JP2718178B2 - Manufacturing method of square plate type thin film chip resistor - Google Patents

Manufacturing method of square plate type thin film chip resistor

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JP2718178B2 JP1130849A JP13084989A JP2718178B2 JP 2718178 B2 JP2718178 B2 JP 2718178B2 JP 1130849 A JP1130849 A JP 1130849A JP 13084989 A JP13084989 A JP 13084989A JP 2718178 B2 JP2718178 B2 JP 2718178B2
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は角板型薄膜チップ抵抗器の製造方法に関する
ものである。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a square plate type thin film chip resistor.

従来の技術 近年、電子機器の「軽薄短小」化に対する要求がます
ます増大していく中、回路基板の抵抗素子には実装密度
を高めるため、小形で、面実装できる角板型チップ抵抗
器が多く用いられるようになってきている。また、近年
は部品の高精度化,低雑音化が進み、角板型チップ抵抗
器も厚膜タイプから高精度で低雑音の薄膜タイプの需要
が延びつつある。
2. Description of the Related Art In recent years, as the demand for “light, thin and short” electronic devices has been increasing more and more, in order to increase the mounting density of resistance elements on circuit boards, small, square-plate chip resistors that can be surface-mounted have been developed. It is increasingly used. In recent years, the precision of parts and the noise have been reduced, and the demand for square-plate type chip resistors from a thick film type to a thin film type with high accuracy and low noise has been increasing.

従来の小型の角板型薄膜チップ抵抗器の製造方法の一
例を第4図に示す。
FIG. 4 shows an example of a method of manufacturing a conventional small square plate type thin film chip resistor.

まず、従来の製造工程は高純度のアルミナ基板などか
らなる、耐熱性の絶縁基板21を受け入れる基板受け入れ
工程Aをスタートとし、つぎに、前記絶縁基板21上にNi
−Cr等の薄膜抵抗体22を形成するスパッタ工程Bを経
て、前記薄膜抵抗体22を抵抗パターン23に整形するエッ
チング工程Cを行い、抵抗パターン23を安定な膜にする
ために、窒素中などで350℃〜400℃の温度の雰囲気熱処
理工程Dを行う。その後、抵抗パターンの抵抗値を所定
の値に修正するためにレーザートリミング法等により、
抵抗値修正工程Eを行う。更に、抵抗パターン23を保護
するために、熱硬化性の樹脂膜25を形成する保護コート
形成工程Fを行う。次に、絶縁基板21を分割し、端面電
極層26を形成するための準備工程として、絶縁基板21に
分割のための溝27を形成するスクライブ工程Gと、絶縁
基板21を短冊状基板21′に分割する、一次基板分割工程
Hを行い、その短冊状基板21′の端面にスパッタ等を用
い、端面電極層26を形成する端面電極形成工程Iを行
う。そして、露出している抵抗パターン及び、端面電極
面にメッキ層28を施すための準備工程として、短冊状基
板21′を個片状基板21″に分割する二次基板分割工程J
を行い、露出している抵抗パターン及び、端面電極層の
半田付け時の喰われの防止、半田付け性の信頼性の確保
のために電極メッキ層28を形成する電極メッキ工程Kを
行い、角板型薄膜チップ抵抗器が完成する。
First, the conventional manufacturing process starts a substrate receiving process A for receiving a heat-resistant insulating substrate 21 made of a high-purity alumina substrate or the like.
An etching process C for shaping the thin film resistor 22 into a resistance pattern 23 through a sputtering process B for forming a thin film resistor 22 of -Cr or the like; To perform an atmosphere heat treatment step D at a temperature of 350 ° C. to 400 ° C. Then, to correct the resistance value of the resistance pattern to a predetermined value, by laser trimming method, etc.
The resistance value correcting step E is performed. Further, in order to protect the resistance pattern 23, a protective coat forming step F for forming a thermosetting resin film 25 is performed. Next, as a preparation step for dividing the insulating substrate 21 and forming the end face electrode layer 26, a scribing step G of forming a groove 27 for division on the insulating substrate 21 and a strip-shaped substrate 21 ' A primary substrate dividing step H is performed, and an end face electrode forming step I for forming an end face electrode layer 26 is performed on the end face of the strip-shaped substrate 21 'by using sputtering or the like. Then, as a preparation step for applying the plating layer 28 to the exposed resistance pattern and the end face electrode surface, a secondary substrate dividing step J for dividing the strip-shaped substrate 21 ′ into individual substrates 21 ″.
And an electrode plating step K for forming an electrode plating layer 28 in order to prevent the exposed resistance pattern and the end face electrode layer from being eroded during soldering and to ensure the reliability of solderability. The plate type thin film chip resistor is completed.

発明が解決しようとする課題 しかし、この工程による角板型薄膜チップ抵抗器は次
に示すような課題を有していた。
Problems to be Solved by the Invention However, the square-plate type thin film chip resistor according to this process has the following problems.

(1) スパッタにより抵抗膜を形成しているので、連
続処理が難しく、量産するためには多くのスパッタ装置
が必要となり、厚膜チップ抵抗器と比べ約2倍のコスト
高になる。
(1) Since the resistive film is formed by sputtering, continuous processing is difficult, and a large number of sputtering devices are required for mass production, and the cost is about twice as high as that of a thick-film chip resistor.

(2) 抵抗膜の熱処理が350℃〜400℃であるので約50
0℃以上の熱処理を必要とする、ガラスの保護コートを
使用できないので、樹脂の保護コートを用いなければな
らない。このため、耐熱性が厚膜のチップ抵抗器と比べ
劣る。
(2) Since the heat treatment of the resistive film is performed at 350 ° C to 400 ° C, about 50
Since a glass protective coat that requires heat treatment at 0 ° C. or higher cannot be used, a resin protective coat must be used. Therefore, the heat resistance is inferior to that of a thick-film chip resistor.

(3) 厚膜角板型チップ抵抗器によく用いられている
分割溝入り基板は、それ特有の分割溝間の基板のうねり
が存在し薄膜の形成が困難であるために、従来の角板型
薄膜チップ抵抗器は、うねりの少ない分割溝なしの基板
にレーザースクライブによって、分割のための溝を形成
している。しかし、レーザースクライブは、チップ抵抗
器の美観を損なうばかりでなく、レーザーの熱的衝撃に
よる基板のマイクロクラックが生じやすく、絶縁の劣化
の原因に成りかねないといった課題がある。
(3) Substrates with split grooves, which are often used for thick-film square-plate type chip resistors, are difficult to form a thin film because of the inherent undulation of the substrate between the split grooves. In the thin film chip resistor, grooves for division are formed by laser scribing on a substrate having no division grooves with little undulation. However, the laser scribe not only impairs the aesthetics of the chip resistor, but also has a problem that microcracks on the substrate are likely to occur due to thermal shock of the laser, which may cause insulation deterioration.

本発明はこのような課題を一挙に解決するもので、安
価で、ガラスコートを用いたことによる耐熱性が良好
で、基板の絶縁性に優れた角板型薄膜チップ抵抗器を提
供するものである。
The present invention solves such problems at once, and provides a square plate type thin film chip resistor that is inexpensive, has good heat resistance by using a glass coat, and has excellent substrate insulation. is there.

課題を解決するための手段 上記課題を解決するために本発明の角板型薄膜チップ
抵抗器の製造方法は、耐熱性絶縁基板の表面を平滑化す
るためにアンダーコートガラスを印刷し焼成する工程
と、前記アンダーコートガラス上に薄膜抵抗体を形成す
るために、金属有機物からなる抵抗材料を印刷し焼成す
る工程と、前記抵抗体を接続するための電極を形成する
ために化学的に安定な導電材を印刷し焼成する工程と、
前記抵抗体を被覆し保護するためにオーバーコートガラ
スを印刷し焼成する工程と、前記抵抗体の特性をそろえ
るための抵抗値修正工程と、端面電極を形成するための
準備工程である1次基板分割工程およびその分割基板の
端面部の電極形成を行うための端面電極印刷焼成工程
と、電極メッキの準備工程である2次基板分割工程およ
びはんだ付けによる電極喰われ防止およびはんだ付け性
の信頼性を確保するための電極メッキ工程とを備えたも
のである。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, a method of manufacturing a square plate type thin film chip resistor according to the present invention comprises a step of printing and firing an undercoat glass to smooth the surface of a heat resistant insulating substrate. And forming a thin film resistor on the undercoat glass, printing and baking a resistance material made of a metal organic material, and chemically stable to form an electrode for connecting the resistor. Printing and firing a conductive material;
A step of printing and baking an overcoat glass to cover and protect the resistor, a step of correcting a resistance value to make the characteristics of the resistor uniform, and a preparation step of forming an end face electrode. The dividing step and the end face electrode printing and baking step for forming electrodes on the end face of the divided substrate, the secondary board dividing step which is a preparation step for electrode plating, the prevention of electrode erosion by soldering, and the reliability of solderability And an electrode plating step for ensuring the above.

作用 これにより、次に示すような作用が得られる。Operation As a result, the following operation is obtained.

(1) スパッタ装置を用いず、印刷機とベルト式連続
焼成炉によって連続的に薄膜抵抗器を形成できるので、
製造コストが下がり、厚膜角板型チップ抵抗器と同程度
の安価な角板型薄膜チップ抵抗器が提供できる。
(1) Since a thin film resistor can be formed continuously by a printing machine and a belt-type continuous firing furnace without using a sputtering apparatus,
The manufacturing cost is reduced, and an inexpensive square-plate thin-film chip resistor comparable to a thick-film square-chip chip resistor can be provided.

(2) 薄膜抵抗体は金属有機物からなる抵抗材料を印
刷し焼成しているので、保護コートとしてガラスコート
を用いることができ、従来の角板型薄膜チップ抵抗器に
比べ耐熱性の向上が図れる。
(2) Since the thin-film resistor is printed and fired with a resistance material made of a metal organic substance, a glass coat can be used as a protective coat, and the heat resistance can be improved as compared with a conventional square-plate thin-film chip resistor. .

(3) アンダーコートガラスによって分割溝入り基板
特有の分割溝間の基板のうねりを吸収し、表面を平滑に
している。このため、従来のように、うねりのない平滑
な基板にレーザースライブを行うことによって分割溝を
形成する必要がないので、基板の絶縁性が向上する。
(3) The undercoat glass absorbs the undulation of the substrate between the divided grooves peculiar to the divided grooved substrate, and makes the surface smooth. For this reason, it is not necessary to form a dividing groove by performing laser scribe on a smooth substrate having no undulation as in the related art, so that the insulating property of the substrate is improved.

実施例 以下本発明の実施例について、図面を参照しながら説
明する。
Embodiment Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明の角板型薄膜チップ抵抗器の製造方法
の実施例を示す工程図で、第2図は第1図の工程によっ
て製造した製品の断面図、第3図は本発明の角板型薄膜
チップ抵抗器の耐熱性を示す説明図である。
FIG. 1 is a process chart showing an embodiment of a method of manufacturing a square plate type thin film chip resistor according to the present invention, FIG. 2 is a sectional view of a product manufactured by the process of FIG. 1, and FIG. It is explanatory drawing which shows the heat resistance of a square-plate type thin film chip resistor.

まず、耐熱性および絶縁性に優れた96アルミニウム基
板1を受け入れる工程Aを行った。このアルミナ基板1
には短冊状、および個片状に分割するために、分割のた
めの溝2(グリーンシート時に金型成形)が形成されて
いる。次に、基板のうねりや突起を平滑にするために、
アンダーコートガラスペーストをスクリーン印刷し、ベ
ルト式連続焼成炉により900℃の温度でピーク15分、IN
−OUT 2時間のプロファイルによって焼成し、アンダ
ーコートガラス層3を形成する工程Bを行った。次に、
前記アンダーコートガラス3層の上に、RuO2を主成分と
する金属有機物からなる抵抗ペーストをスクリーン印刷
した。そして、金属有機物抵抗ペーストの有機成分だけ
を飛ばし、金属成分だけをアンダーコートガラス層に焼
き付けるために、ベルト式連続焼成炉により640℃の温
度でピーク時間10分、IN−OUT時間45分のプロファイル
によって焼成し、抵抗体層4を形成する工程Cを行っ
た。次に、前記抵抗体層4の一部に重なるように厚膜銀
ペーストをスクリーン印刷し、ベルト式連続焼成炉によ
って600℃の温度で、ピーク時間6分、IN−OUT45分のプ
ロファイルによって焼成し、上面電極層5を形成する工
程Dを行った。更に、前記抵抗体層4を保護するため
に、前記抵抗層4を完全に覆うように、オーバーコート
ガラスペーストをスクリーン印刷し、ベルト式連続焼成
炉によって600℃の温度で、ピーク時間15分、IN−OUT
90分の焼成プロファイルによって焼成し、オーバーコー
トガラス層6を形成する工程Eを行った。次に、前記上
面電極層5間の前記抵抗体層4の抵抗値を揃えるため
に、オーバーコートガラス層6を透過するレーザー光
(発振周波数は5kHz出力は0.3W)によって、前記抵抗体
層4のみを破壊することによって、抵抗値修正工程Fを
行った。次に、端面電極を形成するための準備工程とし
て、端面電極を露出させるために、アルミナ基板1を短
冊状に分割し、短冊状アルミナ基板1′を得る一次基板
分割工程Gを行った。更に、前記短冊状アルミナ基板
1′の側面に、前記上面電極層5の一部に重なるように
厚膜銀ペーストをローラーによって塗布し、ベルト式連
続焼成炉によって600℃の温度で、ピーク時間6分、IN
−OUT 45分の焼成プロファイルによって焼成し端面電
極層8を形成する端面導体ペースト印刷・焼成工程Hを
行った。次に、電極メッキ工程Jの準備工程として、前
記端面電極層8を形成済みの短冊上アルミナ基板1′を
個片状に分割する二次基板分割工程Jを行い、個片状ア
ルミナ基板1″を得た。そして最後に、露出している上
面電極層5と端面電極層8のはんだ付け時の電極喰われ
の防止およびはんだ付けの信頼性の確保のため、電解メ
ッキによってNi,Sn−Pbのメッキ層9を形成する電極メ
ッキ工程Jを行った。
First, a process A for receiving a 96 aluminum substrate 1 having excellent heat resistance and insulation properties was performed. This alumina substrate 1
Is formed with a groove 2 (molding at the time of a green sheet) for division into strips and individual pieces. Next, in order to smooth the undulations and protrusions on the substrate,
Screen printing of undercoat glass paste, belt-type continuous firing furnace at 900 ° C peak 15 minutes, IN
Step B was performed in which the undercoat glass layer 3 was formed by firing with a profile of -OUT 2 hours. next,
On the three layers of the undercoat glass, a resistance paste made of a metal organic material containing RuO 2 as a main component was screen-printed. Then, in order to skip only the organic components of the metal organic resistance paste and bake only the metal components onto the undercoat glass layer, a profile of 10 minutes at peak temperature of 640 ° C and 45 minutes at IN-OUT time was conducted by a belt type continuous firing furnace. And the step C of forming the resistor layer 4 was performed. Next, a thick-film silver paste is screen-printed so as to overlap a part of the resistor layer 4 and baked in a belt-type continuous baking furnace at a temperature of 600 ° C. with a profile of IN-OUT 45 minutes with a peak time of 6 minutes. Step D of forming the upper electrode layer 5 was performed. Further, in order to protect the resistor layer 4, an overcoat glass paste is screen-printed so as to completely cover the resistor layer 4, and a belt-type continuous firing furnace is used at a temperature of 600 ° C. for a peak time of 15 minutes. IN−OUT
Step E of baking with a baking profile of 90 minutes to form the overcoat glass layer 6 was performed. Next, in order to make the resistance value of the resistor layer 4 between the upper electrode layers 5 uniform, the resistance layer 4 is irradiated with laser light (oscillation frequency: 5 kHz, output: 0.3 W) passing through the overcoat glass layer 6. Only by destroying, only the resistance value correcting step F was performed. Next, as a preparatory step for forming the end face electrodes, a primary substrate dividing step G was performed to divide the alumina substrate 1 into strips and obtain a strip alumina substrate 1 'in order to expose the end face electrodes. Further, a thick-film silver paste is applied to a side surface of the strip-shaped alumina substrate 1 'by a roller so as to overlap a part of the upper electrode layer 5, and a belt-type continuous firing furnace is used at a temperature of 600 ° C. for a peak time of 6 hours. Min, IN
An end face conductor paste printing / firing step H was performed in which the end face electrode layer 8 was formed by firing with a firing profile of -OUT 45 minutes. Next, as a preparation step of the electrode plating step J, a secondary substrate division step J of dividing the strip-shaped alumina substrate 1 ′ on which the end face electrode layer 8 has been formed into individual pieces is performed. Finally, in order to prevent electrode erosion during soldering of the exposed upper surface electrode layer 5 and end surface electrode layer 8 and to secure the reliability of soldering, Ni, Sn-Pb was electrolytically plated. An electrode plating step J for forming the plating layer 9 was performed.

以上の工程により、本発明の実施例による角板型薄膜
チップ抵抗器を試作した。
Through the steps described above, a square plate type thin film chip resistor according to the embodiment of the present invention was experimentally manufactured.

この本発明の実施例による角板型薄膜チップ抵抗器の
抵抗値ばらつき、抵抗温度特性(TCR),電流雑音特
性,耐熱試験(450℃ 10分)による抵抗値変化を従来
の角板型薄膜チップ抵抗器と比較して示した。この結
果、抵抗値ばらつき・TCR・電流雑音特性は従来の角板
型薄膜チップ抵抗器と同等であることが分かった。ま
た、第3図に示すように、耐熱性においては従来の角板
型薄膜チップ抵抗器より優れているといえる。
Variations in resistance values, resistance temperature characteristics (TCR), current noise characteristics, and changes in resistance values due to a heat resistance test (450 ° C. for 10 minutes) of the square plate type thin film chip resistor according to the embodiment of the present invention are compared with those of the conventional square plate type thin film chip. It is shown in comparison with a resistor. As a result, it was found that the resistance variation, TCR, and current noise characteristics were equivalent to those of the conventional square-plate thin-film chip resistor. In addition, as shown in FIG. 3, it can be said that the heat resistance is superior to the conventional square plate type thin film chip resistor.

なお実施例ではアンダーコートの焼成温度を、900
℃、金属有機物抵抗ペーストの焼成温度を640℃、上面
導体の焼成温度を600℃、オーバーコートガラスペース
トの焼成温度を600℃、端面導体ペーストの焼成温度を6
00℃としたがこれは焼成温度を限定するものではない。
In the examples, the firing temperature of the undercoat was set to 900
℃, the sintering temperature of the metal organic resistance paste is 640 ℃, the sintering temperature of the upper surface conductor is 600 ℃, the sintering temperature of the overcoat glass paste is 600 ℃, the sintering temperature of the end surface conductor paste is 6
The temperature was set to 00 ° C., but this does not limit the firing temperature.

また、金属有機物抵抗ペーストはRuO2を主成分とする
抵抗ペーストを用いたが、Ni−Cr系や貴金属系でもよ
く、金属有機物抵抗ペーストなら何でもよい。
Further, the metal-organic resistance paste used was a resistance paste mainly composed of RuO 2 , but may be a Ni—Cr-based or noble metal-based paste, or any metal-organic resistance paste.

また、上面電極層及び、端面電極層は銀系の厚膜電極
ペーストを用いたが、これは金や白金、更に銅等の卑金
属系の厚膜電極ペーストでもよい。
Although the upper electrode layer and the end face electrode layer use a silver-based thick film electrode paste, this may be a base metal-based thick film electrode paste such as gold, platinum, or copper.

発明の効果 以上の説明から明らかなように本発明は、耐熱性絶縁
基板の表面を平滑化するためにアンダーコートガラスを
印刷し焼成する工程と、前記アンダーコートガラス上に
薄膜抵抗体を形成するために金属有機物からなる抵抗材
料を印刷し焼成する工程と、前記抵抗体を接続するため
の電極を形成するために化学的に安定な導電材を印刷し
焼成する工程と、前記抵抗体を被覆し保護するためにオ
ーバーコートガラスを印刷し焼成する工程と、前記抵抗
体の特性をそろえるための抵抗値修正工程と、端面電極
を形成するための準備工程である1次基板分割工程およ
びその分割基板の端面部の電極形成を行うための端面電
極印刷焼成工程と、電極メッキの準備工程である2次基
板分割工程およびはんだ付けによる電極喰われ防止およ
びはんだ付け性の信頼性を確保するための電極メッキ工
程とを備えているため、次の様な効果が得られる。
As is clear from the above description, the present invention provides a step of printing and firing an undercoat glass to smooth the surface of a heat-resistant insulating substrate, and forming a thin film resistor on the undercoat glass. Printing and firing a resistive material made of a metal organic material, printing and firing a chemically stable conductive material to form an electrode for connecting the resistor, and coating the resistor. A step of printing and firing an overcoat glass for protection and protection, a step of correcting a resistance value for equalizing the characteristics of the resistor, and a step of dividing a primary substrate as a preparation step for forming an end face electrode and the division thereof An end face electrode printing and baking step for forming an electrode on the end face of the board, a secondary board dividing step which is a preparation step for electrode plating, and prevention of electrode erosion and soldering by soldering. Since the method includes an electrode plating step for ensuring the reliability of the attachment, the following effects can be obtained.

(1) スパッタ装置を用いず、印刷機とベルト式連続
焼成炉によって連続的に薄膜抵抗膜を形成できるので、
製造コストが下がり、厚膜角板型チップ抵抗器と同程度
の安価な角板型薄膜チップ抵抗器が提供できる。
(1) Since a thin film resistance film can be continuously formed by a printing machine and a belt type continuous firing furnace without using a sputtering apparatus,
The manufacturing cost is reduced, and an inexpensive square-plate thin-film chip resistor comparable to a thick-film square-chip chip resistor can be provided.

(2) 薄膜抵抗体は金属有機物からなる抵抗材料を印
刷し高温で焼成しているので、保護コートとしてガラス
コートを用いることができ、従来の角板型薄膜チップ抵
抗器に比べ耐熱性の向上が図れる。
(2) Since the thin film resistor is printed with a resistance material made of a metal organic material and baked at a high temperature, a glass coat can be used as a protective coat, and the heat resistance is improved as compared with the conventional square plate type thin film chip resistor. Can be achieved.

(3) アンダーコートガラスによって分割溝入り基板
特有の分割溝間の基板のうねりを吸収し、表面を平滑に
している。このため、従来のように、うねりのない平滑
な基板にレーザースクライブを行うことによって分割溝
を形成する必要がないので、基板の絶縁性が向上する。
(3) The undercoat glass absorbs the undulation of the substrate between the divided grooves peculiar to the divided grooved substrate, and makes the surface smooth. For this reason, it is not necessary to form a dividing groove by performing laser scribing on a smooth substrate having no undulation as in the related art, so that the insulating property of the substrate is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の角板型薄膜チップ抵抗器の製造工程を
示す説明図、第2図は第1図の角板型薄膜チップ抵抗器
の製造方法によって製造されたサンプルの断面図、第3
図は本発明の角板型薄膜チップ抵抗器の耐熱性を示す説
明図、第4図は従来の角板型薄膜チップ抵抗器の製造工
程の一例を示す説明図である。 1……96アルミナ基板、1′……短冊状96アルミナ基
板、1″……個片状96アルミナ基板、2……分割のため
の溝、3……アンダーコートガラス層、4……抵抗体
層、5……上面電極層、6……オーバーコートガラス
層、7……トリミング溝、8……端面電極層、9……電
極メッキ層。
FIG. 1 is an explanatory view showing a manufacturing process of a square plate type thin film chip resistor according to the present invention. FIG. 2 is a sectional view of a sample manufactured by the method of manufacturing a square plate type thin film chip resistor shown in FIG. 3
FIG. 4 is an explanatory diagram showing the heat resistance of the rectangular plate type thin film chip resistor of the present invention, and FIG. 4 is an explanatory diagram showing an example of a manufacturing process of a conventional rectangular plate type thin film chip resistor. 1 ... 96-alumina substrate, 1 '... strip-shaped 96-alumina substrate, 1 "... individual-piece 96-alumina substrate, 2 ... grooves for division, 3 ... undercoat glass layer, 4 ... resistor Layer 5, top electrode layer, 6 overcoat glass layer, 7 trimming groove, 8 end electrode layer, 9 electrode plating layer.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】耐熱性絶縁基板の表面を平滑化するために
アンダーコートガラスを印刷し焼成する工程と、前記ア
ンダーコートガラス上に薄膜抵抗体を形成するために金
属有機物からなる抵抗材料を印刷し焼成する工程と、前
記抵抗体を接続するための電極を形成するために化学的
に安定な導電材を印刷し焼成する工程と、前記抵抗体を
被覆し保護するためにオーバーコートガラスを印刷し焼
成する工程と、前記抵抗体の特性をそろえるための抵抗
値修正工程と、端面電極を形成するための準備工程であ
る1次基板分割工程および分割基板の端面部の電極形成
を行うための端面電極印刷焼成工程と、電極メッキの準
備工程である2次基板分割工程およびはんだ付けによる
電極喰われ防止およびはんだ付け性の信頼性を確保する
ための電極メッキ工程とを備えたことを特徴とする角板
型薄膜チップ抵抗器の製造方法。
1. A step of printing and baking an undercoat glass to smooth the surface of a heat-resistant insulating substrate, and printing a resistance material made of a metal organic material on the undercoat glass to form a thin film resistor. And baking, printing and baking a chemically stable conductive material to form an electrode for connecting the resistor, and printing overcoat glass to cover and protect the resistor. Baking step, a resistance value correcting step for making the characteristics of the resistor uniform, and a primary substrate dividing step which is a preparation step for forming an end face electrode and an electrode for forming an end face portion electrode of the divided board. Electrode plating to prevent electrode erosion by soldering and to secure the reliability of solderability by dividing the secondary substrate, which is a preparation process of electrode plating, into a secondary substrate dividing process, which is a preparation process of electrode plating. Method for producing a square plate-type thin film chip resistor is characterized in that a degree.
【請求項2】オーバーコートガラスを透過するレーザー
光によって、オーバーコートに覆われた抵抗体の一部を
破壊することによって抵抗値を修正することを特徴とす
る請求項1記載の角板型薄膜チップ抵抗器の製造方法。
2. The square plate type thin film according to claim 1, wherein the resistance value is corrected by destroying a part of the resistor covered by the overcoat with a laser beam transmitted through the overcoat glass. Manufacturing method of chip resistor.
JP1130849A 1989-05-24 1989-05-24 Manufacturing method of square plate type thin film chip resistor Expired - Lifetime JP2718178B2 (en)

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