JPH0322977B2 - - Google Patents

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JPH0322977B2
JPH0322977B2 JP58102972A JP10297283A JPH0322977B2 JP H0322977 B2 JPH0322977 B2 JP H0322977B2 JP 58102972 A JP58102972 A JP 58102972A JP 10297283 A JP10297283 A JP 10297283A JP H0322977 B2 JPH0322977 B2 JP H0322977B2
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JP
Japan
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photomask
photosensitive layer
substrate
liquid
layer
Prior art date
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JP58102972A
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English (en)
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JPS593440A (ja
Inventor
Baanaado Heiaato Robaato
Baanaado Koen Aburahamu
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EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
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Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPS593440A publication Critical patent/JPS593440A/ja
Publication of JPH0322977B2 publication Critical patent/JPH0322977B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F3/00Colour separation; Correction of tonal value
    • G03F3/10Checking the colour or tonal value of separation negatives or positives
    • G03F3/103Checking the colour or tonal value of separation negatives or positives using tonable photoresist or photopolymerisable systems
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/22Exposing sequentially with the same light pattern different positions of the same surface
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0073Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
    • H05K3/0082Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the exposure method of radiation-sensitive masks

Description

【発明の詳細な説明】 刷印回路、グラフイツクアーツおよびその他の
関連した産業においては、オリジナル(ポジまた
はネガ)フオトマスクから光感受性シートサポー
トの片側または両側に像を写真により転写する継
続した必要性がある。
特に、好適なフオトマスクを使用してオリジナ
ルアートワークから4色の刷込み試験刷りを調製
する必要がある。刷込み試験刷りを行うために
は、例えば、各々の像を以前の像に整合してそれ
により最終の像を以前の像に正確に整合させるこ
とが非常に重要である。また、多数のフオトマス
クを使用してシートサポートの片側または両側に
多層回路板を形成することが必要である。片側ま
たは両側に多数の像が形成された多層印刷回路板
が製造される場合にはまた、これらの像を互いに
正確に整合させることが重要である。すべての場
合において、この写真による方法はオリジナルの
鮮明度、位置および像の特徴を維持し且つ像の転
移を最小限にとどめる態様で実施されなければな
らない。最後に、オペレータの取扱う作業を減少
させ且つ再現性を高めるためにこの方法をできる
だけ自動化することが重要である。
4色刷込み試験刷りは例えば米国特許第
3649268号、米国特許第3854950号(ポジとして作
用させる方法)および米国特許第4174216号(ネ
ガとして作用させる方法)の各明細書に教示され
ているように調製することができる。これらの方
法においては、光重合体フイルムエレメントが先
づ厚紙素材のような好適なサポートに積層せしめ
られる。次いで、このフイルムは原色の一つを含
む4個のフオトマスク(例えばオリジナルアート
ワークからの4色の各々を表わす色分離フイル
ム)の一つを通して活性線に像様露出せしめられ
る。通常、露出プロセス中、フオトマスクと感光
性層との良好な接触を保証するために、真空フレ
ーム装置が使用される。ポジとして作用させる方
法においては、光重合体フイルムは本来粘着性を
有しており、そしてこれらの領域は露出中光があ
たり、硬化し且つ粘着性がより低くなる。ネガと
して作用させる方法においては、光重合体フイル
ムが粘調性の粘着層と組み合わされ、そして露出
により光重合体層が像様破壊する。その後、この
構造と組み合わされたカバー層が剥離されると
き、この方法に対して露出された領域が除去され
た粘着性の粘着層の像様領域を露出する。残在し
ている露出していない領域は粘着性を有していな
い。これらの両方の方法において、最終の像は着
色された粉末、トナーを粘調性の領域に適用する
ことにより現像せしめられる。トナーの色はフオ
トマスク像の中に記録された色と合致すべきであ
る。このトナーは複写を表わさす像の粘着性部分
に接着する。各々の付加的な色の記録のために、
付加的な光重合体の層が以前の像の上に積層せし
められ且つそのフオトマスクに露出せしめられ
る。正しい像の位置を維持するために、各々の露
出は以前の露出に正確に整合して実施されなけれ
ばならない。代表的には、この逐次的な操作にお
いて最終の像を調製するために、イエロー、マゼ
ンタ、シアンおよびブラツクの着色された粉末化
されたトナーを使用して4個のフオトマスク像記
録の1組が使用される。その後、この方法はオリ
ジナルアートワークの正確な刷込み試験刷りを行
い、そしてこれは印刷産業にとつてはオリジナル
を試験刷りするための優れた方法である。各々の
着色されたトナーは所望の印刷インクに厳密に適
合させることができるので、この方法は非常に有
用である。各各のフオトマスクを真空フレーム装
置で露出するのは多大な時間を必要とするので、
刷込み形成方法を自動化することが望ましい。そ
れに加えて、各々の記録の整合を手で行うことは
困難であり、そしてそれを自動化することはさら
に困難である。
多層印刷回路板はまた米国特許第4054483号、
同第4054479号ならびに同第4157407号各明細書に
記載されているような乾燥光重合体フイルムを使
用した逐次像転写方法および付加めつき方法によ
り調製することができる。これらの米国特許に記
載された一般的な方法においては、光重合体フイ
ルムエレメントがシート基質材料(例えば薄い絶
縁された回路板)に積層せしめられ、そして光重
合体層が印刷回路の像を有するフオトマスクを通
して活性線に像様露光せしめられる。このシート
基質が貫通穴または回路導体パターンのような回
路構成部分を含んでいる場合には、露出工程前
に、フオトマスクを先づ該構成部分に整合させな
ければならない。像の露出自体またはその後の処
理工程のいずれかにより、積層した基質の上に粘
着像領域が生ずる。この粘着像領域の中に粉末触
媒を好適に埋め込むことができる。次いで、粉末
触媒(例えば銅粉末)が像が形成された表面に適
用されて触媒回路パターンを形成する。次いで、
このパターンは(例えば無電解めつき浴)により
めつきされる。これらの処理工程はオリジナルア
ートワークから高い導電性を有する回路パターン
を製造する。多層回路を完成するために必要な回
路の各々の付加的な層のために、新しい光重合体
フイルムが以前に像が形成され且つめつきされた
積層体の表面に積層せしめられ、そして以前の像
に正確に整して保持されたそのフオトマスクに再
び像様露出せしめられ、そして上記に概略を述べ
た方法全体が繰り返される。この方法を使用し
て、多層回路を基質の片側または両側に適用する
ことができ、且つ回路層の相互接続および貫通穴
の形成を行うことができる。
基質エレメントの手による移送および位置決め
は代表的には前述した方法の各工程の間でなされ
てきた。触媒を適用する工程もまた手により実施
される。これらの方法を自動化するための試みが
今日まで行われてきた。しかし、この自動化は触
媒の適用のような限定された範囲のみに採用され
るにとどまつている。自動化は使用者にとつて可
成りのコスト節減をもたらすので非常に望ましい
特徴である。それにもかかわらず、この方法の前
述した工程の多くは多大な労力を必要とし、また
人為的な誤りを生じ易い。これは特に整合および
露出工程にあてはまることである。
密着焼付けは実事上ある既知の欠点があるにも
かかわらず、刷込み試験刷りおよび印刷回路フオ
トフアブリケーシヨンにおいて今日広く使用され
ている露出方法である。密着焼付けは装置のコス
トが低く、使用するのに簡単でしかも優れた線お
よび網板の鮮明度が得られるけれども可成りの労
力を要し且つ前述した真空吸引のための休止時間
のために処理速度が遅い。密着焼付けはまた反復
使用により生ずるフオトマスクの損傷および汚れ
のために損失を生ずる。これはひいては歩留りの
低下を回避するために屡屡高価なフオトマスクの
修正および取替えを必要とすることになる。ま
た、露出操作の間でフオトマスクの欠陥を検査す
る不断に行われ且つ長たらしい過程において多大
の時間が費やされる。それに加えて、特に大きい
様式を使用する場合には、フレームの温度および
周囲の湿度の変化が隅と隅との整合、位置合せに
影響をおよぼす。ギヤツプ焼付け、投影焼付けお
よびレーザ走査のような別の露出方法の各々は密
着焼付けに優るある重要な利点を有している。し
かしながら、現在の開発状況では、これらの方法
はすべて高い生産性が要求される用途に対しては
重大な制約があり、また装置のコストが本質的に
はるかに高い。
本発明は、感光性層を含む同一のシート基質を
一連の別々のフオトマスクを用いて整合し、像露
光させるための方法であつて、次の段階すなわち (1) いずれかの順序でかまたは同時に (a) 感光性層を含む同一の基質と一連のフオト
マスクを予め定めた関係で相互に整列させる
こと、および (b) 感光性層とフオトマスクとの間に液体を適
用すること を実施させるような装置中の位置に基質を前進さ
せること、 (2) 感光性層を含む同一の基質とフオトマスクと
を液体を介して接触させてこの接触の間液体層
中の液体の押し出しによるより密接な接触以外
にフオトマスクに対する感光性層の実質的な移
動が起こらないようにし、それによつて液体層
に起因する界面力または粘稠力の少なくとも一
方が感光性層とフオトマスクとを相互に一定の
位置に保持されるのを助けること、 (3) フオトマスクを通して感光性層を活性線放射
に露光させて該感光性層上に像を形成させるこ
と、 (4) 露光された感光性層からフオトマスクを除去
すること、 (5) 露光された感光性層の表面を変性すること、 (6) 前記一連の残りのフオトマスクのそれぞれに
対して前記工程(1)ないし(5)を繰り返すこと を包含する方法に関するものである。
本発明の特定の実施態様においては、露出され
た感光性層の表面は像の増感工程、例えば、像領
域に粉末トナーまたは触媒を埋めこむことにより
且つ/または第二感光性層を当初の感光性層に適
用することにより修正することができる。本発明
のさらに別の実施態様においては、基質の両側が
感光性層を含んでおり、且つ上記に概略を述べた
処理工程が両方の感光性層に対して同時に行われ
る。
本発明の方法においては、頂部支持シートを備
えているかまたは備えていない感光性層を含む基
質が整合および露出装置の中に導入される。
この感光性層組成物はネガまたはポジとして作
用することができる光重合可能な組成物を含んで
いることが好ましい。基質は長方形であると便利
である。この装置の整合部分は好ましくは長方形
であり且つ可擡性である1個または2個のフイル
ムエレメントからなつている。これらのフイルム
エレメントの少くとも一方はフオトマスクであ
る。これらのフイルムエレメントの前縁は薄い長
方形のキヤリヤの各々の側で平行にヒンジ留めさ
れた関係に結合することができる。前記キヤリヤ
の厚さは感光性シートの厚さにほぼ等しくなつて
いる。このヒンジ留めされた関係によりフオトマ
スクとキヤリヤとが整合状態に保たれる。両方の
フイルムエレメントがフオトマスクである場合に
は、両方のフイルムエレメントはそれらが共通の
キヤリヤにヒンジ留めされているために互いに正
確に整合せしめられる。本発明と同時に出願され
た米国特許出願第387534号明細書に記載されてい
る装置は一連の各感光性層を整合し且つ露出する
場合に通常異なるフオトマスクを使用することが
必要であることを除いて本発明に使用することが
できる。
フオトマスクがキヤリヤの外側からヒンジ留め
されている場合、感受性ならしめた基質がフイル
ムエレメントの間に配置されまたは整列せしめら
れそれにより1個の基質の端部がキヤリヤの長さ
方向にほぼ平行に整合接触する。ある場合には、
整合接触は単に基体をキヤリヤに隅と隅とを接触
させることであり、その場合、唯一の付加された
基準はフオトマスクの像パターン部分が像を形成
すべきシートの領域の内部に完全に収納されるこ
とである。しかしながら、整合接触においては、
さらに一般的には、基質の感光性シートに含まれ
ている細部をフオトマスク像の細部に正確に整合
することが必要である。この場合には、シート上
またはシート中の少くとも2個の接触点がキヤリ
ヤに固定された2個の対応する接触点に対して所
定の関係に配置される。このような接触点はシー
トおよびキヤリヤ上に好適に隔置された切欠部お
よびタブとすることができる。これらの接触点
は、別の態様として、整合用ピンおよび穴の組合
せからなることができる。その場合、シートは正
確にきりもみされた整合用穴を有しており、これ
らの整合用穴は整合用ピンによりバーに対して所
望の向きに配置される。好適な処理の後に基質上
に正確に整合された異なる度合に露出された一連
の感光性層を得て複合像が形成されたエレメント
を製造するために、各々の基質のための整合はフ
オトマスクからフオトマスクにわたつて実質的に
同一である。
感光性層を含む基質がキヤリヤに対し一たん整
合関係に配置されると、ヒンジ留めされた端縁ま
たはその付近におけるフオトマスクの外面上にキ
ヤリヤにほぼ平行な一直線上に普通の圧力を作用
させ且つ該圧力線をヒンジ線に垂直でしかも感受
性ならしめた基質の表面に平行な方向に(相対的
に)前進させ、そしてその前進と同時に液体を例
えば霧吹きにより前進する圧力線により形成され
た基質とフオトマスクの内面との間のニツプに適
用することにより可撓性フイルムフオトマスクを
感光性層を含む基質の少くとも片側に液体の存在
下で適用することができる。実際に、フオトマス
クが基質の片側に一時的に湿潤積層せしめられて
基質が各フオトマスクの表面から液体の界面によ
り分離された整合せしめられたサンドイツチ積層
構造が得られる。この積層処理工程はヒンジ留め
されたフオトマスクと整合せしめられたシートか
らなる集成体を1対の圧力ロールに通すことによ
り実施することが好ましい。この操作モードにお
いては、圧力が基質および可撓性のフオトマスク
の前縁またはその近くに作用せしめられ、そして
各々のフオトマスクの尾部が各圧力ロールのわん
曲面のまわりを部分的に包囲している。次いで、
好ましくは水である液体が基質の各々の側の2個
のニツプの中に霧吹きされる。整合装置は湿潤し
た積層体の全般的な方向が上向きであり、すなわ
ち、基質が圧力ロールおよび液体アプリケータに
対して上向きの方向に移動するように向けること
が好ましい。整合装置がこのような向きに配置さ
れたとき、フオトマスクおよび感光性層または支
持シートの両方に対して液体の洗浄作用を適用す
ることができ、この洗浄作用はフオトマスクおよ
び感光性層の両方の面に過剰量の液体を吹きつけ
ることにより高められ、そしてこの液体は単に収
集用液体層留めの中に一緒に流れてきた異物とと
もに排出される。それに加えて、活性線に対する
露出が好ましく行われる圧力ロールの上方の領域
は所望していない液体がその中に入らないように
さらに容易に維持することができる。基質および
フオトマスクを整合させるこの方法は真空を使用
しないで行なうことができる。しかしながら、余
分の液体を除去するために真空を使用することが
できる。
この明細書においては「実質的に移動しない」
という表現が感光性層およびフオトマスクの表面
がそれらの表面に平行な方向に相対移動せず、す
なわち、これらの表面が基質に対するフオトマス
クの整合状態を変えるように相対的に摺動しない
ことを意味しているこことは理解されよう。しか
しながら、この「実質的に移動しない」という表
現が例えば液体が感光性層とフオトマスクとの間
の界面から絞られるときにフオトマスクおよび感
光性層がそれらの表面に対して垂直な方向に相対
移動してそれらの表面がより密接して接触せしめ
られることを意味していることは理解されよう。
しかしながら、前進する圧力線により既に接触せ
しめられた感光性層およびフオトマスクはそれら
の表面に平行な方向において所定の関係に留ま
る。
また、この明細書においては、感光性層を含む
基質とフオトマスクとを液体層を通じて「接触」
させることが中間層を除外していないことは理解
されよう。例えば、感光性層が活性線の通過を許
容する支持シートを有することができ、またはフ
オトマスクが剥離コーテイングを備えることがで
きる。このような支持シートまたは剥離コーテイ
ングは液体層と接触させることができる。
この明細書においては、感光性層は予め形成さ
れた層を意味するために使用されており、そして
液体として存在する感光性層を除外している。
フオトマスクが一たん感光性層の上に整合して
固定されると、基質をその感光性材料とともに感
光性層に活性を示す任意の放射源に所定の時間間
隔中露出させることができる。好ましい操作モー
ドにおいては、積層せしめられたエレメントが圧
力ロールから導出され、且つ所定の直立した位置
に停止中断され、そして活性線に3000ないし4000
Åまたはそれよりも高い領域中で均一に露出せし
められる。基質の両側が感光性を有している場合
には、その両側を同時に露出させることが好まし
い。別の操作モードにおいては、基質が圧力ロー
ルから出て放射領域を越えて運び去られるとき
に、感受性ならしめた基質が活性線で照射され
る。このモードにおいては、照射をバンドに集中
させてもよいしまたは強い活性線の横方向に走査
されたスポツトを使用してもよい。その活性線の
強度は感光性表面の露出性および搬送速度に適合
するように調節される。また、感受性ならしめた
基質を整合装置から完全に除去してそれを任意の
好適な露出ユニツトで露出させることも可能であ
る。この場合には、フオトマスクおよびキヤリヤ
は界面の液体により誘起された界面力または粘性
力の作用により感光性層に対して整合して固定さ
れる。界面力および粘性力の両方が存在しうるこ
とは理解されよう。
上記方法の諸工程において、長方形の可撓性フ
イルムエレメントをフオトマスクと記載した。両
面回路板のように像を形成すべきフイルムエレメ
ントの両側が感光性を有している場合には、両方
のフイルムエレメントが不透明像領域および透明
像領域を有している。しかしながら、感光性エレ
メントの片側のみに像を形成すべきである場合、
例えば、片面回路板の場合には、(もしあれば1
組のフイルムエレメントのうちの)1個のフイル
ムエレメントのみをフオトマスクとすることが必
要である。
像形成露出が完了したときに、フオトマスクが
露出された感光性エレメントの表面から剥離され
て像が形成されたエレメントを整合状態から釈放
する。その後、この像が形成されたエレメントは
整合露出装置から移送され、そしてヒンジ留めさ
れたフオトマスク−キヤリヤ集成体がその当初の
位置に戻される。フオトマスクが露出された感光
性層から除去された後、露出された感光性層の表
面が像の補力または定着工程により且つ/または
当初の感光性層に付加的な感光性層を適用するこ
とにより修正(変性)される。代表的な像の補力
工程は感光性層の上に生じた粘着性の像領域の中
に直接に細かく分割された粒状材料、例えば米国
特許第3849268号および米国特許第4243741号各明
細書に記載されているような着色剤または米国特
許第4054483号明細書に記載されているような触
媒粉末または金属粉末を埋めこむことによるトナ
ー処理を含んでいる。別のまたは付加的な増感工
程、例えば米国特許第4054483号、同第4154407
号、同第4174216号および同第4053313号の各明細
書に記載されているような溶解(dissolution)
現像または米国特許第4174216号および同第
4191572号の各明細書に記載されているようない
わゆる剥離(peel−apart)現像を使用すること
ができる。溶解現像または剥離現像が使用される
場合、感光性エレメントはそれ自体が着色剤を含
むかまたは光で形成された着色像を有することが
できる。像補力または定着方法は像が形成された
層を同じまたは異なる活性線または熱に均一に露
出することを包含することができる。金属化され
た像または触媒反応した像が形成される場合に
は、めつきまたははんだづけの付加的な工程を包
含することができる。トナー処理による像の増感
は乾燥したトナーまたは液状トナーを含むことが
できる。刷込みが形成される場合には、その表面
は代表的には上述したようなある型式の像の補力
(intensification)を実施した後に付加的な感光
性層の適用により修正される。その後、露出され
た感光性層は例えば4色の刷込み試験刷りを行う
場合に米国特許第3649268号、同第3854950号およ
び同第4174216号の各明細書に教示されているよ
うにあるいは多層回路板を製造する場合に米国特
許第4054483号、同第4054479号および同第
4157407号の各明細書に教示されているように処
理される。
一つのモードにおいて、修正(変性)工程後に
新しい感光層を処理された像を形成した層に適用
することができ、そして整合および露出工程を繰
り返すことができる。一つの好ましい操作モード
においては、露出後、前露光工程の大部分が逆に
行われる。従つて、露出された積層エレメントは
ローラのような加圧装置を通過して戻り、そして
フオトマスクがキヤリヤ上のヒンジ留めされた領
域に達するまでそのそれぞれの圧力ローラを越え
て格納領域の中に引き戻される。圧力を作用させ
るために、例えば、ゴムぞうきんのようなローラ
以外の手段も使用することができる。
シート基質は整合および像様露出中水平面また
は垂直面を含む任意の向きに配置することができ
る。基質は実質的に垂直面中に配置することが好
ましい。本発明の方法においては、基質を装置中
の整合位置に搬送し且つ該整合位置から搬送する
ために任意の装置を使用することができる。
感光性層または支持シートおよびフオトマスク
に適用される液体は本発明の方法においていくつ
かの重要な機能をはたしている。この液体は活性
線に対して露出中フオトマスクを感光性表面また
は支持シートに整合して密接して接触するように
均一に固定する役目をなし、そして露出後フオト
マスクを露出された感受性ならしめた基質から損
傷したりまたは転移することなく容易に除去可能
ならしめる。余分の液体はフオトマスクの表面を
清浄にし且つ各々の感光性表面または支持層を
個々に清浄にしてフオトマスクの像および/また
は得られた露出した像の特にエレメントが担持す
る塵、埃による劣化を阻止する作用をする。液体
はこれらの重要な機能の他に露出中フオトマスク
を調整し且つ冷却する作用をする。液体をフオト
マスクに霧吹きすることによりフオトマスクの環
境および温度が一定に保たれそして周囲の温度ま
たは湿度の変化による影響を受けにくくなる。こ
の点については、また液体がフオトマスクの外面
上に均一なフイルムを形成するかまたは活性線に
露出する前にその外面から除去されさえすればフ
オトマスクの外面に液体を霧吹き(スプレー)す
ることが望ましい。液体の界面は活性線に実質的
に透明であるべきでありまたフオトマスク(また
は表面変性が所望されないかぎり感光性シートの
表面またはカバーシート)を損傷してはならな
い。またこの液体は感光性層の露出を妨害しては
ならない。この液体はフオトマスクおよび感光性
層または支持シートの表面を湿らし、周囲温度に
おいて揮発性が低くそして該液体の重要な機能を
はたすために充分な粘度を有していることが好ま
しい。好ましい液体は水または液体の特性を改善
する補助剤を含む水溶液、例えば界面活性剤、粘
度調整剤等である。勿論、要求される条件の如何
により、その他の液体例えばアルコール、グリコ
ール、グリコールエーテル、ハロゲン化炭化水
素、パラフイン等も上記の基準を満足しさえすれ
ば使用することができる。この液体は露出工程後
液状に保たれるので、感光性液体は本発明の方法
においてこの成分としては使用されない。
本発明の方法は液体処理に相容性を有する感光
性層を含む任意の基質における像の形成に有用で
ある。もしも感光性層組成物が液体に相容性を有
していなければ、この組成物を保護するために支
持シートまたはカバーシートが使用されることが
好ましい。このような場合には、支持シートは液
体と接触する。本発明の方法は代表的には多層印
刷回路板または4色刷込み試験刷りのために使用
される光重合可能な表面を有するエレメントを露
出するために特に有用である。
本発明の整合および像様露出方法は少くとも片
面が選択自由なサポートまたはカバーシートを有
することができる感光性層を含んでいさえすれば
広範囲の種々の基質に適用することができる。一
つの方式においては、シート基質の対向面は感光
性層を担持しており、整合および像様露出が両方
の表面に対して同時にまたは実質的に同時に行わ
れる。
本発明の方式の一つにおいては、シート基質は
平滑な表面、例えば感光性層が積層された厚紙素
材を含んでいる。
また別の態様として、感光性層が積層された基
質の表面はレリーフの形態の回路を備えることが
でき、且つ平滑にする必要はない。このような場
合には、感光性重合体層を有する対向面の同時ま
たは実質的に同時に行われる整合および像様露光
を含む整合および像様露光方法を同様な仕方で平
滑な表面に対して行うことができる。
基質の組成物および感光性層の組成物は例えば
前述した米国特許および同時に出願された米国特
許出願第387534号の明細書に開示されているよう
にこの技術分野においてよく知られている。
第1図は本発明の方法を実施するために有用な
装置を表わした図である。本発明の方法を以下こ
の装置について説明する。この方法においては、
感光性を有する基質とそれに対応するフオトマス
クの組が整列せしめられ、そして市販されている
ポンチ(またはドリル)を使用して一方の端縁に
沿つて押し抜かれる(すなわち、穴があけられ
る)。符号1で示した予め押し抜かれた感光性な
らしめた基質が取り出され、そしてその先端部の
穴がピン整合セツト2の対応したピンに嵌合され
る。次いで、押し抜かれたフオトマスク6がフオ
トマスクキヤリヤ5に平行にヒンジ留めされた関
係に固定される。フオトマスク6の予め押し抜か
れた穴はキヤリヤ5の整合ピン受入穴9に合致し
ている。次いで、フオトマスクキヤリヤ5が下降
せしめられそしてピン整合装置2を使用して基質
1に整合せしめられる。(別の態様として、穴を
有するフオトマスクを基質1と同じピンに嵌合す
ることができる。ストツパピン4を引つ込め、そ
の後、ニツプロール3および3′を作動させて上
側ロール3′を下側ロール3と接触させて基質1
とフオトマスク6との間にニツプを形成する。第
1図は側面図にすぎないので、整合ピンセツト2
の1個のピンおよび1個の穴のみを示してある。
実際には、2個またはそれよりも多数の穴がフオ
トマスクキヤリヤに設けられており、且つ整合ピ
ンセツト2には同数のピンを設けてある。液体ス
プレー装置7が作動せしめられ、それにより液体
がフオトマスク6と基質1との間に形成されたニ
ツプに霧吹きされる。次いで、フオトマスク6に
整合せしめられた基質1が露出位置5′に向かつ
て移動せしめられ、そして露出ユニツト8を使用
して露出せしめられる。ニツプロール3および
3′の助けにより基質1とフオトマスク6との間
の余分の液体を絞り出すことにより、露出前に密
接した接触が得られた。露出後、この機構は逆転
せしめられる。フオトマスク6と整合した基質1
が復帰移動せしめられ、ニツプロール3および
3′が離れる方向に移動せしめられ、フオトマス
クキヤリヤ5が上昇せしめられ、従つてフオトマ
スクキヤリヤが整合ピンセツト2のピンとの接触
から離脱し、そして露出された基質1およびフオ
トマスク6が釈放される。その後、この方法は例
えばそのセツトの残存しているフオトマスクを使
用して基質に新しい感光層を適用した後に繰り返
して行われる。
第2図には、垂直方式の整合および像様露出方
法を示してある。基質はその両側に感光性層を有
し且つその前縁に沿つて少くとも2個のピン整合
穴を有している。基質が導入される前に、次の条
件が設定される。
ニツプロール12および12′を開く。
クランプ13を開く。
1対の整合フオトマスク16および16′およ
びそのキヤリヤを備えたフオトマスクキヤリヤ1
5をフオトマスクをニツプロール12および1
2′のまわりに緊張させた状態でキヤリヤ整合ピ
ン19によりクランプ13に整合させる。
ピン整合バー14が係合していない。
液体スプレー装置17および17′がオンにさ
れ、そして露出源18および18′が待機状態に
ある。
次いで、基質11がニツプロール12および1
2′を通してクランプ13の内部の整合位置まで
上昇せしめられる。ピン整合バー14が閉じ、先
づキヤリヤ整合ピン19をクランプ13と係合さ
せ、次いで基質11の予め穴あけされた整合穴
(図示せず)をそれ自体のピンで捕捉する。フオ
トマスク集成体15に対する基質11の整合はピ
ンを係合させたときになされる。整合状態を維持
するために次のクランプ13が閉ざされ、そして
その後ピン整合バー14が引つ込められる。クラ
ンプ13が下方に移動せしめられてフオトマスク
集成体15および基質11をニツプロール12お
よび12′に移動させる。次いで、ニツプロール
12,12′が閉ざされ、そしてクランプ13が
露出位置18まで上昇せしめられる。ニツプロー
ル12および12′で余分の液体を絞り出すこと
により、フオトマスク16および16′と基質1
1とが密接して接触せしめられる。次いで、両側
の露出が行われる。露出後、この機構が逆転せし
められ、クランプ13がその当初の整合位置まで
下方に移動し、その後クランプ13およびニツプ
ロール12および12′の両方が開かれる。露出
された基質11が釈放されて例えばトナーによる
処理および新しい感光性層の適用が可能になり、
次いでセツト中の残存しているフオトマスクを使
用してこの方法が繰り返して行われる。両側の像
形成露出を第2図に示してあるが、開示した本発
明の装置を使用して片側のみの像形成露出をも行
うことができることは明らかである。
以下に本発明を下記の特定の例により例示す
る。この例のうちの例1は最良のモードであると
考えられる。すべての部分は特記しない限り重量
で示してある。
例 1 この例は多層および整合露出を使用したポジの
4色刷込み試験刷りの製法を示しており且つ第1
図に略図で示してある。
米国特許第3854950号明細書の例に記載の組
成物と類似の感光性組成物が調製され、そし0.08
mm(0.003インチ)のドクターナイフにより室温
で0.03mm(0.001インチ)の厚さのポリエチレン
テレフタレートフイルムサポート上にコーテイン
グされる。この材料は室温で乾燥せしめられ、そ
して乾燥したフイルムの試料は加熱された圧力ロ
ールを使用して片側がキヤストコーテイングされ
たクロムコート(Kromkote )カバーペーパー
サポート(the Champion Paper and Fiber社
製品)の平滑な側に100℃で積層せしめられる。
0.03mm(0.01インチ)の厚さの粘着性ポリエチレ
ンテレフタレートフイルムの試料がペーパーサポ
ートの他の側に積層せしめられて処理工程中ペー
パーサポートを保護しそしてその反対側に光重合
体の像を形成する。得られた複合サポート/光重
合体エレメントは第1図においてサポート1とし
て示してあり、そして図示の位置に配置される。
次いで、ニツプロール3および3′が作動せしめ
られる。ロール3がサポート1の上に下降せしめ
られ、整合用ピン2をサポート1の予め押し抜か
れた穴を通してフオトマスクキヤリヤ5に整合し
て形成された同様な穴の中に入れる。第1図はこ
の実施態様の側面図にすぎないので、1個のピン
のセツトおよび1個の穴のみを図示してある。実
際には、2個またはそれよりも多数の穴がキヤリ
ヤ5に設けられ且つサポート1に予め押し抜かれ
ており、且つ同数のピンのセツトがこれらの穴に
嵌合させるために設けられている。4色分解像の
青色記録像(イエロープリンタポジ)を含むフオ
トマスク6がキヤリヤ5に取りつけられ、そして
図示したように上側ニツプロール3のまわりに延
びている。上側ニツプロール3は上昇位置(点
線)および下降接触位置(実線)で図示してあ
る。基質の光重合体層とフオトマスクとの間に水
が適用される。この特定の例では、光重合体でコ
ーテイングされたポリエチレンテレフタレートの
シートは複合エレメントの上にカバーシートとし
て依然として保たれている。このようにして、こ
のカバーシートとフオトマスクとの間に水が適用
される。水が適用されそして上側ニツプロール3
が下降された後、ストツパピン4が取り除かれそ
してキヤリヤ5が(図示していない装置により)
光源8の真下の領域の中に移送される。この光源
8は2KW光重合体ランプおよびココモ
(Kokomo )No.400ガラスフイルタ(Kokomo
Opalescent Glass社製品)を使用したBarkey−
Ascor垂直露出源であり、そしてこの光源を使用
してフオトマスク/光重合体の表面から96.5cm
(38インチ)の距離で30秒の露出が行われる。フ
オトマスクと共重合体との間に水を適用すること
により、きれいな像と感光性エレメントとを接触
させることができ、従つて優れた分解能が得られ
る。露出後、この手順が逆にされ、そして露出さ
れた光重合体層を含む基質が自動整合および露出
装置から除去される。このカバシートが光重合体
層から除去され、そして約70%のアセチルセルロ
ース中の約30%のダルマーイエロー(CIピグメ
ントイエロー74)のトナーが木綿パツドを使用し
て適用される。余分のトナーをクロスで拭き取つ
て除去すると、ポジのイエロー像が感光性層の上
に残される。この像はイエローの複製またはフオ
トマスクのポジである。次いで、同じ光重合体の
第2層がイエローの像の上に積層せしめられ、そ
して自動整合および露出装置のフオトマスクは4
色分解の緑色記録像(マゼンタプリンターポジ)
を含むフオトマスクと置き換えられる。基質は自
動整合および露出装置の中に再び挿入され、そし
て前述したように第2フオトマスクと液体接触し
た状態で移送される。この露出が繰り返され、そ
して基質が自動整合および露出装置から除去され
且つカバーシートが除去される。得られた像は約
70%のアセチルセルロース中の約30%のキナクリ
ドンマゼンタ(CIピグメントレツド122)を含む
マゼンタトナーを適用することにより現像され以
前のイエローの像の上に磁性像を顕現する。同じ
光重合体の別の層が2色材料の上に積層せしめら
れ、そしてフオトマスクが4色分解の赤色記録像
(シアンプリンターポジ)と置き換えられる。カ
バーシートを除去した後、その像は約75%のアセ
チルセルローストナー中の約25%のフタロシアニ
ンブルー(CIピグメントブルー15)によるトナ
ー処理により現像せしめられる。次いで、第4光
重合体層がこの3色像の上に積層せしめられ、そ
してフオトマスクが4色分解のブラツクプリンタ
ーポジと置き換えられ、そして第4回目としてこ
の方法全体を繰り返す。カバーシートの除去後、
最終の像が同様に約75%のアセチルセルロースト
ナー中に分散した約25%のカーボンブラツク
(CIピグメントブラツク7)によるトナー処理に
より現像せしめられる。この例により得られた最
終像はオリジナル像の優れた4色刷込み(サープ
リント)ハーフトーンポジであつた。
例 2 特に第2図について述べると、この例はフオト
マスクを両側に感光性層でコーテイングされたサ
ポートと整合して使用する本発明の方法の利用を
示している。
この例では、以下の主要成分を含有する光重合
可能なエレメントが調製される。
不飽和ポリウレタン(不飽和0.5%、分子量
1900) 40% アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重
合体(比重約1.07) 20% トリメチロールプロパントリアクリレート 30% ベンゾフエノン 5% 4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフエノ
ン 5% この組成物は塩化メチレン中で溶解され、そし
て好適な0.03mm(0.001インチ)の厚さのポリエ
チレンテレフタレートフイルムサポート上にコー
テイングされる。このフイルムサポートは光重合
可能な層から剥離可能である。このフイルムサポ
ートよりも光重合可能な層に対する接着性が小さ
い0.03mm(0.001インチ)の厚さのポリエチレン
カバーシートが共重合可能な層の他の側に積層せ
しめられ粘着性のサンドイツチエレメントを形成
する。
このポリエチレンカバーシートが光重合可能な
層から除去され、そして今露出した表面が加熱さ
れた加圧ロールにより代表的なガラス−エポキシ
G−10回路板〔C.F.Coombs Jr.氏著
「PRINTED CIRCUITS HANDBOOK」(1967
年版)第2〜18頁参照〕に積層せしめられる。同
様にして、同じ光重合可能なエレメントの別の部
分がその回路板の反対側の表面に積層せしめられ
る。その結果、両側がコーテイングされた回路板
が得られる。その後、高速(約15000r.p.m)ドリ
ルおよび適当なドリルビツトを使用してこの複合
エレメントの適当な個所に貫通穴が形成される。
この穴あけ作業の後、表面に付着している光重合
体のいかなる小片をも除去するために回路板の表
面が清掃される。この清掃は塩化メチレンで湿ら
せた布で拭き取ることにより行われる。得られた
複合エレメントは第2図で符号11で示してあ
り、基質と呼んでいる。その後、回路パターンの
相補的な接触ポジ透明画(フオトマスク)が自動
整合および露出装置に装着され、そして符号16
および16′で示してある。これらのフオトマス
クは1対の対向して移動しうるニツプロール12
および12′の上方のフオトマスク集成体15に
装着される各々のフオトマスクが整列せしめられ
且つピンバー集成体14に取りつけられたピン1
9を受け入れるために予め穴あけされる。同時
に、ピンバー集成体14はクランプ13に取りつ
けられたピン19を受け入れるようにセツトされ
る。基質はまたピンを受け入れるために適当な位
置に予め穴あけされている。ここで第2図がこの
実施態様の側面図でありそして完全な整合を行う
ことができるようにその長さ方向に沿つてその他
のピンおよび穴が設けられていることに留意すべ
きである。自動整合および露出装置が作動せしめ
られたとき、液体スプレー装置17および17′
からの液体(水)が複合エレメント11の感光性
層とフオトマスク16および16′との間に適用
され、そしてニツプロール12および12′が閉
ざされる。同時に、ピン19が複合基質およびフ
オトマスクならびにクランプおよびピンのセツト
に形成された穴のそれぞれを通して予めあけられ
た穴の中に係合する。クランプ13に取りつけら
れた手段(図示せず)が全集成体を1対の光バン
ク露出源18および18′の間の露出位置に移動
する。これらの光バンク18,18′の各々の中
には14個の螢光灯電球が配置されている。これら
の電球(高強度48インチデユポンP/N276208−
001、ベースRDC、バルブT12)は好適なフオト
マスクを通して回路板基質の両側の光重合体層を
露出するために使用される。露出は約10秒間実施
される。露出後、ニツプロール12,12′の移
動方向が逆にされ、そして露出された複合エレメ
ントが自動整合および露出装置から除去される。
各々の像が形成された層から剥離可能なサポート
が除去され、そして11ミクロンの平均粒径を有す
る銅粉末が露出された表面に向かつてそして貫通
穴の中に散布される。水を適用することにより余
分の銅粉末が除去されて清浄なきれいに規制され
た触媒反応した回路パターンが得られる。その
後、回路板は無電解銅めつき溶液(米国特許第
3095309号明細書例参照)の中に浸漬され、そ
して銅が穴および回路パターン上に析出されて完
全な銅の回路を形成する。
同じ光重合可能な材料の別の層がちようど今形
成された銅回路パターン上に再び積層せしめられ
る。別の所望の回路パターンの第2フオトマスク
の相補的な組が自動整合および露出装置の中に符
号16,16′で示すように挿入され、そしてち
ようど今積層されたエレメントが符号11で示す
ように再び挿入される。エレメントが水で湿潤さ
れ、フオトマスクと接触せしめられ、露出され、
カバーシートが除去され、そして銅粉末が前述し
たように適用される。
第2のフオトマスクの組に相補的な第3のフオ
トマスクの組が自動整合および露出装置の中に符
号16,16′で示すように挿入され、そして銅
粉末パターンを有するちようど今像が形成された
エレメントが符号11で示すように再び挿入され
る。これらのエレメントは水で湿潤され、フオト
マスクと接触せしめられ且つ露出され、そしてカ
バーシートが前述したように除去される。次い
で、米国特許第4157407号明細書の例に記載さ
れているように像が形成された試料がメチルクロ
ロホルム中に溶解せしめられて第2または第3像
様露出のいずれにおいても活性線に露出せしめら
れていない領域における銅粉末および光重合可能
な組成物のみを除去する。このエレメントは160
〜165℃において約65分間焼きつけられ、そして
無電解銅めつき溶液の中に約8分間配置される。
その結果、間に挿置されためつきされた貫通穴に
より相互に接続されそして設計上生じた電気的相
互接続部を除いて2個の付加的な印刷回路板から
電気的に絶縁された2個の印刷回路層を有する多
層回路板が得られる。すべての所望されたエレメ
ントは整合している。
例 3 下記の処方が調製される。
スチレン/無水マレイン酸の共重合体 5g トリエチレングリコールジアセテート 2g アセトン 100ml 固体を溶解させるためにこれらの成分が撹拌さ
れ、そして次のジヒドロピリジン化合物すなわち
2,4,6−トリメチル1−3,5−ビス(カル
ブ第3級ブトキシ)−1,4−ジヒドロピリジン
(1g)を次のヘキサリルビイミダゾル化合物す
なわち2,2′−ビス(2−クロロフエニル)−4,
4′,5,5′−テトラフエニルビイミダゾル(2
g)と共に添加した。
次いで、この溶液はポリプロピレンサポート上
にコーテイングされそして乾燥される。コーテイ
ングされそして乾燥せしめられた試料はフオトマ
スクのための着色されたマスターコピーのスクリ
ーンネガのイエロー分解を使用して同様な装置の
中で例1に記載されている条件と同一の条件で露
出される。フオトマスクと光重合体エレメントと
の接触は例1に記載されているように水で行われ
る。露出後、エレメントは自動整合および露出装
置から除去され、そしてその像はその上の前述し
た同じイエロートナーを使用して現像される。そ
の後、別の感光性層がこのイエロー像上で積層せ
しめられ、そしてフオトマスクとしてのさらに別
の色分離に整合するように露出される。その露出
は同様に行われ、そしてその像は例1に記載され
たトナーと類似のシアントナーを使用して現像さ
れる。得られた像はオリジナルに整合した2色コ
ピーである。
例 4 刷込み型式のネガとして作用するカラー絞正刷
りが米国特許第4174216号明細書の例2の教示に
従つてなされ、そしてその明細書に記載されてい
るようにクロムコート(KromkoteR○)ペーパー
サポートに積層せしめられる。その後、このエレ
メント(基質と記載)は液体として水を使用して
この明細書に前述した態様(例1)と同じ態様で
好適なハーフトーンネガマイナス−ブルーカラー
分解フイルム記録(フオトマスクと記載)に対し
て露出せしめられる。この自動整合および露出装
置はこの例でもまた使用される。このエレメント
は約10秒間露出され、そして自動整合および露出
装置から除去された後約5分間保持される。エネ
ルギで処理された透明なカバーシートが除去さ
れ、そして像が静電放電で処理されたフイルムに
光接着せしめられてネガの粘着性弾性体の隣接層
の同等の領域を露出させる。これらの裸に露出さ
れた領域は例1のイエロートナーにより処理され
る。第2感光性エレメントを使用して、剥離フイ
ルムが剥がされ、そして隣接層がちようど今生成
されたイエロー像の表面に積層せしめられ、また
このエレメントは自動整合および露出装置の中で
該装置により完全に整合して保持されたネガのマ
イナス−グリーンカラー分解フイルムを使用して
露出せしめられる。この複合エレメントが前述し
たように露出せしめられ、そして前面処理された
カバーシートがそれから剥離されその結果、露出
したポジ像が残される。このポジ像は例1のマゼ
ンタトナーで処理される。マイナス−レツドおよ
びブラツクネガレコードに対してこの方法が繰り
返され石版印刷技術に有用な高品質の刷込みカラ
ーの絞正刷りが得られる。得られる像は透明且つ
鮮明であり、そして整合している。
本発明に記載の自動整合および露出装置はなか
んずく例に記載した方法に有用である。多数のフ
オトレコードを交互に重ねて自動的に整合するた
めに単一の装置を使用することができる。また、
別の態様として、操作性および製品の生産量を高
めるために一連のいくつかの自動装置を使用する
ことができる。この方法の独特の特徴は整合およ
び露出を逐行し且つそれに加えて感光性エレメン
トとフオトマスクとの独特の接触の態様、すなわ
ち相対的に移動しない液体の界面を使用した理想
的な装置を使用している。このようにして、すべ
てが完全に整列し且つ整合した好適なサポートの
片側または両側に多数の像を形成することができ
る。上述したエレメントのすべては実際の印刷の
前に校正刷りを行いまたは像をチエツクするため
に石版印刷産業において有用である。その場合に
は充分な満足な印刷が得られるように最終の像が
オリジナルの真の複写であることが極めて重要で
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は片側のみに適用された感光性層を有す
る基質に対してフオトマスクを整合した状態に適
用する本発明の方法に有用な装置の側面図、そし
て第2図は両側に適用された感光性層を有する基
体に対してフオトマスクを整合した状態に適用す
る本発明の方法の側面図である。 1……基質、2……ピン整合セツト、3,3′
……ニツプロール、4……ストツパピン、5……
フオトマスクキヤリヤ、6……フオトマスク、1
1……基質、12,12′……ニツプロール、1
3……クランプ、15……フオトマスク集成体、
16,16′……フオトマスク、17,17′……
液体スプレー装置、18……露出位置、19……
整合用ピン。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 感光性層を含む同一のシート基質を一連の
    別々のフオトマスクを用いて整合し、像露光させ
    るための方法であつて、次の段階すなわち (1) いずれかの順序でかまたは同時に (a) 感光性層を含む同一の基質と一連のフオト
    マスクを予め定めた関係で相互に整列させる
    こと、および (b) 感光性層とフオトマスクとの間に液体を適
    用すること を実施させるような装置中の位置に基質を前進さ
    せること、 (2) 感光性層を含む同一の基質とフオトマスクと
    を液体を介して接触させてこの接触の間液体層
    中の液体の押し出しによるより密接な接触以外
    にフオトマスクに対する感光性層の実質的な移
    動が起こらないようにし、それによつて液体層
    に起因する界面力または粘稠力の少なくとも一
    方が感光性層とフオトマスクとを相互に一定の
    位置に保持されるのを助けること、 (3) フオトマスクを通して感光性層を活性線放射
    に露光させて該感光性層上に像を形成させるこ
    と、 (4) 露光された感光性層からフオトマスクを除去
    すること、 (5) 露光された感光性層の表面を変性すること、 (6) 前記一連の残りのフオトマスクのそれぞれに
    対して前記工程(1)ないし(5)を繰り返すこと を包含する方法。 2 露光された感光性層の表面の変性が像強化工
    程を含んでいることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項に記載の方法。 3 前記像強化工程が粉末トーナーまたは触媒の
    適用を含んでいることを特徴とする特許請求の範
    囲第2項に記載の方法。 4 粉末トーナーが適用されることを特徴とする
    特許請求の範囲第3項に記載の方法。 5 露光された感光性層の表面の変性が付加的な
    感光性層の適用を含んでいることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項に記載の方法。 6 露光された感光性層の表面の変性が前記一連
    のフオトマスクの最後のフオトマスクの使用後感
    光性層を適用する必要がないことを条件として像
    強化工程および付加的な感光性層の適用の両方を
    含んでいることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項に記載の方法。 7 前記工程(1)ないし(5)を別個に4回繰り返して
    4色刷込み校正刷りを得ることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項に記載の方法。 8 印刷回路板が得られることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項に記載の方法。 9 シート基質の両側が感光性層を含み且つ活性
    線に露光されることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項に記載の方法。 10 基質およびフオトマスクが前記圧力線によ
    りより密接して接触せしめられるときに感光性層
    とフオトマスクとの間の液体が押し出されること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の方
    法。 11 前記前進圧力線がニツプを使用しているこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第10項に記載の
    方法。 12 液体が実質的に垂直な面中に保持された基
    質の表面に対して適用されることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項に記載の方法。 13 前記工程(1)ないし(4)が実質的に垂直な面中
    に保持された基質の表面について行われることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の方法。 14 基質が実質的に垂直な面中に保持されてい
    ることを特徴とする特許請求の範囲第10項に記
    載の方法。 15 感光性層がポジとして作用することを特徴
    とする特許請求の範囲第1項に記載の方法。 16 感光性層がネガとして作用することを特徴
    とする特許請求の範囲第1項に記載の方法。 17 感光性層が光硬化可能な成分を含んでいる
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
    方法。 18 感光性層が光硬化可能な付加重合しうる成
    分を含んでいることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項に記載の方法。 19 光硬化可能な成分が光架橋性または光二重
    化性であることを特徴とする特許請求の範囲第1
    8項に記載の方法。 20 フオトマスクが可撓性であることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項に記載の方法。 21 フオトマスクから基質を分離するためのサ
    ポートシートまたはカバーシートが存在しないこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の方
    法。 22 感光性層が液体層から活性線の通過を許容
    するサポートシートまたはカバーシートにより分
    離されていることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項に記載の方法。 23 液体が水を包含していることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項に記載の方法。 24 感光性層を含む同一のシート基質を一連の
    別々のフオトマスクと整合し、そして像露光して
    4色刷込みを作成する方法であつて、次の段階す
    なわち (1) いずれかの順序でかまたは同時に (a) 第1の感光性層を含む同一の基質およびフ
    オトマスクを予め定めた関係で相互に整列さ
    せること、および (b) 感光性層とフオトマスクとの間に液体を適
    用すること を実施させるような装置中の位置に基質を前進さ
    せること、 (2) 感光性層を含む同一の基質とフオトマスクと
    を液体を介して接触させてこの接触の間液体層
    中の液体の押し出しによるより密接な接触以外
    にフオトマスクに対する感光性層の実質的な移
    動が起こらないようにし、それによつて液体層
    に起因する界面力または粘稠力の少なくとも一
    方が感光性層とフオトマスクとを相互に一定の
    位置に保持されるのを助けること、 (3) フオトマスクを通して感光性層を活性線放射
    に露光させて粘着性像を基質上に形成させるこ
    と、 (4) 露光された感光性層からフオトマスクを除去
    すること、 (5) 該基質上の粘着性像を粒状着色剤の適用によ
    り現像すること、 (6) 露光された基質にさらに別の感光性層を適用
    してそれにより前記一連のさらに別のフオトマ
    スクについて前記工程(1)ないし(5)を繰り返すこ
    とができるようにし、そして (7) 前記一連の残りのフオトマスクのそれぞれに
    対して前記工程(1)ないし(6)を繰り返すこと により4色刷込みを得るが、最後のフオトマスク
    を使用する場合前記工程(6)を採用する必要がな
    い、上記方法。 25 サポートシートまたはカバーシートが感光
    性層とフオトマスクとの間に配置され、そして前
    記工程(4)の後で前記工程(5)の前に除去されること
    を特徴とする特許請求の範囲第24項に記載の方
    法。
JP58102972A 1982-06-11 1983-06-10 シ−ト基質の自動整合および露出方法 Granted JPS593440A (ja)

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US387536 1995-02-13

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BR (1) BR8303023A (ja)
CA (1) CA1247442A (ja)
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US4522903A (en) 1985-06-11
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