JPH0323602A - Manufacture of resistance network element - Google Patents

Manufacture of resistance network element

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Publication number
JPH0323602A
JPH0323602A JP1158692A JP15869289A JPH0323602A JP H0323602 A JPH0323602 A JP H0323602A JP 1158692 A JP1158692 A JP 1158692A JP 15869289 A JP15869289 A JP 15869289A JP H0323602 A JPH0323602 A JP H0323602A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
resistance
thin film
network element
undercoat
Prior art date
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Pending
Application number
JP1158692A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masato Hashimoto
正人 橋本
Osamu Makino
治 牧野
Koji Nishida
孝治 西田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP1158692A priority Critical patent/JPH0323602A/en
Publication of JPH0323602A publication Critical patent/JPH0323602A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain an element whose cost is low, whose performance is high and whose heat-resistant property is good by a method wherein a resistance material composed of a metal organic substance is printed and baked and a plurality of thin-film resistance films are formed. CONSTITUTION:An undercoat pattern 3 whose surface is smooth is formed on a heat-resistant insulating substrate 1. Then, a resistance material composed of a metal organic substance is printed on the pattern 3 and is baked; a thin-film resistance pattern 2 is formed. Then, a conductor pattern 4 composed of a thick-film conductor is formed so as to be connected to the pattern 2; an overpattern 5 with which the pattern 2 and the pattern 4 excluding one part are covered is formed. Thereby, an element whose performance is high and whose heat-resistant property is good can be obtained at a low cost. The pattern 4 may be formed after the pattern has been formed; and the resistance material may be printed on the pattern 5 and may be baked.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高密度配線回路に用いられる抵抗ネットワーク
素子の製造方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing resistor network elements used in high-density interconnect circuits.

従来の技術 近年、電子機器の軽薄短小化に対する要求が1すます増
大していく中、回路基板の抵抗素子には実装密度を高め
るため、小形の抵抗ネットワーク素子が多く用いられる
ようになってきている。また、近年は部品の高精度化、
低雑音化が進み、抵抗ネットワーク素子も厚膜タイプか
ら高精度で低雑音の薄膜タイプの需要が延びつつある。
Conventional technology In recent years, as the demand for lighter, thinner, and smaller electronic devices has increased, small resistance network elements have come to be used more and more as resistance elements on circuit boards in order to increase the packaging density. There is. In addition, in recent years, the precision of parts has increased,
As noise becomes lower, the demand for resistor network elements is increasing from thick-film types to thin-film types with high precision and low noise.

従来の小形の抵抗ネットワーク素子の一例について第6
図により説明する。(例えば特開昭63−94603号
参照)同図は並列回路型の抵抗ネットワーク素子の斜視
破断図で、抵抗ネットワーク素子は、絶縁性焼結基板か
らなる基材31の表面に、L字状電極32とその長辺に
相対する複数個の短冊状電極33かよびこれらの両電極
を接続する複数の厚膜の抵抗体素子34を印刷等で形成
し、前記のL字状電極32と短冊状電極33にそれぞれ
端子36を半田付けにて接続した後、絶縁封止材の被覆
36で覆ったものである。
Part 6 about an example of a conventional small resistance network element
This will be explained using figures. (For example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-94603.) This figure is a perspective cutaway view of a parallel circuit type resistance network element. 32, a plurality of strip-shaped electrodes 33 facing the long sides thereof, and a plurality of thick film resistor elements 34 connecting these two electrodes are formed by printing or the like, and the L-shaped electrode 32 and the strip-shaped electrode 33 are formed by printing or the like. Terminals 36 are connected to the respective terminals by soldering, and then covered with a coating 36 of an insulating sealing material.

発明が解決しようとする課題 しかし、この製造法による抵抗ネットワーク素子は次に
示すような課題を有していた。
Problems to be Solved by the Invention However, the resistive network element manufactured by this manufacturing method had the following problems.

1.厚膜の抵抗体(材料は金属混合物系)を用いている
ので抵抗温度特性が約2 0 0 ppIII/Cと大
きく、また電流雑音特性も1 00KΩの抵抗値で約+
1011Bと悪い。(IVの電圧で1μVリップ〃が発
生するとO(1B) 2.上記1の課題を解決するために、近年高精度タイプ
の薄膜抵抗ネットワーク素子も開発されつつあるが、そ
の抵抗ネットワーク素子はスパッタにより抵抗膜を形成
しているので連続処理が難しく、量産するためには多く
のスパッタ装置が必要となシ、厚模抵抗ネットワーク素
子と比べ生産コスト高になる。さらに、抵抗膜の熱処理
が360”C 〜400℃であるので約5 00”C以
上の熱処理を必要とし、ガラスの保護コートを使用でき
ないので樹脂の保護コートを用いざるをえない。このた
め、厚膜の抵抗ネットワーク素子と比べ耐熱性が劣ると
いった課題がある。
1. Since a thick film resistor (material is a metal mixture) is used, the resistance temperature characteristics are as large as approximately 200 ppIII/C, and the current noise characteristics are also approximately + at a resistance value of 100KΩ.
1011B is bad. (If a 1μV rip occurs at the IV voltage, O(1B) 2. In order to solve the problem in 1 above, high-precision thin film resistor network elements have been developed in recent years, but these resistor network elements are made by sputtering. Since a resistive film is formed, continuous processing is difficult, and mass production requires a large number of sputtering equipment, which results in higher production costs compared to thick resistive network elements.Furthermore, the heat treatment of the resistive film requires 360" C to 400℃, requiring heat treatment of approximately 500"C or more, and since a glass protective coating cannot be used, a resin protective coating must be used. For this reason, the heat resistance is lower than that of thick film resistor network elements. There are issues such as inferior gender.

本発明はこのような課題を一挙に解決するために、高性
能で安価で耐熱性が良好な薄膜の抵抗ネットワーク素子
を提供することを目的とするものである。
In order to solve these problems all at once, it is an object of the present invention to provide a thin film resistance network element that is high-performance, inexpensive, and has good heat resistance.

課題を解決するための手段 上記目的を達或するために本発明は、耐熱性絶縁基板上
に表面平滑なアンダーコートパターンを形成し、前記ア
ンダーコートパターン上に、金属有機物からなる抵抗材
料を印刷し焼或することにより複数の薄膜抵抗パターン
を形成し、前記薄膜抵抗パターンを接続するように厚膜
導電体からなる導体パターンを形成し、前記薄膜抵抗パ
ターンを完全に覆い且つ導体パターンの一部を除いてオ
ーバーコートパターンを形成するものである。あるいは
、耐熱性絶縁基板上に表面平滑なアンダーコートパター
ンを形成し、前記アンダーコートパターンの一部に重な
る厚膜導電体からなる導体パターンを形成し、前記アン
ダーコートパターン上に前記導体パターンに接続するよ
うに金属有機物からなる抵抗材料を印刷し焼或すること
によυ複数の薄膜抵抗パターンを形成し、前記薄膜抵抗
パターンを完全に覆い且つ導体パターンの一部を残すよ
うにオーバーコートパターンを形吠するものである。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above objects, the present invention forms an undercoat pattern with a smooth surface on a heat-resistant insulating substrate, and prints a resistive material made of a metal organic substance on the undercoat pattern. A plurality of thin film resistor patterns are formed by baking, and a conductor pattern made of a thick film conductor is formed to connect the thin film resistor patterns, completely covering the thin film resistor pattern and partially covering the conductor pattern. except for forming an overcoat pattern. Alternatively, an undercoat pattern with a smooth surface is formed on a heat-resistant insulating substrate, a conductor pattern made of a thick film conductor is formed overlapping a part of the undercoat pattern, and the conductor pattern is connected to the conductor pattern on the undercoat pattern. A plurality of thin film resistance patterns are formed by printing and baking a resistance material made of a metal-organic substance, and an overcoat pattern is formed so as to completely cover the thin film resistance patterns and leave a part of the conductor pattern. It's something to shout about.

作用 これにより、次に示すような作用が得られる。action As a result, the following effects can be obtained.

スパッタ装置を用いず、金属混合物ではな〈金属有機物
からなる抵抗材料を印刷し焼或することで複数の薄膜抵
抗膜を形成できるので、生産コストが下がり厚膜抵抗ネ
ットワーク素子と同程度の安価な値段で薄膜抵抗ネット
ワーク素子と同程度の高精度・低抵抗温度巷性・低電流
雑音の薄膜抵抗ネットワーク素子が提供できる。
Multiple thin-film resistive films can be formed by printing and baking a resistive material made of a metal-organic substance rather than a metal mixture without using a sputtering device, which reduces production costs and makes it possible to create a device as inexpensive as a thick-film resistive network element. It is possible to provide a thin film resistor network element with high precision, low resistance temperature range, and low current noise at a price comparable to that of thin film resistor network elements.

さらに、薄膜抵抗体は金属有機物からなる抵抗材料を印
刷し焼威しているので、保護コートとしてガラスコート
を用いることができ、従来の薄膜抵抗ネットワーク素子
に比べ耐熱性の向工が図れる。筐た薄膜抵抗体はガラス
或分のない抵抗材料を用いているので、低電流雑音が実
現できる。
Furthermore, since the thin film resistor is made by printing and firing a resistance material made of a metal-organic substance, a glass coat can be used as a protective coat, and the heat resistance can be improved compared to conventional thin film resistor network elements. Since the thin film resistor in the housing uses a resistive material with a certain amount of glass, low current noise can be achieved.

実施例 以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
EXAMPLE An example of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明のta1の実施例の抵抗ネットワーク素
子の斜視破断図で、第2図は第1図の抵抗ネットワーク
素子の▲−▲′断面図、第3図は本発明の第2実施例の
抵抗ネットワーク素子の斜視破断図、第4図はta3図
の抵抗ネットワーク素子のB−B’断面図、第6図は本
発明の抵抗ネットワーク素子の耐熱性能を示す説明図で
ある。
FIG. 1 is a perspective cutaway view of a resistance network element according to an embodiment of ta1 of the present invention, FIG. FIG. 4 is a perspective cutaway view of the resistance network element of the example, FIG. 4 is a BB' cross-sectional view of the resistance network element of FIG.

(実施例1) 本発明の第1の実施例について第1図,第2図を用いて
説明する。
(Example 1) A first example of the present invention will be described using FIGS. 1 and 2.

まず、耐熱性および絶縁性に優れた96アμミナ基板1
を受け入れる。次に、抵抗パターン2を形成する部分の
基板のうねりや突起を平滑にするために、複数の短冊状
の印刷パターンを用いてホウケイ酸鉛系ガラスからなる
アンダーコートガ2スペーストをスクリーン印刷し、ペ
ノレト式連続焼或炉によ!l19oo℃の温度でピーク
15分、IN−OUT2時間のブロフ1イpによって焼
成し、複数のアンダーコートパターン3を形成する。次
に、それぞれのアンダーコートパターン3の上に、Ru
02を主成分とする金属有機物からなる抵抗ペーストを
スクリーン印刷する。そして、金属有機物抵抗ペースト
の有機或分だけを飛ばし、金属或分だけをアンダーコー
トパターン3に焼き付けるために、べ〃ト式連続焼或炉
により640″Cの温度でピーク時間10分、IN−O
UT時間46分のプロフ1イ〃によって焼或し、複数の
薄膜抵抗パターン2を形成する。次に前記薄膜抵抗パタ
ーン2の一部に重なるようにL字状パターンと短冊状ハ
ターンを用いて厚膜銀ペーストをスクリーン印刷し、ぺ
〃ト式連続焼成炉によって600℃の温度で、ピーク時
間6分、XH−OUT45分のプロファイルによって焼
或し、導体パターン4を形成する。更に前記薄膜抵抗パ
ターン2を保護するために、前記薄膜抵抗パターン2を
完全に覆うようにホウケイ酸鉛系ガラスからなるオーバ
ーコートガラスペーストをスクリーン印刷し、ぺ〃ト式
連続焼成炉によってeoo”cの温度で、ピーク時間1
6分、IN−OU1’90分の焼或プロファイμによっ
て焼威し、オーバーコートパp−ン6を形成する。次に
、前記薄膜抵抗パターン2の抵抗値を揃えるために、オ
ーバーコートパターン6を透過するレーザー光(発振周
波数は5k}b出力は0.3W)によって、前記抵抗パ
ターン2のみを破壊することによって、抵抗値修正の修
正を行う。次に、端子6を導体パターン4に半田付けに
より固定し、最後に端子6の先端部分を除いて、封止樹
脂7によシモー〃ドする。
First, a 96 μmina substrate 1 with excellent heat resistance and insulation properties.
accept. Next, in order to smooth out the undulations and protrusions on the substrate where the resistor pattern 2 will be formed, an undercoat gas paste made of lead borosilicate glass is screen printed using a plurality of strip-shaped printing patterns. , with a penolet type continuous kiln! A plurality of undercoat patterns 3 are formed by baking at a temperature of 190° C. for 15 minutes at the peak and 2 hours at IN-OUT. Next, on top of each undercoat pattern 3, Ru
A resistive paste made of a metal-organic material containing 02 as a main component is screen printed. Then, in order to remove only the organic part of the metal-organic resistance paste and bake only the metal part into the undercoat pattern 3, it was heated in a continuous pot oven at a temperature of 640''C for 10 minutes at a peak time of 10 minutes. O
A plurality of thin film resistor patterns 2 are formed by baking by profile 1 with a UT time of 46 minutes. Next, a thick film silver paste is screen printed using an L-shaped pattern and a strip-shaped pattern so as to partially overlap the thin film resistor pattern 2, and is heated in a continuous firing furnace at a temperature of 600°C for a peak time. The conductor pattern 4 is formed by baking according to the profile of 6 minutes and XH-OUT 45 minutes. Furthermore, in order to protect the thin film resistor pattern 2, an overcoat glass paste made of lead borosilicate glass was screen printed so as to completely cover the thin film resistor pattern 2, and eoo"c was applied in a continuous firing furnace. peak time 1 at a temperature of
An overcoat pattern 6 is formed by baking for 6 minutes and IN-OU1' for 90 minutes using a profile μ. Next, in order to equalize the resistance values of the thin film resistor pattern 2, only the resistor pattern 2 is destroyed by a laser beam (oscillation frequency is 5 k}b output is 0.3 W) that passes through the overcoat pattern 6. , perform the correction of resistance value correction. Next, the terminal 6 is fixed to the conductor pattern 4 by soldering, and finally, the terminal 6 is sealed with a sealing resin 7 except for the tip portion.

以上の工程によシ、本発明の第1の実施例による抵抗ネ
ットワーク素子を製造する。
Through the above steps, a resistive network element according to the first embodiment of the present invention is manufactured.

この第1の実施例による抵抗ネットワーク素子の抵抗値
ばらつき、抵抗温度特性(TCR)、電流雑音特性、耐
熱試験(460’Q  10分》による抵抗値変化を従
来の角板型薄膜チップ抵抗器と比較した。この結果抵抗
値ばらつき,TCR ,電流雑音特性は従来の薄膜型の
抵抗ネットワーク素子と同等であることが分かった。ま
た、第6図に示すように、耐熱性にかいては従来の薄膜
抵抗ネットワーク素子よう優れている。
The resistance value variation, resistance temperature characteristic (TCR), current noise characteristic, and resistance value change due to heat resistance test (460'Q 10 minutes) of the resistor network element according to the first embodiment were compared with the conventional rectangular plate type thin film chip resistor. As a result, it was found that the resistance value variation, TCR, and current noise characteristics were equivalent to those of conventional thin film resistor network elements.As shown in Figure 6, in terms of heat resistance, it was found that Thin film resistive network elements are so superior.

この第1の実施例では金属有機物抵抗ペースト焼或後に
導体パターンを印刷焼成しているが、導体パターンを印
刷焼或後に金属有機物抵抗ペーストを印刷焼成しても同
等の性能が得られた。
In this first example, the conductor pattern was printed and fired after the metal-organic resistance paste was printed, but the same performance was obtained even if the metal-organic resistance paste was printed and fired after the conductor pattern was printed and fired.

(実施例2) 次に、本発明q第2の実施例について第3図,第4図を
用いて説明する。
(Embodiment 2) Next, a second embodiment of the present invention (q) will be described with reference to FIGS. 3 and 4.

曾ず、耐熱性および絶縁性に優れた96アノレミナ基板
11を受け入れる。次に、抵抗パターン12を形成する
部分の基板のうねシや突起を平滑にするために、複数の
短冊状の印刷パターンを用いてホウケイ酸鉛系ガラスか
らなるアンダーコートガラスペーストをスクリーン印刷
し、べpト式連続焼戒炉により900’Cの温度でピー
ク15分、IN−OUT2時間のプロファイルによって
焼成し、複数のアンダーコートパターン13を形成する
。次に、それぞれのアンダーコートパターン13の上に
、Ru02を主成分とする金属有機物からなる抵抗ペー
ストをスクリーン印刷する。そして、金属有機物抵抗ペ
ーストの有機戊分だけを飛ばし金属戒分だけをアンダー
コートパターン13に焼き付けるために、べpト式連続
焼或炉により640℃0温度でピーク時間10分、IN
−OUT時間46分のプロファイμによって焼或し、複
数の薄膜抵抗パターン12を形成する。次に前記薄膜抵
抗パターン12の一部に重なるようにL字状パターンと
短冊状パターンを用いて厚膜銀ペーストをスクリーン印
刷し、ぺ〃ト式連続焼或炉によってeoo℃の温度で、
ピーク時間6分,IN一OUT  45分のプロファイ
ルによって焼或し、導体パターン14を形成する。更に
、前記薄膜抵抗パターン12を保護するために、前記薄
膜抵抗パターン12を完全に覆うように、ホウケイ酸鉛
系ガラスからなるオーバーコートガラスペーストをスク
リーン印刷し、ぺpト式連続焼或炉によつてSOO℃の
温度でピーク時間16分、IN−0υT  90分の焼
成ブロファイルによって焼成し、オーバーコートパター
ン16を形成する。次に前記薄膜抵抗パターン12の抵
抗値を揃えるために、オーバーコートパターン16を透
過するレーザー光(発振周波数はsk庵 出力は0.3
W)によって、前記薄膜抵抗パターン12のみを破壊す
ることによって、抵抗値修正の修正を行う。次に、前記
基材11の端面部に前記導体パターン14と電気的導通
の取れるように厚膜電極をローラーにより塗布し、60
0℃の温度で、ピーク時間16分、IN−OUT90分
の焼或プロファイ〃によシ焼威し、端面電極パターン1
6を形戒する。
The 96 anoremina substrate 11, which has excellent heat resistance and insulation properties, is accepted. Next, in order to smooth out the ridges and protrusions on the substrate where the resistor pattern 12 will be formed, an undercoat glass paste made of lead borosilicate glass is screen printed using a plurality of strip-shaped printing patterns. A plurality of undercoat patterns 13 are formed by firing in a VPT continuous firing furnace at a temperature of 900'C according to a profile of 15 minutes at the peak and 2 hours at IN-OUT. Next, on each undercoat pattern 13, a resistive paste made of a metal organic substance containing Ru02 as a main component is screen printed. Then, in order to remove only the organic components of the metal-organic resistance paste and bake only the metal components into the undercoat pattern 13, the heat treatment was performed using a VPT type continuous firing furnace at 640° C. for a peak time of 10 minutes.
- A plurality of thin film resistor patterns 12 are formed by baking with a profile μ with an OUT time of 46 minutes. Next, a thick film silver paste was screen printed using an L-shaped pattern and a strip-shaped pattern so as to overlap a part of the thin film resistor pattern 12, and was heated to a temperature of eoo°C using a continuous clay furnace.
The conductor pattern 14 is formed by baking according to a profile with a peak time of 6 minutes and an IN-OUT time of 45 minutes. Furthermore, in order to protect the thin film resistor pattern 12, an overcoat glass paste made of lead borosilicate glass was screen printed to completely cover the thin film resistor pattern 12, and then placed in a Peptide continuous firing furnace. Therefore, the overcoat pattern 16 is formed by firing at a temperature of SOO°C using a firing profile with a peak time of 16 minutes and an IN-0υT of 90 minutes. Next, in order to equalize the resistance values of the thin film resistor pattern 12, a laser beam (oscillation frequency is sk-an, output is 0.3
W), the resistance value is corrected by destroying only the thin film resistor pattern 12. Next, a thick film electrode is applied to the end surface of the base material 11 using a roller so as to be electrically conductive with the conductive pattern 14.
The end surface electrode pattern 1 was baked at a temperature of 0°C with a peak time of 16 minutes and an IN-OUT profile of 90 minutes.
6 is a formal precept.

以上の工程により、本発明の第2の実施例による抵抗ネ
ットワーク素子を製造する。
Through the above steps, a resistive network element according to the second embodiment of the present invention is manufactured.

第2の実施例による抵抗ネットワーク素子の抵抗値ばら
つき、抵抗温度特性(TCR )、電流雑音特性、耐熱
試験(460’0  10分》による抵抗値変化を従来
の角板型薄膜チップ抵抗器と比較した。この結果抵抗値
ばらつき・TCR・電流雑音特性は従来の薄膜型の抵抗
ネットワーク素子と同等であることが分かった。また、
第6図に示すように、耐熱性においては従来の薄膜の抵
抗ネットワーク素子より優れているといえる。
Comparison of resistance value variations, resistance temperature characteristics (TCR), current noise characteristics, and resistance value changes by heat resistance test (460'0 10 minutes) of the resistance network element according to the second embodiment with a conventional square plate type thin film chip resistor. As a result, it was found that the resistance value variation, TCR, and current noise characteristics were equivalent to those of conventional thin-film resistor network elements.
As shown in FIG. 6, it can be said that the heat resistance is superior to conventional thin film resistance network elements.

この第2の実施例では導体パターン14を印刷焼或後に
金属有機物抵抗ペーストを印刷焼或しているが、金属有
機物抵抗ペースト焼或後に導体パターン14を印刷焼或
しても、同等の性能が得られる。
In this second embodiment, the metal-organic resistance paste is printed and baked after the conductor pattern 14 is printed, but the same performance can be obtained even if the conductor pattern 14 is printed and baked after the metal-organic resistance paste is printed. can get.

な訟実施例ではアンダーコートの焼或温度を、900゜
C、金属有機物抵抗ペーストの焼或温度を640’C、
導体パターンの焼威温度を600”C、オーバーコート
ガラスペーストの焼或温度を600℃としたがこれは焼
或温度を限定するものではない0 また、金属有機物抵抗ペーストは望ましくはRu02を
主成分とする抵抗ペーストを用いるべきだが、)ii−
Or系などの他の金属有機物抵抗ペーストでもよい。
In a specific example, the firing temperature of the undercoat was 900°C, and the firing temperature of the metal-organic resistance paste was 640°C.
The firing temperature of the conductor pattern was set to 600"C, and the firing temperature of the overcoat glass paste was set to 600"C, but this does not limit the firing temperature.In addition, the metal-organic resistance paste preferably has Ru02 as its main component. A resistive paste should be used, but) ii-
Other metal-organic resistance pastes such as Or-based ones may also be used.

発明の効果 以上の説明から明らかなように本発明によれば金属有機
物からなる抵抗材料を印刷し焼成することで複数の薄膜
抵抗膜を形成できるので、生産コストが下がり、厚膜抵
抗ネットワーク素子と同程度の安価な値段で、薄膜抵抗
ネットワーク素子と同程度の高精度・低抵抗温度特性・
低電流雑音の薄膜抵抗ネットワーク素子が提供できる。
Effects of the Invention As is clear from the above explanation, according to the present invention, a plurality of thin film resistive films can be formed by printing and firing a resistive material made of a metal-organic material, thereby reducing production costs and making it possible to form thick film resistive network elements. It has high accuracy, low resistance temperature characteristics, and similar properties to thin film resistor network elements at a similar low price.
A thin film resistor network element with low current noise can be provided.

筐た薄膜抵抗膜は金属有機物か,らなる抵抗材料を印刷
し焼或しているので、保護コートとしてガラスコートを
用いることができ、従来の薄膜抵抗ネットワーク素子に
比べ耐熱性の向上が図れる。
Since the thin film resistive film in the housing is printed and baked with a resistive material made of a metal-organic material, a glass coat can be used as a protective coat, and the heat resistance can be improved compared to conventional thin film resistive network elements.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第1の実施例の抵抗ネットワーク素子
の一部を切シ欠いた斜視図、第2図は第1図の抵抗ネッ
トワーク素子の▲−▲′断面図、第3図は本発明の第2
の実施例の抵抗ネットワーク素子の一部を切ジ欠いた斜
視図、第4図は第3図の抵抗ネットワーク素子のB −
 B’断面図、第5図は本発明の抵抗ネットワーク素子
の耐熱性能を示す説明図、第6図は従来の抵抗ネットワ
ーク素子の一部を切り欠いた斜視図である。 1.11・・・・・・96アルミナ基板、2.12・・
・・・・薄膜抵抗パターン、3,1.3・・・・・・ア
ンダーコートパターン、4.14・・・・・・導体ハ/
−:/. 5 . 1 5・・・・・・オーバーコート
パターン、6・・・・・・端子、7・・・・・・封止樹
脂、16・・・・・・端面電極パターン。
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view of a resistor network element according to a first embodiment of the present invention, FIG. Second aspect of the present invention
FIG. 4 is a partially cutaway perspective view of the resistive network element of the embodiment shown in FIG.
B' sectional view, FIG. 5 is an explanatory view showing the heat resistance performance of the resistance network element of the present invention, and FIG. 6 is a perspective view with a part of the conventional resistance network element cut away. 1.11...96 alumina substrate, 2.12...
...Thin film resistance pattern, 3,1.3...Undercoat pattern, 4.14...Conductor c/
-:/. 5. 1 5... Overcoat pattern, 6... Terminal, 7... Sealing resin, 16... End surface electrode pattern.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)耐熱性絶縁基板上に表面平滑なアンダーコートパ
ターンを形成し、前記アンダーコートパターン上に、金
属有機物からなる抵抗材料を印刷し焼成することにより
複数の薄膜抵抗パターンを形成し、前記薄膜抵抗パター
ンを接続するように厚膜導電体からなる導体パターンを
形成し、前記薄膜抵抗パターンを完全に覆い且つ導体パ
ターンの一部を除いてオーバーコートパターンを形成す
ることを特徴とする抵抗ネットワーク素子の製造方法。
(1) An undercoat pattern with a smooth surface is formed on a heat-resistant insulating substrate, a plurality of thin film resistance patterns are formed by printing and baking a resistance material made of a metal organic substance on the undercoat pattern, and the thin film A resistor network element characterized in that a conductor pattern made of a thick film conductor is formed to connect the resistor patterns, and an overcoat pattern is formed by completely covering the thin film resistor pattern and excluding a part of the conductor pattern. manufacturing method.
(2)耐熱性絶縁基板上に表面平滑なアンダーコートパ
ターンを形成し、前記アンダーコートパターンの一部に
重なる厚膜導電体からなる導体パターンを形成し、前記
アンダーコートパターン上に前記導体パターンに接続す
るように金属有機物からなる抵抗材料を印刷し焼成する
ことにより複数の薄膜抵抗パターンを形成し、前記薄膜
抵抗パターンを完全に覆い且つ導体パターンの一部を残
すようにオーバーコートパターンを形成することを特徴
とする抵抗ネットワーク素子の製造方法。
(2) Forming an undercoat pattern with a smooth surface on a heat-resistant insulating substrate, forming a conductor pattern made of a thick film conductor overlapping a part of the undercoat pattern, and forming the conductor pattern on the undercoat pattern. A plurality of thin film resistance patterns are formed by printing and firing a resistance material made of a metal-organic material so as to connect them, and an overcoat pattern is formed so as to completely cover the thin film resistance patterns and leave a part of the conductor pattern. A method for manufacturing a resistor network element, characterized by:
(3)アンダーコートパターンおよびオーバーコートパ
ターンはホウケイ酸鉛系ガラスからなり、金属有機物の
抵抗材料はRuO_2を主成分とすることを特徴とする
請求項1または2記載の抵抗ネットワーク素子の製造方
法。
(3) The method for manufacturing a resistance network element according to claim 1 or 2, wherein the undercoat pattern and the overcoat pattern are made of lead borosilicate glass, and the metal-organic resistance material is mainly composed of RuO_2.
(4)導体パターンのオーバーコートパターンに覆われ
ていない部分にリード端子を半田付けし、このリード端
子の一部を残して絶縁性の封止材料により抵抗ネットワ
ーク素子全体をモールドすることを特徴とする請求項1
または2記載の抵抗ネットワーク素子の製造方法。
(4) The lead terminal is soldered to the part of the conductor pattern that is not covered by the overcoat pattern, and the entire resistive network element is molded with an insulating sealing material, leaving a part of the lead terminal. Claim 1
Or the manufacturing method of the resistance network element according to 2.
(5)導体パターンのオーバーコートパターンに覆われ
ていない部分に重なるように耐熱性絶縁基板の端面部に
導電材による端面電極を形成することを特徴とする請求
項1または2記載の抵抗ネットワーク素子の製造方法。
(5) The resistance network element according to claim 1 or 2, characterized in that an end face electrode made of a conductive material is formed on the end face portion of the heat-resistant insulating substrate so as to overlap a portion of the conductor pattern that is not covered with the overcoat pattern. manufacturing method.
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