル」ゲナイドガラスとづることにより、カル
ニ」ゲナイドガラス透過＋４１＋に最適の反射防止膜を
得るように１）たちのである。
る各層をカル」ゲナイドガラスとづることにより、カル
ニ」ゲナイドガラス透過＋４１＋に最適の反射防止膜を
得るように１）たちのである。
一般に、反射防止膜は低屈折率膜と高屈折率膜をそれぞ
れ組み合わせることにより得られるが、本発明ではｌ”
ｅを含むカルコゲナイドガラス膜を高屈折率膜とするこ
とを特徴とする。
れ組み合わせることにより得られるが、本発明ではｌ”
ｅを含むカルコゲナイドガラス膜を高屈折率膜とするこ
とを特徴とする。
さらに最適な膜として高１１口析率膜をＧｅ−ＡＳ−３
ｅ −Ｔｅ系とし、低屈折率膜をＧｅ−８ｃ系とするこ
とが望ましい。
ｅ −Ｔｅ系とし、低屈折率膜をＧｅ−８ｃ系とするこ
とが望ましい。
組み合わせる膜の数は一般に多くなれば、反閉１率は低
下づるが、４層を超えると製造］ストの割には反射率の
低下は余り望めない。
下づるが、４層を超えると製造］ストの割には反射率の
低下は余り望めない。
本発明においては、この反射防止膜はＣＯ２レーザー光
導波路用のカル二］ゲナイドガラスファイバーの端面に
つけることを主眼点としているが、ファイバーに限られ
ることなく、赤外透過性のカルコゲナイドガラスのレン
ズ、プリズムにも使用できることは言うまでもない。
導波路用のカル二］ゲナイドガラスファイバーの端面に
つけることを主眼点としているが、ファイバーに限られ
ることなく、赤外透過性のカルコゲナイドガラスのレン
ズ、プリズムにも使用できることは言うまでもない。
これらの膜は真空蒸着法又はスパッター法によって得る
ことができる。
ことができる。
［作 用］
このように本発明の反射防止膜は、赤外透過材料にカル
コゲナイドガラスを用いた場合、反射防止膜として同種
のカルコゲナイドガラスを使用するため、基板（赤外透
過材料）と反射防止膜、あるいは各膜同士のあいだに化
学的な結合が生じ、強固な膜を得ることができる。又、
基板と反射防止膜あるいは各膜間土間に大きな膨張率の
差が僅かなため、光学的に悪影響を及ぼす歪みを生ずる
こともない。この膨張率の差が少ないということは基板
と反射防止膜あるいは各膜同士の結合に対しても良好な
効果を及ぼＶ。
コゲナイドガラスを用いた場合、反射防止膜として同種
のカルコゲナイドガラスを使用するため、基板（赤外透
過材料）と反射防止膜、あるいは各膜同士のあいだに化
学的な結合が生じ、強固な膜を得ることができる。又、
基板と反射防止膜あるいは各膜間土間に大きな膨張率の
差が僅かなため、光学的に悪影響を及ぼす歪みを生ずる
こともない。この膨張率の差が少ないということは基板
と反射防止膜あるいは各膜同士の結合に対しても良好な
効果を及ぼＶ。
［実施例１
次に本発明の実施例を示す。
基板材料としてＧｅ２０、Ａｓ１５．５ｅ１５、Ｔ ｅ
５０ （原子％）からなるカルコゲナイドガラスを用
いた。この材料の屈折率は３．１である。
５０ （原子％）からなるカルコゲナイドガラスを用
いた。この材料の屈折率は３．１である。
この材料に下記の構成を持つ反射防止膜を６×１０””
Ｔｏｒｒで真空蒸着法によって付番プられた。
Ｔｏｒｒで真空蒸着法によって付番プられた。
第１層としてＧｅ２０．３ ｅ ８０ （屈折率２．４
１ ）を膜厚２．６５μ肌で、第２層としてＧｅ２０、
Ａｓ１０．５ｃ１０．１−ｅ６０（屈折率３．３０ ）
を膜厚２．６５μｍでそれぞれ蒸着した。ここで、置板
に最も近い膜を第１層とし、離れるにしたがって、第２
層、第３層と呼んでいる。
１ ）を膜厚２．６５μ肌で、第２層としてＧｅ２０、
Ａｓ１０．５ｃ１０．１−ｅ６０（屈折率３．３０ ）
を膜厚２．６５μｍでそれぞれ蒸着した。ここで、置板
に最も近い膜を第１層とし、離れるにしたがって、第２
層、第３層と呼んでいる。
こうして１ｑられた反射防止膜の反射損失を測定したと
ころ、１０．６μｍの波長で１．８％に押さえられるこ
とを確認した。
ころ、１０．６μｍの波長で１．８％に押さえられるこ
とを確認した。
［発明の効果コ
実施例からも解るように本発明の反則防止膜をカルコゲ
ナイドガラス性の透過材料に付けた場合、通常２５％以
上の反射に１失が生ずるか、これを２％以下に押さえる
ことが可能となった。また、この反射防止膜と基板は同
じ、カルコゲナイドガラスであるため、化学的な結合を
生じ、強固な膜を得ることができるほか、膨張率の差か
らくる歪みを生じさけることもない。
ナイドガラス性の透過材料に付けた場合、通常２５％以
上の反射に１失が生ずるか、これを２％以下に押さえる
ことが可能となった。また、この反射防止膜と基板は同
じ、カルコゲナイドガラスであるため、化学的な結合を
生じ、強固な膜を得ることができるほか、膨張率の差か
らくる歪みを生じさけることもない。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 複数の層からなり、各層のすべてがカルコゲナイド
ガラスであることを特徴とするカルコゲナイドガラスの
反射防止膜。 ２ カルコゲナイドガラスの膜のうち高屈折率膜がＴｅ
を含むカルコゲナイドガラスであることを特徴とする第
１項記載のカルコゲナイドガラスの反射防止膜。 ３ カルコゲナイドガラスの膜のうち高屈折率膜をＧｅ
−Ａｓ−Ｓｅ−Ｔｅ系、低屈折率膜をＧｅ−Ｓｅ系とし
たことを特徴とする第２項記載のカルコゲナイドガラス
の反射防止膜。 ４ カルコゲナイドガラスの膜の各層がカルコゲナイド
ガラスフアイバーの端面に設けられていることを特徴と
する第１項記載のカルコゲナイドガラスの反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63054950A JPH01230001A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | カルコゲナイドガラスの反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63054950A JPH01230001A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | カルコゲナイドガラスの反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01230001A true JPH01230001A (ja) | 1989-09-13 |
Family
ID=12984943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63054950A Pending JPH01230001A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | カルコゲナイドガラスの反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01230001A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03229201A (ja) * | 1990-02-02 | 1991-10-11 | Hisankabutsu Glass Kenkyu Kaihatsu Kk | カルコゲナイドガラスの反射防止膜の製造方法 |
| WO2019054145A1 (ja) * | 2017-09-12 | 2019-03-21 | 日本電気硝子株式会社 | カルコゲナイドガラス材 |
| WO2020105719A1 (ja) * | 2018-11-21 | 2020-05-28 | 日本電気硝子株式会社 | カルコゲナイドガラスレンズ |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60263902A (ja) * | 1984-06-13 | 1985-12-27 | Agency Of Ind Science & Technol | 塩化カリウム用反射防止膜 |
| JPS6214605A (ja) * | 1985-07-12 | 1987-01-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光フアイバ |
-
1988
- 1988-03-10 JP JP63054950A patent/JPH01230001A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60263902A (ja) * | 1984-06-13 | 1985-12-27 | Agency Of Ind Science & Technol | 塩化カリウム用反射防止膜 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH03229201A (ja) * | 1990-02-02 | 1991-10-11 | Hisankabutsu Glass Kenkyu Kaihatsu Kk | カルコゲナイドガラスの反射防止膜の製造方法 |
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| JP2019048752A (ja) * | 2017-09-12 | 2019-03-28 | 日本電気硝子株式会社 | カルコゲナイドガラス材 |
| CN111094201A (zh) * | 2017-09-12 | 2020-05-01 | 日本电气硝子株式会社 | 硫属化物玻璃材料 |
| US11643357B2 (en) | 2017-09-12 | 2023-05-09 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Chalcogenide glass material |
| WO2020105719A1 (ja) * | 2018-11-21 | 2020-05-28 | 日本電気硝子株式会社 | カルコゲナイドガラスレンズ |
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