JPH03226260A - 複写機 - Google Patents

複写機

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JPH03226260A
JPH03226260A JP2020890A JP2020890A JPH03226260A JP H03226260 A JPH03226260 A JP H03226260A JP 2020890 A JP2020890 A JP 2020890A JP 2020890 A JP2020890 A JP 2020890A JP H03226260 A JPH03226260 A JP H03226260A
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洋 石井
Hiroyuki Sawai
沢井 宏之
Masaaki Ozaki
正昭 尾崎
Toshiaki Kagawa
敏章 香川
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は複写機、プリンタ、磁気ディスク装置等として
の利用が可能な直線駆動装置に関する。
〈従来の技術〉 第6図は従来の直線駆動装置の模式図である。
図中74はベースフレームであって、ベースフレーム7
4上には直線駆動装置の主要構成である可動子71と磁
場形成部材73の双方が設けられている。
可動子71は、図外のガイド軸によりベースフレーム7
4上で図示矢印方向に移動自在にされている一方、磁場
形成部材73はベースフレーム74上に固定されている
磁場形成部材73からの磁束が鎖交した状態で可動子7
1に所定の励磁電流が供給されると、可動子71に推進
力Fが作用するようなっており、可動子71に供給する
励磁電流が調節されることで、可動子71に連結された
図外の被移動対象の位置決め制御が行われるようになっ
ている。
〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、上記従来例による場合には、次に述べる
ような欠点が指摘されている。
即ち、可動子71に励磁電流が供給され推進力Fが作用
すると、この推進力Fの反作用として磁場形成部材73
に反力Frが作用し、これがベースフレーム74にも伝
達され、結果としてベースフレーム74が振動したり変
形する等の不都合が発生する。
この欠点は直線駆動装置の適用例が複写機や磁気ディス
ク装置の場合には特に大きな問題となる。
本発明は上記事情に鑑みて創案されたものであり、その
目的とするところは、磁場形成部材に反力が作用しても
、ベースが振動したり変形する等の不都合が発生しない
ようにした直線駆動装置を提供することにある。
く課題を解決するための手段〉 本発明にかかる直線駆動装置は、磁場形成部材からの磁
束を受けて可動子に推進力を作用せしめ、当該可動子に
連結された被移動対象をベース上にて直線駆動せしめる
装置であって、磁場形成部材が反推進力方向に移動自在
であり、その移動経路を前記ベースに対して傾けである
〈作用〉 磁場形成部材からの磁束を受けて可動子に推進力が作用
すると、この推進力により可動子に連結された被移動対
象がベース上で直線駆動する。と同時に、推進力の反作
用としての磁場形成部材に反力が作用する。磁場形成部
材は反推進力方向に移動自在とされているので、この反
力によって磁場形成部材が反推進力方向に移動する。こ
れは磁場形成部材が正規の位置から位置ずれを生じるこ
と意味するが、磁場形成部材の移動経路がベースに対し
て斜めにされているので、磁場形成部材の自重により磁
場形成部材が自然と正規の位置に戻り、当該位置ずれは
自動的に修正される。
〈実施例〉 以下、本発明にかかる直線駆動装置の一実施例について
説明する。第1図は直線駆動装置の平面図、第2図は第
1図におけるX−X線による断面図、第3図は第1図に
おけるY−Y線による矢視図、第4図は直線駆動装置の
電気的構成を示すブロック図、第5図は可動体の速度と
枠体に作用する反力及び枠体の偏位との関係を示すグラ
フである。
ここに掲げる直線駆動装置は、スリット露光方式の複写
機に装備されているもので、本体内部のベースフレーム
1(ベースに相当する)上において、第1可動体10a
と第2可動体10b(両者は被移動対象に相当する)と
を2対1の速度比で図中A方向(スキャン方向)、B方
向(リターン方向)に交互に直線駆動するような基本構
成となっている。
なお、第1可動体10aには45@ ミラー、露光ラン
プユニット等の光学ユニットが、第2可動対10bには
直角ミラー等の光学ユニットが夫々搭載されている。こ
れらは何れも図示省略されている。
ベースフレーム1上には、A、B方向に向けられたシャ
フト3がホルダ2を介して取り付けられている。このシ
ャフト3はベースフレーム1に対して水平に配置されて
いる。また、ベースフレーム1の反シャフト側の側面に
は、シャフト3と同じ方向にレール4(第2図参照)が
取り付けられている。
第1可動体10a、第2可動対10bの下部端側には、
シャフト3と対となった軸受11a 、llbが設けら
れている。一方、第1可動体10a、第2可動対10b
の上部他端側には、レール4上を転がるローラ12a 
、12b(図示せず)が夫々設けられている(第2図参
照)。
即ち、第1可動体10a、第2可動対10bは、互いに
独立に、シャフト3等によりA、B方向に移動自在にさ
れている。また、シャフト3との位置関係を考慮して、
ローラ12a 、12bにより第1可動体10a、第2
可動対10bの他端側か夫々支えられるようになってい
る。
更に、第1可動体10aの両端には可動子20aが、第
2可動体10bの両端には可動子20bが夫々設けられ
ている。
可動子20aについて詳しく説明する。これは、ヨーク
21a(又はヨーク22a)に3相コイル23aが取り
付けられた構造となっている。また、図示されていない
が、3相コイル23aの中央部には、後述する磁場形成
部材30a(又は30b)の磁極を検出するためのホー
ル素子が設けられている。更に、ヨーク12aの上部に
は、第2図に示すように上記したローラ12aが取り付
けられており、その下部には、可動子20a 、言い換
えると、第1可動体10aの移動位置を検出するための
リニアエンコーダ13aが取り付けられている。
なお、リニアエンコーダ13aと対となった固定子スケ
ール13cは、第1図に示すように、ベースフレーム1
上で固定部材5を介して取り付けられている。
一方、可動子20bについても全く同様であるので説明
は省略するが、リニアエンコーダ13bについては固定
子スケール13cが共用されている。
次に、磁場形成部材30a 、30bについて説明する
磁場形成部材30aは、長尺状の金属板である固定子ヨ
ーク32a上に永久磁石31aをN極、S極と複数個交
互に着磁せしめた構造となっている。
一方、磁場形成部材30bについても磁場形成部材30
aと全く同一構造であるので説明は省略する。
ただ、両者はその両端部が連結板33.34により互い
に連結されており、これで、磁場形成部材30a、連結
板33、磁場形成部材30b、連結板34からなる枠体
が形成されるようになっている(以下、これを単に枠体
Cとする)。
なお、上記した可動子20aと磁場形成部材30a、3
0bとでリニアモータaが構成される一方、可動子20
bと磁場形成部材30a 、 30bとでリニアモータ
bが構成されるようになっており、両者は後述するりニ
アモーフ制御回路50の下で独立に制御されるようにな
っている。
上記した枠体CはA、B方向からシャフト3が貫通され
ており、シャフト3に沿って所定量だけ移動自在にされ
ている。また、枠体Cの内部において第1可動体10a
、第2可動体10bが移動自在にされるようになってお
り、如何なる位置であっても可動子20a 、20bと
磁場形成部材30a 、30bとのギャップ長は一定に
されるようになっている。
なお、ベースフレーム1上には、固定部材43を介して
バネ40が取り付けられており、このバネ40の先端部
が枠体における連結板33の面に接触するようになって
いる。
更に詳しく説明すると、磁場形成部材30aの内面には
、シャフト3と対となった軸受35が合計2個設けられ
ている。この軸受35は、軸受11a 、 11bとは
違って、枠体CについてのASB方向と図中Y方向の動
きを規制するもので、後述するローラ6がないとするな
らば、枠体が上下方向(重力方向)に所定量移動するこ
とが可能なようになっている。
なお、連結板33.34の面上には、図示されていない
がシャフト3が通る穴が夫々形成されており、この穴径
はシャフト3よりも大きめに設定されている。
この枠体Cの両側面に相当する磁場形成部材30a、3
0bの裏面には、枠体を支えるローラ6が2個ずつ夫々
設けられており、このローラ6は第3図に示すようにベ
ースフレーム1の側面に形成された長穴42に沿って滑
るようになっている。この長穴42はローラ6よりも大
きめに設定されており、ベースフレームlに対してB方
向を下に角度が付けられている。
つまり枠体Cはシャフト3によってA、B方向に移動規
制されるも、この移動経路はベースフレーム1に対して
斜め、言い換えると、長穴42の方向に設定されている
。従って、枠体Cが第3図に示す初期位置からA方向に
移動するには、これに何らかの外力が作用する必要があ
るが、この外力の作用がなくなると、枠体Cに作用する
重力の長穴42の方向の分力により、枠体CがB方向に
自然と移動するようになっている。そして枠体Cの連結
板33の面にバネ40が接触し、枠体Cが元の初期位置
に自動的に戻されるようになっている。なお、バネ40
は枠体CがB方向に移動してローラ6が大きな衝撃力で
長穴42のA方向エツジに接触することを防止するため
に設けられている。
なお、枠体Cに作用する重力の長穴42の方向の分力の
大きさは、枠体Cのベースフレーム1に対する摺動負荷
変動等を考慮して設定する。
次に、リニアモータ制御回路50について第4図を参照
して説明する。
リニアエンコーダ13aの位置検出信号は、位相が90
°のA相、B相信号及び原点検出用のZ信号からなり、
波形成形器51aを介してマイクロプロセッサたるMP
U51に導かれており、これで第1可動体10aの移動
位置のデータがMPU51に逐次導入されるようになっ
ている。
MPU51では予め第1可動体10aの速度パターンの
データが予めインプットされており、このデータを逐次
読み出すとともに、上記移動位置のデータと比較し、こ
の比較結果を信号として3相ドライバ52aに逐次出力
するようになっている。この3相ドライバ52aではM
PU51からの信号に応した電流を生成するような回路
構成となっており、3相コイル23aに夫々供給するよ
うになっている。
なお、以上の事柄はりニアモータaに関しての説明であ
るが、リニアモータbについても全く同様であるので説
明は省略する。
従って、リニアモータ制御回路50は、リニアエンコー
ダ13a 、13bの各出力をフィードバック信号とし
て用い、リニアモータa、bに発生する推力を夫々調節
して、第1可動体10a、第2可動体10bを閉ループ
でもって独立に速度制御するようになっている。
上記のように構成された直線駆動装置により第1可動体
10a 、第2可動体10bは、第5図上段に示す速度
パターンで速度制御される。
ここで、リニアモータa、bに推進力F a (t)、
Fb(t)を夫々発生させると、推進力Fの反作用とし
て枠体Cに反力F r (=−Fa (t) −F b
(1)が作用する。第5図中段は枠体Cに作用する反力
Frの大きさを、第5図下段は枠体Cの初期位置からの
偏位を夫々示している。
以下、詳しく説明すると、期間T1では、推進力Fによ
り第1可動体10a、第2可動体10bがスキャン方向
(A方向)に移動する。すると、反力Frにより枠体C
がB方向に若干移動するが、バネ40の復元力により直
ぐに元の初期位置に戻る。
期間T2では、第1可動体10a、第2可動体IObが
等速度運動であるので、枠体Cに反力Frが作用するこ
ともなく、枠体Cは初期位置のままである。
期間T3では、上記とは逆の方向の推進力Fにより第1
可動体10a 、第2可動体10bがリターン方向(B
方向)に急激に戻された後、推進力Fの方向が反転され
、再び第1可動体10a、第2可動体10bがフィード
方向(A方向)に急激に戻される。
第1可動体10a 、第2可動体10bがリターン方向
(B方向)に急激に戻され、反力Frか枠体Cに作用す
ると、枠体Cはフィード方向(入方向)に移動し、初期
位置から大きくずれることになる。
その後の期間T4では、期間TI、T2での動作と全く
同じ運動がなされるが、期間T3での位置ずれの影響が
未だ残っている。
だが、本実の直線駆動装置では、時間の経過とともに、
この位置ずれを自動的に無くすことができる。即ち、枠
体Cがフィード方向(入方向)に移動すると、枠体Cに
作用する重力の長穴42の方向の分力により、枠体Cが
リターン方向(B方向)に自然と移動しようとするから
である。
また、期間T3において枠体Cに作用する反力Frは、
枠体Cが移動することで、ベースフレーム1に伝達され
ず、ベースフレームlが振動したり変形する等の不都合
が発生しない。
ただ、期間T1において第1可動体10a 、第2可動
体lObがフィード方向(A方向)に移動したときに枠
体Cに作用する反力Frは、バネ40を介してベースフ
レーム1に伝達されるとはいえ、このときの反力エネル
ギーは、期間T3の場合と比較すると温かに小さいので
、実際上問題とならない。
従って、本実の直線駆動装置による場合には、第1可動
体10a、第2可動体10bが第5図上段に示すような
速度パターンで直線移動しても、装置本体に振動が発生
せず、枠体Cの偏位も問題とならない。しかも枠体Cを
初期位置に戻すに当たり新たな動力源を必要と廿ず、僅
かな設計変更のみで良いので、コスト的な面で非常に実
用的であり、ここに高性能で低価格な複写機を提供する
ことが可能となる。
なお、本発明にかかる直線駆動装置は複写機だけの適用
例に止まらず、プリンタ、磁気ディスク装置等としても
利用することが可能である。
〈発明の効果〉 以上、本発明にかかる直線駆動装置による場合には、可
動子に作用する推進力の反作用として磁墳形成部材に反
力が作用しても、磁場形成部材が反推進力方向に直線移
動自在となっているので、反力がベースに伝達されず、
ベースが振動したり変形する等の不都合が発生しない。
一方において、磁場形成部材が移動自在にされたことに
より新たに磁場形成部材の位置ずれの問題が発生するが
、磁場形成部材の移動経路がベースに対して傾けである
ので、何ら外力を加えることなく磁場形成部材の自重に
より正規の位置に自然と戻る。
従って、装置の性能アップと低価格化とを推進する上で
非常に大きな意義がある。
【図面の簡単な説明】
第1図から第5図にかけては本発明にかかる直線駆動装
置の一実施例を説明するための図であって、第1図は直
線駆動装置の平面図、第2図は第1図におけるX−X線
による断面図、第3図は第1図におけるY−Y線による
矢視図、第4図は直線駆動装置の電気的構成を示すブロ
ック図、第5図は可動体の速度と枠体に作用する反力及
び枠体の偏位との関係を示すグラフである。第6図は従
来の直線駆動装置を説明するための模式図である。 ・・ベースフレーム ・・・第1可動体 ・・・第2可動体 、20b  ・・・可動子 、30b  ・・・磁場形成部材 ・・枠体

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)磁場形成部材からの磁束を受けて可動子に推進力
    を作用せしめ、当該可動子に連結された被移動対象をベ
    ース上にて直線駆動せしめる直線駆動装置において、磁
    場形成部材が反推進力方向に移動自在であり、その移動
    経路を前記ベースに対して傾けてあることを特徴とする
    直線駆動装置。
JP2020208A 1989-04-17 1990-01-29 複写機 Expired - Lifetime JP2651731B2 (ja)

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JP2020208A JP2651731B2 (ja) 1990-01-29 1990-01-29 複写機
EP90304115A EP0393994B1 (en) 1989-04-17 1990-04-17 A linear driving apparatus
US07/509,806 US5208497A (en) 1989-04-17 1990-04-17 Linear driving apparatus
DE69009841T DE69009841T2 (de) 1989-04-17 1990-04-17 Linearantriebsgerät.

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6364563A (ja) * 1986-09-05 1988-03-23 Nec Corp 磁気デイスク装置の位置決めキヤリツジ
JPH01238450A (ja) * 1988-03-18 1989-09-22 Hitachi Ltd リニアアクセス機構

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6364563A (ja) * 1986-09-05 1988-03-23 Nec Corp 磁気デイスク装置の位置決めキヤリツジ
JPH01238450A (ja) * 1988-03-18 1989-09-22 Hitachi Ltd リニアアクセス機構

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