JPH0323357Y2 - - Google Patents
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- JPH0323357Y2 JPH0323357Y2 JP7100288U JP7100288U JPH0323357Y2 JP H0323357 Y2 JPH0323357 Y2 JP H0323357Y2 JP 7100288 U JP7100288 U JP 7100288U JP 7100288 U JP7100288 U JP 7100288U JP H0323357 Y2 JPH0323357 Y2 JP H0323357Y2
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Description
【考案の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本考案は温水プール浄化殺菌装置に関するもの
である。
である。
［従来の技術］
温水プール水中のCOD値、或はバクテリア及
びウイルスの含有量を規準値以下に保つために温
水プール水に塩素類を投入し、或は温水プール水
を活性炭濾過装置で濾過し循環使用することは知
られている。
びウイルスの含有量を規準値以下に保つために温
水プール水に塩素類を投入し、或は温水プール水
を活性炭濾過装置で濾過し循環使用することは知
られている。
［考案が解決しようとする課題］
従来技術は次のような問題点を有する。
温水プールの水温は30℃前後で冷水プールに比
し、水温が高いため遊泳者の汗や脂肪、汚れが溶
け出し易く、必然的にCOD値が高くなり易い。
又温水プールの水温は菌類の培養適温（JIS細菌
検査法では25〜35℃）であり、時折水中に紛れ込
む伝染性の細菌やウイルス、例えばプール熱と呼
ばれるアデノウイルス、水ぼうそう、風疹、結膜
炎、小児マヒ等の原因となる細菌やウイルスが温
水プール中では増殖し易い。このため、温水プー
ルの水質基準を満たし、COD値並びに大腸菌及
び一般細菌を殺菌し、（バクテリアを殺菌し、ウ
イルスを不活性し）これらの含有量を基準値以下
に保つためには多量の塩素類を投入する必要が生
ずるが、多量の塩素類を投入すると次のような弊
害が生ずる。
し、水温が高いため遊泳者の汗や脂肪、汚れが溶
け出し易く、必然的にCOD値が高くなり易い。
又温水プールの水温は菌類の培養適温（JIS細菌
検査法では25〜35℃）であり、時折水中に紛れ込
む伝染性の細菌やウイルス、例えばプール熱と呼
ばれるアデノウイルス、水ぼうそう、風疹、結膜
炎、小児マヒ等の原因となる細菌やウイルスが温
水プール中では増殖し易い。このため、温水プー
ルの水質基準を満たし、COD値並びに大腸菌及
び一般細菌を殺菌し、（バクテリアを殺菌し、ウ
イルスを不活性し）これらの含有量を基準値以下
に保つためには多量の塩素類を投入する必要が生
ずるが、多量の塩素類を投入すると次のような弊
害が生ずる。
人体から発生する汗や尿、タンパク質に含まれ
るアンモニアや窒素化合物と殺菌剤としての塩素
が反応すると、例えば次式に従いクロラミンが生
成する。
るアンモニアや窒素化合物と殺菌剤としての塩素
が反応すると、例えば次式に従いクロラミンが生
成する。
NH3＋HOCl→NH2Cl＋H2O
モノクロラミン
Ｒ→NH2＋HOCl→Ｒ＝NHCl＋H2O
モノクロラミン
温水プールでは低分子量の揮発性クロラミンが
大量に発生し易く、これが温水プール特有の刺激
臭を伴なつた結合塩素として、目やノドを痛める
こととなる。又クロラミンがプール表面から蒸発
し酸化されると、例えば次式に従い塩化水素
（HCl）を発生する。
大量に発生し易く、これが温水プール特有の刺激
臭を伴なつた結合塩素として、目やノドを痛める
こととなる。又クロラミンがプール表面から蒸発
し酸化されると、例えば次式に従い塩化水素
（HCl）を発生する。
2NH2Cl＋HOCl→N2＋3H2O＋3HCl
Ｒ−NHCl＋HOCl→Ｒ−Ｎ＋H2O＋HCl
上記のようにクロラミンの酸化が促進されると
HClが発生し、プールの天井や壁面の塗装と下地
のコンクリートの間に入り込み、或はHClが温水
プールから蒸発する水蒸気に溶解して塩酸とな
り、塗装の剥離やコンクリート面の肌荒れを生ず
る。
HClが発生し、プールの天井や壁面の塗装と下地
のコンクリートの間に入り込み、或はHClが温水
プールから蒸発する水蒸気に溶解して塩酸とな
り、塗装の剥離やコンクリート面の肌荒れを生ず
る。
又活性炭濾過装置を使用して濾過を行なうと活
性炭に有機物、細菌等が附着堆積しその機能が急
速に低下し、濾過装置中の活性炭を屡々交換する
必要が生ずる。
性炭に有機物、細菌等が附着堆積しその機能が急
速に低下し、濾過装置中の活性炭を屡々交換する
必要が生ずる。
本考案は、上述したような従来技術の有する課
題を解消しうる温水プール浄化殺菌装置を提供し
ようとするものである。
題を解消しうる温水プール浄化殺菌装置を提供し
ようとするものである。
［課題を解決するための手段］
上述の目的を達成するため本考案においては、
温水プール水を循環して浄化殺菌する温水プール
浄化殺菌装置を、温水プール水の循環路中に設け
られた温水プール水中に含まれる有機物を分解す
るためのオゾンを発生するオゾン発生装置と、上
記オゾンによつて分解された有機物とオゾンを含
む温水プール水を導入濾過するための活性炭濾過
装置と、活性炭濾過装置に設けられたガス抜きと
で構成する。
温水プール水を循環して浄化殺菌する温水プール
浄化殺菌装置を、温水プール水の循環路中に設け
られた温水プール水中に含まれる有機物を分解す
るためのオゾンを発生するオゾン発生装置と、上
記オゾンによつて分解された有機物とオゾンを含
む温水プール水を導入濾過するための活性炭濾過
装置と、活性炭濾過装置に設けられたガス抜きと
で構成する。
［作用］
温水プール水の循環路中に、温水プール水中に
含まれる有機物を分解するためのオゾンを発生す
るオゾン発生装置を設け、循環水中に含まれる有
機物をオゾンで分解する。
含まれる有機物を分解するためのオゾンを発生す
るオゾン発生装置を設け、循環水中に含まれる有
機物をオゾンで分解する。
オゾンで分解された有機物とオゾンとを含む温
水プール水を活性炭濾過装置に送り、オゾンで分
解された有機物を活性炭で濾過吸着し、吸着され
た上記有機物の分解物をオゾンで酸化して炭酸ガ
スとして、ガス抜きで除去する。
水プール水を活性炭濾過装置に送り、オゾンで分
解された有機物を活性炭で濾過吸着し、吸着され
た上記有機物の分解物をオゾンで酸化して炭酸ガ
スとして、ガス抜きで除去する。
［実施例］
本考案温水プール浄化殺菌装置は、温水プール
（図示せず）からの循環水を導入する導入管１と、
オゾン発生装置２と、活性炭濾過装置３と活性炭
濾過装置３から処理の終つた温水プール水をプー
ルに還流するための還流管４と、活性炭濾過装置
３に設けられたガス抜き５と、オゾン発生装置２
から温水プール水を活性炭濾過装置３へ送るため
の連結管６とで構成されている。
（図示せず）からの循環水を導入する導入管１と、
オゾン発生装置２と、活性炭濾過装置３と活性炭
濾過装置３から処理の終つた温水プール水をプー
ルに還流するための還流管４と、活性炭濾過装置
３に設けられたガス抜き５と、オゾン発生装置２
から温水プール水を活性炭濾過装置３へ送るため
の連結管６とで構成されている。
本考案におけるオゾン発生装置２としては、波
長253.7nm及び184.9nmの紫外線を発生する紫外
線ランプ７を用いるのが特に好ましく、ユーゾン
（商品名、セン特殊光源株式会社製）を用いるこ
とにより極めて好適な結果をうることができる。
紫外線ランプ７の出力（ｗ）は処理すべき水量、
処理水のCOD値等に応じて定められるが循環水
量50m3／hrの場合には約１，100wで十分である。
長253.7nm及び184.9nmの紫外線を発生する紫外
線ランプ７を用いるのが特に好ましく、ユーゾン
（商品名、セン特殊光源株式会社製）を用いるこ
とにより極めて好適な結果をうることができる。
紫外線ランプ７の出力（ｗ）は処理すべき水量、
処理水のCOD値等に応じて定められるが循環水
量50m3／hrの場合には約１，100wで十分である。
波長184.9nmの紫外線は、02をオゾンに変化さ
せるのに有効であり、又波長253.7nmの紫外線は
各種酸化剤に対する増感作用を有する。
せるのに有効であり、又波長253.7nmの紫外線は
各種酸化剤に対する増感作用を有する。
例えば、次の反応により、この紫外線はHOCl
に作用して［Ｏ］（活性酸素）を遊離し、有機物
を短時間に酸化分解させる。
に作用して［Ｏ］（活性酸素）を遊離し、有機物
を短時間に酸化分解させる。
HOCl〓〓HCl＋［Ｏ］
一例としてオゾン（濃度0.5〜5ppm）及び塩素
（濃度0.1〜1ppm）、塩素（濃度１〜10ppm）の濃
度が自然分解によつて1/10となるのに必要な時間
は夫々10〜60分、48時間、48時間であるが、波長
253.7nmの紫外線を照射するとこの分解時間は
夫々１〜２秒、１〜２分、８〜10分に短縮され
る。このため、波長184.9nmの紫外線照射によつ
て生成されたオゾンは速かにプール水に含まれる
有機物と反応して消費されるため、発生したオゾ
ンが気体の状態で系外に排出されることがなく、
気体で排出されるオゾンを処理するための処理装
置を特に設ける必要がなくなる。
（濃度0.1〜1ppm）、塩素（濃度１〜10ppm）の濃
度が自然分解によつて1/10となるのに必要な時間
は夫々10〜60分、48時間、48時間であるが、波長
253.7nmの紫外線を照射するとこの分解時間は
夫々１〜２秒、１〜２分、８〜10分に短縮され
る。このため、波長184.9nmの紫外線照射によつ
て生成されたオゾンは速かにプール水に含まれる
有機物と反応して消費されるため、発生したオゾ
ンが気体の状態で系外に排出されることがなく、
気体で排出されるオゾンを処理するための処理装
置を特に設ける必要がなくなる。
この装置においては、紫外線ランプ７を気密に
囲んで石英管８が設けられ、エアーポンプ９によ
り空気が、空気供給管１０を介して石英管８内に
送られ、空気に含まれる酸素が波長184.9nmの紫
外線の作用によりオゾンとなる。このようにして
得られたオゾンを含む空気はオゾン供給管１１を
介して、オゾン発生装置２の底部に設けられたオ
ゾン供給部１２から気泡として排出され、導入管
１からオゾン発生装置２内に送られた温水プール
水と接触し、温水プール水に含まれる有機物が分
解される。
囲んで石英管８が設けられ、エアーポンプ９によ
り空気が、空気供給管１０を介して石英管８内に
送られ、空気に含まれる酸素が波長184.9nmの紫
外線の作用によりオゾンとなる。このようにして
得られたオゾンを含む空気はオゾン供給管１１を
介して、オゾン発生装置２の底部に設けられたオ
ゾン供給部１２から気泡として排出され、導入管
１からオゾン発生装置２内に送られた温水プール
水と接触し、温水プール水に含まれる有機物が分
解される。
分解された有機物とオゾンを含む温水プール水
は連絡管６によつて活性炭濾過装置３に送られ
る。
は連絡管６によつて活性炭濾過装置３に送られ
る。
活性炭濾過装置３としては公知の装置、例えば
第３図に示すように、活性炭１３を充填した充填
塔が好適に使用でき、その大きさは処理水量によ
り決定される。
第３図に示すように、活性炭１３を充填した充填
塔が好適に使用でき、その大きさは処理水量によ
り決定される。
なお第３図において、１４は小砂利、１５は中
砂利、１６は大砂利、１６は集水ストレーナーで
あり、濾過能率を向上させる作用を有する。
砂利、１６は大砂利、１６は集水ストレーナーで
あり、濾過能率を向上させる作用を有する。
温水プール水は連絡管６を介して活性炭濾過装
置３の上部に設けられた撒水装置１８に送られ、
撒水装置の壁面に設けられた小孔１９から活性炭
１３上に撒布され、活性炭１３、小砂利１４、中
砂利１５、大砂利１６、集水ストレーナー１７を
経て環流管４から取出され、プールへ環流せしめ
られる。
置３の上部に設けられた撒水装置１８に送られ、
撒水装置の壁面に設けられた小孔１９から活性炭
１３上に撒布され、活性炭１３、小砂利１４、中
砂利１５、大砂利１６、集水ストレーナー１７を
経て環流管４から取出され、プールへ環流せしめ
られる。
なお２０はドレン抜きである。
この間に温水プール水は活性炭で濾過され、そ
の中に含まれる分解された有機物は活性炭に吸着
される。温水プール水に含まれる塩素とかオゾン
が紫外線（253.7nm）の光エネルギーにより短時
間で分解され、この際発生する活性酸素（発生期
酸素）により上記有機物は酸化されて炭酸ガスと
なりガス抜き管５から排出される。このように温
水プール水中に含まれる有機物はオゾン発生装置
２中で分解され、分解された有機物は活性炭に吸
着されて更に酸化されて炭酸ガスとなるため、活
性炭中に有機物が附着、堆積することによつて生
ずる活性炭の劣化が極めて小さく、３〜４年以上
連続して使用しうる。（なお従来は２ケ月程度で
活性炭の交換附活をする必要があつた。） 上記実施例の装置に基づく実験例では、オゾン
発生量1.8gr／hrの紫外線ランプ（ユーゾンuz−
116−６、商品名、セン特殊光源株式会社製、消
費電力1085w、発生紫外線波長184.9nm及び
253.7nm）を使用し、370m3の温水プールを50
m3／hrの割合で循環させた場合、オゾンによる
CODの減少量は0.12ppmであり、又プール水中の
残留塩素（有効塩素）を0.5ppmとした場合、紫
外線照射により次式によつて生成した活性酸素
［Ｏ］によるCODの低下は0.71ppmであり、COD
負荷値が0.8ppmの場合、ユーゾンuz−110−６、
１基と活性炭濾過装置１基とでCODを低下させ
ることができた。
の中に含まれる分解された有機物は活性炭に吸着
される。温水プール水に含まれる塩素とかオゾン
が紫外線（253.7nm）の光エネルギーにより短時
間で分解され、この際発生する活性酸素（発生期
酸素）により上記有機物は酸化されて炭酸ガスと
なりガス抜き管５から排出される。このように温
水プール水中に含まれる有機物はオゾン発生装置
２中で分解され、分解された有機物は活性炭に吸
着されて更に酸化されて炭酸ガスとなるため、活
性炭中に有機物が附着、堆積することによつて生
ずる活性炭の劣化が極めて小さく、３〜４年以上
連続して使用しうる。（なお従来は２ケ月程度で
活性炭の交換附活をする必要があつた。） 上記実施例の装置に基づく実験例では、オゾン
発生量1.8gr／hrの紫外線ランプ（ユーゾンuz−
116−６、商品名、セン特殊光源株式会社製、消
費電力1085w、発生紫外線波長184.9nm及び
253.7nm）を使用し、370m3の温水プールを50
m3／hrの割合で循環させた場合、オゾンによる
CODの減少量は0.12ppmであり、又プール水中の
残留塩素（有効塩素）を0.5ppmとした場合、紫
外線照射により次式によつて生成した活性酸素
［Ｏ］によるCODの低下は0.71ppmであり、COD
負荷値が0.8ppmの場合、ユーゾンuz−110−６、
１基と活性炭濾過装置１基とでCODを低下させ
ることができた。
［考案の効果］
活性炭濾過装置で吸着される分解された有機物
は、温水プール中に含まれるオゾンにより分解さ
れて炭酸ガスとなり、ガス抜きから系外に取出さ
れるので、活性炭上に堆積することがなく、活性
炭濾過装置は長時間（約３年以上）使用してもそ
の性能の低下は全く生ぜず、長時間に亘つて活性
炭の取替が不要であり、しかもこの間COD値、
大腸菌及び一般細菌の含有量を基準値以下に保つ
ことができる。
は、温水プール中に含まれるオゾンにより分解さ
れて炭酸ガスとなり、ガス抜きから系外に取出さ
れるので、活性炭上に堆積することがなく、活性
炭濾過装置は長時間（約３年以上）使用してもそ
の性能の低下は全く生ぜず、長時間に亘つて活性
炭の取替が不要であり、しかもこの間COD値、
大腸菌及び一般細菌の含有量を基準値以下に保つ
ことができる。
又クロラミンの発生による刺激臭や、HClを生
成することもない。
成することもない。
第１図は本考案温水プール浄化装置の正面図、
第２図はオゾン発生装置の−線に沿つた断面
図、第３図は活性炭濾過装置の−線に沿つた
断面図である。 なお図中１は導入管、２はオゾン発生装置、３
は活性炭濾過装置、４は環流管、５はガス抜き、
６は連絡管、７は紫外線ランプ、８は石英管、９
はエアーポンプ、１０は空気供給管、１１はオゾ
ン供給管、１２はオゾン供給部、１３は活性炭、
１４は小砂利、１５は中砂利、１６は大砂利、１
７は集水ストレーナー、１８は撒水装置、１９は
小孔、２０はドレン抜きを示す。
第２図はオゾン発生装置の−線に沿つた断面
図、第３図は活性炭濾過装置の−線に沿つた
断面図である。 なお図中１は導入管、２はオゾン発生装置、３
は活性炭濾過装置、４は環流管、５はガス抜き、
６は連絡管、７は紫外線ランプ、８は石英管、９
はエアーポンプ、１０は空気供給管、１１はオゾ
ン供給管、１２はオゾン供給部、１３は活性炭、
１４は小砂利、１５は中砂利、１６は大砂利、１
７は集水ストレーナー、１８は撒水装置、１９は
小孔、２０はドレン抜きを示す。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 温水プール水を循環して浄化殺菌する温水プ
ール浄化殺菌装置において、温水プール水の循
環路中に設けられた温水プール水中に含まれる
有機物を分解するためのオゾンを発生するオゾ
ン発生装置と、上記オゾンによつて分解された
有機物とオゾンを含む温水プール水を導入濾過
するための活性炭濾過装置と、活性炭濾過装置
に設けられたガス抜きとを有する温水プール浄
化殺菌装置。 (2) オゾン発生装置は波長253.7nm及び184.9nm
の紫外線を発生する紫外線ランプを具備するこ
とを特徴とする請求項１記載の温水プール浄化
殺菌装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7100288U JPH0323357Y2 (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7100288U JPH0323357Y2 (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01174096U JPH01174096U (ja) | 1989-12-11 |
| JPH0323357Y2 true JPH0323357Y2 (ja) | 1991-05-21 |
Family
ID=31296216
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7100288U Expired JPH0323357Y2 (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0323357Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010195490A (ja) * | 2001-12-04 | 2010-09-09 | Arch Chemicals Inc | 薬品供給装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4818521B2 (ja) * | 2000-04-12 | 2011-11-16 | パナソニックエコシステムズ株式会社 | 地下水浄化装置 |
-
1988
- 1988-05-31 JP JP7100288U patent/JPH0323357Y2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010195490A (ja) * | 2001-12-04 | 2010-09-09 | Arch Chemicals Inc | 薬品供給装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01174096U (ja) | 1989-12-11 |
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