JPH03228307A - 縮小投影露光装置 - Google Patents
縮小投影露光装置Info
- Publication number
- JPH03228307A JPH03228307A JP2023679A JP2367990A JPH03228307A JP H03228307 A JPH03228307 A JP H03228307A JP 2023679 A JP2023679 A JP 2023679A JP 2367990 A JP2367990 A JP 2367990A JP H03228307 A JPH03228307 A JP H03228307A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- filter
- optical
- light source
- exposure light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体素子の製造工程において用いられる縮少
投影露光装置に関する。
投影露光装置に関する。
従来、この程の縮少投影露光袋ｆ（以下ステッパーとい
う）は、露光波長及び波長の帯域幅を決定する光学フィ
ルターの自動交換機能は持たず、一定の波長を有する露
光光に対する一定の帯域幅を有する光学フィルタが用い
られていた。
う）は、露光波長及び波長の帯域幅を決定する光学フィ
ルターの自動交換機能は持たず、一定の波長を有する露
光光に対する一定の帯域幅を有する光学フィルタが用い
られていた。
従来のステッパーに超高圧水銀ランプを用いた時の分光
分布図を第３図に、そして第４図に光学フィルタにより
水銀ランプ光のｇ線が透過された後の分光分布図を示す
。
分布図を第３図に、そして第４図に光学フィルタにより
水銀ランプ光のｇ線が透過された後の分光分布図を示す
。
光学フィルタの特性の違いによりｇ線の分布は第４図に
示したように、Ａ、Ｂの様な差が出る。
示したように、Ａ、Ｂの様な差が出る。
分布ＢはＡより帯域幅は狭いが、斜線部の面積が狭くな
り全体のパワーがＡよりも低くなる。
り全体のパワーがＡよりも低くなる。
上述した従来のステッパーは、露光波長及び帯域幅を決
定する光学フィルタを一組しか持たないため、帯域幅を
変える事ができず、一定の解像特性と露光パワーで露光
を行っていた。
定する光学フィルタを一組しか持たないため、帯域幅を
変える事ができず、一定の解像特性と露光パワーで露光
を行っていた。
ステッパーにおいては投影レンズの色収差の影響から露
光光の帯域幅を小さくする事により解像特性を向上させ
る事ができるが、帯域幅を小さくすると同一光源では露
光パワーが低下し、露光に必要な時間が長くなり、ステ
ッパーの処理能力を低下させる欠点があった。
光光の帯域幅を小さくする事により解像特性を向上させ
る事ができるが、帯域幅を小さくすると同一光源では露
光パワーが低下し、露光に必要な時間が長くなり、ステ
ッパーの処理能力を低下させる欠点があった。
また半導体素子製造工程において、製品の完成までに数
千回フォトリソグラフイ工程を経るが、それぞれの工程
において要求されるパターンサイズは異なっている。し
かし微細なパターンと、粗いパターンの両方を同一ステ
ッパーで処理している。
千回フォトリソグラフイ工程を経るが、それぞれの工程
において要求されるパターンサイズは異なっている。し
かし微細なパターンと、粗いパターンの両方を同一ステ
ッパーで処理している。
上述した理由により従来のステッパーでは、微細なパタ
ーンに合わせて光学フィルターの帯域幅が決まっていた
ため、粗いパターンにおいては露光パワーがある程度犠
牲になっている部分があった。
ーンに合わせて光学フィルターの帯域幅が決まっていた
ため、粗いパターンにおいては露光パワーがある程度犠
牲になっている部分があった。
本発明の縮少投影露光装置は、露光光源と、露光用のマ
スクと、前記露光光源とマスクとの間に設けられ露光光
源より露光光を取り出すための帯域幅の異なる複数個の
光学フィルタを備えたフィルタ移動機構とを含んで構成
される。
スクと、前記露光光源とマスクとの間に設けられ露光光
源より露光光を取り出すための帯域幅の異なる複数個の
光学フィルタを備えたフィルタ移動機構とを含んで構成
される。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例の構成図、第２図（ａ）、（
ｂ）はフィルター移動機構を構成する光学フィルタ保持
部及びフィルタ駆動部の正面図と側面図である。
ｂ）はフィルター移動機構を構成する光学フィルタ保持
部及びフィルタ駆動部の正面図と側面図である。
超高圧水銀ランプ１から発した光が楕円ミラー２及びミ
ラー３により反射され、インプットレンズ４により平行
光束となる。円板状の光学フィルタ保持部５には帯域幅
の異なる６個の光学フィルタ１４ （１４Ａ〜１４Ｄ）
が組み込まれ、モーター等からなるフィルタ駆動部６に
より、光軸１５と平行な軸を中心として回転可能となっ
ている。
ラー３により反射され、インプットレンズ４により平行
光束となる。円板状の光学フィルタ保持部５には帯域幅
の異なる６個の光学フィルタ１４ （１４Ａ〜１４Ｄ）
が組み込まれ、モーター等からなるフィルタ駆動部６に
より、光軸１５と平行な軸を中心として回転可能となっ
ている。
そして、あらかじめ設定された露光条件データファイル
中のフィルタ設定に従って光学フィルタ駆動部６に指示
を与え、モータ駆動により必要な光学フィルタ１４を光
軸上に選択できる様になっている。
中のフィルタ設定に従って光学フィルタ駆動部６に指示
を与え、モータ駆動により必要な光学フィルタ１４を光
軸上に選択できる様になっている。
インプットレンズ４から出た光は光学フィルタ１４によ
り所望の帯域幅を持ったスペクトル光のみ透過し、コー
ンレンズ７、フライアイレンズ８を通り、ミラー９によ
り反射されコンデンサレンズＩＯにより露光用マスク１
１に導かれる。露光用マスク１１の像は縮少投影レンズ
１２によりウェハ１３上に転写される。尚、上記実施例
においては円板状の光学フィルタ保持部に６個の光学フ
ィルタを組み込んだ場合について説明したが、これに限
定されるものではなく、複数の光学フィルタを１例に並
べ順次移動できる構造のもの等であってもよい。
り所望の帯域幅を持ったスペクトル光のみ透過し、コー
ンレンズ７、フライアイレンズ８を通り、ミラー９によ
り反射されコンデンサレンズＩＯにより露光用マスク１
１に導かれる。露光用マスク１１の像は縮少投影レンズ
１２によりウェハ１３上に転写される。尚、上記実施例
においては円板状の光学フィルタ保持部に６個の光学フ
ィルタを組み込んだ場合について説明したが、これに限
定されるものではなく、複数の光学フィルタを１例に並
べ順次移動できる構造のもの等であってもよい。
以上説明したように本発明は、帯域幅の異なる複数個の
光学フィルターを備えたフィルター移動機構を設けるこ
とにより、露光パタンの要求する解像特性に見合った光
学フィルタを適時選択して帯域幅をコントロールできる
ため、露光パタンに最適な解像特性を与え、かつ処理能
力のすぐれた縮少投影露光装置を得る事ができる効果が
ある。
光学フィルターを備えたフィルター移動機構を設けるこ
とにより、露光パタンの要求する解像特性に見合った光
学フィルタを適時選択して帯域幅をコントロールできる
ため、露光パタンに最適な解像特性を与え、かつ処理能
力のすぐれた縮少投影露光装置を得る事ができる効果が
ある。
第１図は本発明の一実施例の構成図、第２図（ａ）、（
ｂ）は第１図の光学フィルタ保持部の正面図及び側面図
、第３図は超高圧水銀ランプの分光分布図、第４図は光
学フィルタ透過後のｇ線近傍の分光分布図である。 １・・・超高圧水銀ランプ、２・・・楕円ミラー、３・
・・ミラー、４・・・インプットレンズ、５・・・光学
フィルター保持部、６・・・フィルタ駆動部、７・・・
コーンレンズ、８・・・フライアイレンズ、９・・・ミ
ラー、１０・・・メインコンデンサレンズ、１１・・・
露光用マスク、１２・・・縮小投影レンズ、１３・・・
ウェハ、１４・・・光学フィルタ、１５・・・光軸。
ｂ）は第１図の光学フィルタ保持部の正面図及び側面図
、第３図は超高圧水銀ランプの分光分布図、第４図は光
学フィルタ透過後のｇ線近傍の分光分布図である。 １・・・超高圧水銀ランプ、２・・・楕円ミラー、３・
・・ミラー、４・・・インプットレンズ、５・・・光学
フィルター保持部、６・・・フィルタ駆動部、７・・・
コーンレンズ、８・・・フライアイレンズ、９・・・ミ
ラー、１０・・・メインコンデンサレンズ、１１・・・
露光用マスク、１２・・・縮小投影レンズ、１３・・・
ウェハ、１４・・・光学フィルタ、１５・・・光軸。
Claims (1)
- 露光光源と、露光用のマスクと、前記露光光源とマスク
との間に設けられ露光光源より露光光を取り出すための
帯域幅の異なる複数個の光学フィルタを備えたフィルタ
移動機構とを含むことを特徴とする縮少投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2023679A JPH03228307A (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | 縮小投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2023679A JPH03228307A (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | 縮小投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03228307A true JPH03228307A (ja) | 1991-10-09 |
Family
ID=12117157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023679A Pending JPH03228307A (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | 縮小投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03228307A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150020236A (ko) | 2012-02-03 | 2015-02-25 | 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 | 성형 가공용 알루미늄판 |
-
1990
- 1990-02-02 JP JP2023679A patent/JPH03228307A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150020236A (ko) | 2012-02-03 | 2015-02-25 | 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 | 성형 가공용 알루미늄판 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5379090A (en) | Projection exposure apparatus | |
| EP1811547A1 (en) | Optical integrator, illumination optical device, exposure device, and exposure method | |
| JPH05217855A (ja) | 露光用照明装置 | |
| JP2002359176A (ja) | 照明装置、照明制御方法、露光装置、デバイス製造方法及びデバイス | |
| JP3391404B2 (ja) | 投影露光方法及び回路素子製造方法 | |
| US6127095A (en) | Illuminating optical device and semiconductor device manufacturing method | |
| JPH09219358A (ja) | 露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
| JP2002184676A (ja) | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 | |
| JPH08222499A (ja) | 投影光学系及び該光学系を備えた投影露光装置 | |
| JP3208863B2 (ja) | 照明方法及び装置、露光方法、並びに半導体素子の製造方法 | |
| JP2000114160A (ja) | 円弧照明光学系及びそれを用いた露光装置 | |
| JPH03228307A (ja) | 縮小投影露光装置 | |
| JPH11121328A (ja) | 走査型縮小投影露光装置 | |
| JPH04225358A (ja) | 投影露光装置及び方法、並びに素子製造方法 | |
| JPH0766121A (ja) | 投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法 | |
| JPH09251208A (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
| JP2001035777A (ja) | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 | |
| JPH08274000A (ja) | 露光方法 | |
| JPH09283434A (ja) | 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
| JPH06318542A (ja) | 投影露光装置 | |
| JPH0644549B2 (ja) | 投影露光法及び装置 | |
| JP2909621B2 (ja) | 半導体製造方法及び半導体製造装置 | |
| JP2002025897A (ja) | 照明光学装置、該照明光学装置を備えた露光装置、および該露光装置を用いたマイクロデバイス製造方法 | |
| JPH10163102A (ja) | 照明光学装置 | |
| JP2022106891A (ja) | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |