JPH0323610B2 - - Google Patents
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- JPH0323610B2 JPH0323610B2 JP16890584A JP16890584A JPH0323610B2 JP H0323610 B2 JPH0323610 B2 JP H0323610B2 JP 16890584 A JP16890584 A JP 16890584A JP 16890584 A JP16890584 A JP 16890584A JP H0323610 B2 JPH0323610 B2 JP H0323610B2
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- Japan
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- mirror
- laser beam
- vibrating
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- rotating
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- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 10
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Description
本発明は、高出力パルスレーザービームにより
被処理物体、例えば電磁鋼板の磁気特性を向上さ
せるようにしたレーザービーム走査処理装置に関
する。
被処理物体、例えば電磁鋼板の磁気特性を向上さ
せるようにしたレーザービーム走査処理装置に関
する。
方向性電磁鋼板の表面にYAGレーザー等の高
出力パルスレーザービームを照射することによつ
て、電磁鋼板（以下鋼板という）の磁気特性を改
善できる技術は特公昭57−2252号公報等によつて
公知である。しかし、このような従来の技術を工
業的規模で実施する際には種々の解決すべき問題
があり、特に、レーザー走査機構に振動ミラーを
使用する場合には、走査の直線性と複数の振動ミ
ラーによる走査長さの制御及びレーザー装置の台
数の削減方法が問題であつた。
出力パルスレーザービームを照射することによつ
て、電磁鋼板（以下鋼板という）の磁気特性を改
善できる技術は特公昭57−2252号公報等によつて
公知である。しかし、このような従来の技術を工
業的規模で実施する際には種々の解決すべき問題
があり、特に、レーザー走査機構に振動ミラーを
使用する場合には、走査の直線性と複数の振動ミ
ラーによる走査長さの制御及びレーザー装置の台
数の削減方法が問題であつた。
例えば、幅の広い鋼板をレーザー照射するため
には、振動ミラーの走査幅の制限から多数の振動
ミラーが必要であつて、レーザーの台数を削減す
ることは困難であつた。また、振動ミラーは一般
に第５図Ａの曲線l1に示すような鋸歯状信号によ
つて曲線l2に示す如く正弦波駆動する場合が多
い。第５図Ａにおいて、θは振動ミラー角度、ｖ
は駆動信号電圧、ｔは時間を示す。 振動ミラーを第５図Ａのように駆動する場合
は、振動周波数を高くできないこと、及び曲線l2
のように過渡現象により非直線部分が必ず存在す
る問題があつた。また、振動周波数を高くするた
めに、第５図Ｂの曲線l3に示すように正弦波信号
で駆動した場合は、直線性の得られる範囲が狭く
なることや走査軌跡が平行にならない等の問題が
あつた。さらに、第６図に示すように、隣接する
振動ミラーによる鋼板１０上の走査軌跡１５ａ，
１５ｂの重なり具合を適正に調節することも端部
の非直線性のため問題があつた。
には、振動ミラーの走査幅の制限から多数の振動
ミラーが必要であつて、レーザーの台数を削減す
ることは困難であつた。また、振動ミラーは一般
に第５図Ａの曲線l1に示すような鋸歯状信号によ
つて曲線l2に示す如く正弦波駆動する場合が多
い。第５図Ａにおいて、θは振動ミラー角度、ｖ
は駆動信号電圧、ｔは時間を示す。 振動ミラーを第５図Ａのように駆動する場合
は、振動周波数を高くできないこと、及び曲線l2
のように過渡現象により非直線部分が必ず存在す
る問題があつた。また、振動周波数を高くするた
めに、第５図Ｂの曲線l3に示すように正弦波信号
で駆動した場合は、直線性の得られる範囲が狭く
なることや走査軌跡が平行にならない等の問題が
あつた。さらに、第６図に示すように、隣接する
振動ミラーによる鋼板１０上の走査軌跡１５ａ，
１５ｂの重なり具合を適正に調節することも端部
の非直線性のため問題があつた。
本発明は上記の問題点を解決したものであつ
て、必要なレーザーの台数を削減し、走査の直線
性を高め、かつ隣接する走査の重なり具合も自由
に調節でき、高出力パルスレーザー走査システム
の効率、信頼性、性能、及びコスト等の点を著し
く改善することを目的としている。しかして、本
発明の目的はレーザー光源から出射されるレーザ
ービームを複数方向に時分割するための回転分割
ミラーを含む光路選択部と、上記回転分割ミラー
によつて時分割されたレーザービームを走査する
複数の振動ミラーからなるレーザービーム走査部
と、上記回転分割ミラーの回転角度と上記振動ミ
ラーの角度の関係を制御する位相制御部と、この
位相制御部の制御出力信号に関連して上記振動ミ
ラーの振幅を制御する振幅制御部と、走査された
レーザービームを被処理物体上に集束させる光学
系と、上記被処理物体の移動速度に対応して上記
回転分割ミラーの回転数と上記振動ミラーの振動
周波数を制御する制御部とによつて構成したレー
ザービーム走査処理装置により達成され、上記被
処理物体上に任意のピツチ及び走査幅でレーザー
ビームを有効に照射できるものである。
て、必要なレーザーの台数を削減し、走査の直線
性を高め、かつ隣接する走査の重なり具合も自由
に調節でき、高出力パルスレーザー走査システム
の効率、信頼性、性能、及びコスト等の点を著し
く改善することを目的としている。しかして、本
発明の目的はレーザー光源から出射されるレーザ
ービームを複数方向に時分割するための回転分割
ミラーを含む光路選択部と、上記回転分割ミラー
によつて時分割されたレーザービームを走査する
複数の振動ミラーからなるレーザービーム走査部
と、上記回転分割ミラーの回転角度と上記振動ミ
ラーの角度の関係を制御する位相制御部と、この
位相制御部の制御出力信号に関連して上記振動ミ
ラーの振幅を制御する振幅制御部と、走査された
レーザービームを被処理物体上に集束させる光学
系と、上記被処理物体の移動速度に対応して上記
回転分割ミラーの回転数と上記振動ミラーの振動
周波数を制御する制御部とによつて構成したレー
ザービーム走査処理装置により達成され、上記被
処理物体上に任意のピツチ及び走査幅でレーザー
ビームを有効に照射できるものである。
以下に、本発明の一実施例を第１図〜第４図を
参照しながら説明する。 第１図は本発明の実施例に係るレーザービーム
走査処理装置を示し、１はYAGレーザー等の高
出力パルスレーザー光源、２は光路選択部であつ
て、この光路選択部２は光路切替部材、例えば回
転分割ミラー３と、この回転分割ミラー３を回転
駆動する回転駆動部、例えばモータ４からなる。 回転分割ミラー３は第２図に示すように回転板
３１と、この回転板３１の外縁部に円周方向に沿
つてほぼ等間隔に取付けた反射部材、例えば平面
鏡３２ａ〜３２ｄによつて構成されている。ま
た、５は回転分割ミラー３を透過または反射した
レーザービームの光路上に配置された第１の光路
変更部で、この第１の光路変更部５はレーザービ
ームの直進路上に設けた平面鏡５ａと、回転分割
ミラー３によつて反射された反射光路上に設けた
平面鏡５ｂとによつて構成される。６は第２の光
路変更部で平面鏡５ａによる反射光路上に設けた
平面鏡６ａと、平面鏡５ｂによる反射光路上に設
けた平面鏡６ｂとによつて構成されている。７は
レーザービーム走査部で、第２の光路変更部６の
平面鏡６ａによつて反射したレーザービームの光
路上に設けた第１の振動ミラー７ａと、平面鏡６
ｂによつて反射したレーザービームの光路上に設
けた第２の振動ミラー７ｂからなる。振動ミラー
７ａの走査光路上には第１のｆ−θレンズ８ａ
を、また振動ミラー７ｂの走査光路上には第２の
ｆ−θレンズ８ｂをそれぞれ設け、これら第１の
ｆ−θレンズ８ａと第２のｆ−θレンズ８ｂは集
束部８を構成し、レーザービームは被処理物体で
ある鋼板１０の表面をスポツト９ａ，９ｂで走査
する仕組になつている。 しかして、平面鏡５ａ，６ａ、振動ミラー７ａ
及びｆ−θレンズ８ａは第１の光学系を、また、
平面鏡５ｂ，６ｂ、振動ミラー７ｂ及びｆ−θレ
ンズ８ｂは第２の光学系をそれぞれ形成する。さ
らに、１１はモータ４の回転角度を検出する回転
角度検出器、１２は鋼板１０の移動速度信号S1と
回転角度検出器１１の検出信号S2を入力として、
モータ４の回転を制御する回転制御装置である。
１３ａ，１３ｂは回転角度検出器１１の検出信号
S2を入力とする第１、第２の位相制御部、１４
ａ，１４ｂは第１、第２の位相制御部１３ａ，１
３ｂの位相制御部S4a，S4bを入力とする第１、
第２の振幅制御部であつて、第１の振幅制御部１
４ａはその振幅制御信号S5aによつて第１の振動
ミラー７ａの振幅を制御し、第２の振幅制御部１
４ａはその振幅制御信号S5aによつて第２の振動
ミラー７ｂの振幅を制御する。 上記構成のレーザービーム走査処理装置におい
て、レーザー光源１から出射されたレーザービー
ム１８は光路選択部２の回転分割ミラー３によつ
て時分割的に透過、反射の切替が行なわれる。レ
ーザービーム１８が回転分割ミラー３の平面鏡３
２ａ〜３２ｄに当らなければ透過し、平面鏡３２
ａ〜３２ｄに当れば反射する。レーザービーム１
８の直径が十分小さければ透過と反射の切替が効
率よく行なわれる。レーザービーム１８の直径が
十分小さくない場合には、レンズ１６で集束さ
せ、再び透過ビーム１９ａと反射ビーム１９ｂを
それぞれレンズ１７ａ，１７ｂによつて平行にす
ると効果がある。この場合、レンズ１７ａ，１７
ｂを透過した後のビーム径をより大きくして以後
の光学系の結像性能を高めることも可能であり、
また、レンズの代りに放物面鏡を組合せることも
可能である。回転分割ミラー３によつて時分割さ
れたレーザービームのうち、透過ビーム１９ａは
平面鏡５ａ，６ａを経て振動ミラー７ａによつて
走査され、ｆ−θレンズ８ａによつて鋼板１０の
表面に微小なスポツト９ａで走査し、反射ビーム
１９ｂは平面鏡５ｂ，６ｂを経て振動ミラー７ｂ
によつて走査され、ｆ−θレンズ８ｂによつて鋼
板１０の表面にスポツト９ｂで走査することにな
る。 一方、回転分解ミラー３の回転数は鋼板１０の
移動速度信号S1を基準に回転制御装置１２によつ
て制御されると共に、回転角度検出器１１の検出
信号S2を基準に、回転分割ミラー３の回転角度と
振動ミラー７ａ及び７ｂの振れ角が特定の位相関
係になるように位相制御部１３ａ及び１３ｂによ
つて制御される。位相制御部１３ａ，１３ｂの出
力信号S4a，S4bは回転分割ミラー３の回転角度
と特定の位相関係にある鋸歯状波となるが、さら
に第１、第２の振幅制御部１４ａ，１４ｂによつ
て振幅が制御され、その制御出力信号S5a，S5b
によつて第１、第２の振動ミラー７ａ，７ｂの振
幅も制御されることになる。回転分割ミラー３を
透過するビーム１９ａの強度は第３図Ａの曲線
l4aのように変化し、反射するビーム１９ｂの強
度は第３図Ｂの曲線l4bのように変化する。また、
これらのビーム切替えタイミングと特定の位相関
係にある第１振動ミラー７ａは第３図Ｃに示す鋸
歯状波信号l1aで制御され曲線l2aのように駆動さ
れる。第２の振動ミラー７ｂは第３図Ｄの曲線
l1b，l2bのように駆動制御される。ここで、各々
の鋸歯状波信号l1a，l1bで駆動された振動ミラー
７ａ，７ｂは過渡特性により曲線l2a，l2bのよう
に各周期の初期の部分で直線性が悪くなるが、振
動ミラーにレーザービームが当るタイミングは回
転分割ミラー３によつて制御されるため、最終的
なレーザービームの走査は第３図Ｅのl5a，l5bの
ように直線性の良い部分が使用される。すなわ
ち、第３図Ｅで直線l5a、は第１の振動ミラー７
ａの走査特性、l5bは第２の振動ミラー７ｂの駆
動特性である。このような走査によつて、実際の
鋼板上の走査は第４図の走査軌跡４０ａのように
直線性、平行性とともに良好なものとなる。 さらに振幅制御部１４ａ，１４ｂによつて第３
図Ｆの直線l6a，l6bおよび第４図の走査軌跡４０
ｂのようになり、複数の振動ミラーによる走査を
最適に組合せることが可能となる。 なお、上述の実施例では振動ミラーが２個の場
合について述べたが、さらに多くの振動ミラーを
使用した場合も同様の効果が得られるものであ
る。
参照しながら説明する。 第１図は本発明の実施例に係るレーザービーム
走査処理装置を示し、１はYAGレーザー等の高
出力パルスレーザー光源、２は光路選択部であつ
て、この光路選択部２は光路切替部材、例えば回
転分割ミラー３と、この回転分割ミラー３を回転
駆動する回転駆動部、例えばモータ４からなる。 回転分割ミラー３は第２図に示すように回転板
３１と、この回転板３１の外縁部に円周方向に沿
つてほぼ等間隔に取付けた反射部材、例えば平面
鏡３２ａ〜３２ｄによつて構成されている。ま
た、５は回転分割ミラー３を透過または反射した
レーザービームの光路上に配置された第１の光路
変更部で、この第１の光路変更部５はレーザービ
ームの直進路上に設けた平面鏡５ａと、回転分割
ミラー３によつて反射された反射光路上に設けた
平面鏡５ｂとによつて構成される。６は第２の光
路変更部で平面鏡５ａによる反射光路上に設けた
平面鏡６ａと、平面鏡５ｂによる反射光路上に設
けた平面鏡６ｂとによつて構成されている。７は
レーザービーム走査部で、第２の光路変更部６の
平面鏡６ａによつて反射したレーザービームの光
路上に設けた第１の振動ミラー７ａと、平面鏡６
ｂによつて反射したレーザービームの光路上に設
けた第２の振動ミラー７ｂからなる。振動ミラー
７ａの走査光路上には第１のｆ−θレンズ８ａ
を、また振動ミラー７ｂの走査光路上には第２の
ｆ−θレンズ８ｂをそれぞれ設け、これら第１の
ｆ−θレンズ８ａと第２のｆ−θレンズ８ｂは集
束部８を構成し、レーザービームは被処理物体で
ある鋼板１０の表面をスポツト９ａ，９ｂで走査
する仕組になつている。 しかして、平面鏡５ａ，６ａ、振動ミラー７ａ
及びｆ−θレンズ８ａは第１の光学系を、また、
平面鏡５ｂ，６ｂ、振動ミラー７ｂ及びｆ−θレ
ンズ８ｂは第２の光学系をそれぞれ形成する。さ
らに、１１はモータ４の回転角度を検出する回転
角度検出器、１２は鋼板１０の移動速度信号S1と
回転角度検出器１１の検出信号S2を入力として、
モータ４の回転を制御する回転制御装置である。
１３ａ，１３ｂは回転角度検出器１１の検出信号
S2を入力とする第１、第２の位相制御部、１４
ａ，１４ｂは第１、第２の位相制御部１３ａ，１
３ｂの位相制御部S4a，S4bを入力とする第１、
第２の振幅制御部であつて、第１の振幅制御部１
４ａはその振幅制御信号S5aによつて第１の振動
ミラー７ａの振幅を制御し、第２の振幅制御部１
４ａはその振幅制御信号S5aによつて第２の振動
ミラー７ｂの振幅を制御する。 上記構成のレーザービーム走査処理装置におい
て、レーザー光源１から出射されたレーザービー
ム１８は光路選択部２の回転分割ミラー３によつ
て時分割的に透過、反射の切替が行なわれる。レ
ーザービーム１８が回転分割ミラー３の平面鏡３
２ａ〜３２ｄに当らなければ透過し、平面鏡３２
ａ〜３２ｄに当れば反射する。レーザービーム１
８の直径が十分小さければ透過と反射の切替が効
率よく行なわれる。レーザービーム１８の直径が
十分小さくない場合には、レンズ１６で集束さ
せ、再び透過ビーム１９ａと反射ビーム１９ｂを
それぞれレンズ１７ａ，１７ｂによつて平行にす
ると効果がある。この場合、レンズ１７ａ，１７
ｂを透過した後のビーム径をより大きくして以後
の光学系の結像性能を高めることも可能であり、
また、レンズの代りに放物面鏡を組合せることも
可能である。回転分割ミラー３によつて時分割さ
れたレーザービームのうち、透過ビーム１９ａは
平面鏡５ａ，６ａを経て振動ミラー７ａによつて
走査され、ｆ−θレンズ８ａによつて鋼板１０の
表面に微小なスポツト９ａで走査し、反射ビーム
１９ｂは平面鏡５ｂ，６ｂを経て振動ミラー７ｂ
によつて走査され、ｆ−θレンズ８ｂによつて鋼
板１０の表面にスポツト９ｂで走査することにな
る。 一方、回転分解ミラー３の回転数は鋼板１０の
移動速度信号S1を基準に回転制御装置１２によつ
て制御されると共に、回転角度検出器１１の検出
信号S2を基準に、回転分割ミラー３の回転角度と
振動ミラー７ａ及び７ｂの振れ角が特定の位相関
係になるように位相制御部１３ａ及び１３ｂによ
つて制御される。位相制御部１３ａ，１３ｂの出
力信号S4a，S4bは回転分割ミラー３の回転角度
と特定の位相関係にある鋸歯状波となるが、さら
に第１、第２の振幅制御部１４ａ，１４ｂによつ
て振幅が制御され、その制御出力信号S5a，S5b
によつて第１、第２の振動ミラー７ａ，７ｂの振
幅も制御されることになる。回転分割ミラー３を
透過するビーム１９ａの強度は第３図Ａの曲線
l4aのように変化し、反射するビーム１９ｂの強
度は第３図Ｂの曲線l4bのように変化する。また、
これらのビーム切替えタイミングと特定の位相関
係にある第１振動ミラー７ａは第３図Ｃに示す鋸
歯状波信号l1aで制御され曲線l2aのように駆動さ
れる。第２の振動ミラー７ｂは第３図Ｄの曲線
l1b，l2bのように駆動制御される。ここで、各々
の鋸歯状波信号l1a，l1bで駆動された振動ミラー
７ａ，７ｂは過渡特性により曲線l2a，l2bのよう
に各周期の初期の部分で直線性が悪くなるが、振
動ミラーにレーザービームが当るタイミングは回
転分割ミラー３によつて制御されるため、最終的
なレーザービームの走査は第３図Ｅのl5a，l5bの
ように直線性の良い部分が使用される。すなわ
ち、第３図Ｅで直線l5a、は第１の振動ミラー７
ａの走査特性、l5bは第２の振動ミラー７ｂの駆
動特性である。このような走査によつて、実際の
鋼板上の走査は第４図の走査軌跡４０ａのように
直線性、平行性とともに良好なものとなる。 さらに振幅制御部１４ａ，１４ｂによつて第３
図Ｆの直線l6a，l6bおよび第４図の走査軌跡４０
ｂのようになり、複数の振動ミラーによる走査を
最適に組合せることが可能となる。 なお、上述の実施例では振動ミラーが２個の場
合について述べたが、さらに多くの振動ミラーを
使用した場合も同様の効果が得られるものであ
る。
以上説明したように、本発明によれば高出力の
レーザービームにより被処理物体、例えば電磁鋼
板の磁気特性を向上させる装置において、同じ数
の振動ミラーを半分の数のレーザーで駆動できる
とともに、走査の直線性を高め、また、隣接する
振動ミラーによる走査の重なり具合いを適正に調
節することが可能となり、高出力レーザー走査シ
ステムの効率、信頼性、性能及びコストの面でも
著しく改善することができる効果がある。
レーザービームにより被処理物体、例えば電磁鋼
板の磁気特性を向上させる装置において、同じ数
の振動ミラーを半分の数のレーザーで駆動できる
とともに、走査の直線性を高め、また、隣接する
振動ミラーによる走査の重なり具合いを適正に調
節することが可能となり、高出力レーザー走査シ
ステムの効率、信頼性、性能及びコストの面でも
著しく改善することができる効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す構成概略図、
第２図は回転分割ミラーの正面図、第３図Ａ〜Ｆ
は第１図に示した装置の各部の特性図、第４図は
同上装置の走査処理特性図、第５図Ａ，Ｂは従来
のレーザービーム走査処理装置の特性図、第６図
は従来のレーザービーム走査処理装置の走査処理
特性図である。 図中、１はレーザー光源、２は光路選択部、３
は回転分割ミラー、５は第１の光路変更部、５
ａ，５ｂは平面鏡、６は第２の光路変更部、６
ａ，６ｂは平面鏡、７はレーザービーム走査部、
７ａ，７ｂは振動ミラー、８は集束部、８ａ，８
ｂはｆ−θレンズ、１０は被処理物体である電磁
鋼板、１１は回転角度検出器、１２は回転制御装
置、１３ａ，１３ｂは位相制御部、１４ａ，１４
ｂは振幅制御部である。
第２図は回転分割ミラーの正面図、第３図Ａ〜Ｆ
は第１図に示した装置の各部の特性図、第４図は
同上装置の走査処理特性図、第５図Ａ，Ｂは従来
のレーザービーム走査処理装置の特性図、第６図
は従来のレーザービーム走査処理装置の走査処理
特性図である。 図中、１はレーザー光源、２は光路選択部、３
は回転分割ミラー、５は第１の光路変更部、５
ａ，５ｂは平面鏡、６は第２の光路変更部、６
ａ，６ｂは平面鏡、７はレーザービーム走査部、
７ａ，７ｂは振動ミラー、８は集束部、８ａ，８
ｂはｆ−θレンズ、１０は被処理物体である電磁
鋼板、１１は回転角度検出器、１２は回転制御装
置、１３ａ，１３ｂは位相制御部、１４ａ，１４
ｂは振幅制御部である。
Claims (1)
- １ レーザー光源から出射されるレーザービーム
を複数方向に時分割するための回転分割ミラーを
含む光路選択部と、上記回転分割ミラーによつて
時分割されたレーザービームを走査する複数の振
動ミラーからなるレーザービーム走査部と、上記
回転分割ミラーの回転角度と上記振動ミラーの角
度の関係を制御する位相制御部と、この位相制御
部の制御出力信号に関連して上記振動ミラーの振
幅を制御する振幅制御部と、走査されたレーザー
ビームを被処理物体上に集束させる光学系と、上
記被処理物体の移動速度に対応して上記回転分割
ミラーの回転数と上記振動ミラーの振動周波数を
制御する制御部とによつて構成したことを特徴と
するレーザービーム走査処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16890584A JPS6148528A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | レ−ザ−ビ−ム走査処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16890584A JPS6148528A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | レ−ザ−ビ−ム走査処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6148528A JPS6148528A (ja) | 1986-03-10 |
| JPH0323610B2 true JPH0323610B2 (ja) | 1991-03-29 |
Family
ID=15876733
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16890584A Granted JPS6148528A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | レ−ザ−ビ−ム走査処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6148528A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63222483A (ja) * | 1987-03-12 | 1988-09-16 | Toshiba Corp | レ−ザパルス発生装置 |
| CN102095688B (zh) * | 2011-03-08 | 2012-07-18 | 中国人民解放军总装备部工程兵科研一所 | 一种用于材料激光性能的测量设备 |
| CN104011231A (zh) | 2011-12-27 | 2014-08-27 | 杰富意钢铁株式会社 | 取向性电磁钢板的铁损改善装置 |
| CN110106320B (zh) * | 2019-05-07 | 2020-09-11 | 南京苏星智能装备有限公司 | 一种智能多头取向硅钢激光刻痕装备及其控制方法 |
-
1984
- 1984-08-14 JP JP16890584A patent/JPS6148528A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6148528A (ja) | 1986-03-10 |
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