JPH03224571A - 紫外線表面処理装置 - Google Patents

紫外線表面処理装置

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Publication number
JPH03224571A
JPH03224571A JP2067490A JP2067490A JPH03224571A JP H03224571 A JPH03224571 A JP H03224571A JP 2067490 A JP2067490 A JP 2067490A JP 2067490 A JP2067490 A JP 2067490A JP H03224571 A JPH03224571 A JP H03224571A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
cleaning agent
ultraviolet ray
surface treatment
lamp
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2067490A
Other languages
English (en)
Inventor
Naoki Tani
谷 尚記
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2067490A priority Critical patent/JPH03224571A/ja
Publication of JPH03224571A publication Critical patent/JPH03224571A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】
この発明は、表面の清浄化あるいは滅菌などのために種
々の物品の表面を紫外線処理するための装置に関するも
のである。
【従来の技術】
第3図は例えば特開昭58−147526号に示された
従来の紫外線表面処理装置を示す縦断面図であり、図に
おいて、1は短波長紫外線を照射する低圧水銀ランプ、
2は低圧水銀ランプ1を固定するランプハウス、3はモ
ータ4により上下方向に移動できる試料載せ台、5は短
波長紫外線照射により生じたオゾンの排気と冷却のため
のファン、6はこれらの要素を収容するハウジング、7
は試料取出口、8は試料である。 次に動作について説明する。試料載せ台3に試料8を載
せ、適切な紫外線強度が得られる高さ(試料表面と低圧
水銀ランプとの距離)に試料載せ台3の位置をモータ4
により調整する。高さ調整を終えた後、低圧水銀ランプ
1を点灯し、試料8に短紫外線を照射すると同時に、ハ
ウジング6内の空気に短紫外線照射が作用することによ
って生じたオゾンを試料8表面に作用させる。所定時間
の照射後、低圧水銀ランプ1を消灯し、試料8を試料取
出ロアから取り出す。ファン5は、低圧水銀ランプlと
は別の電源により駆動され、低圧水銀ランプ1の消灯後
も駆動し続け、ハウジング6内を喚気、冷却する。
【発明が解決しようとする課題】
従来の紫外線表面処理装置は以上のように構成されてい
るので、試料表面に汚れあるいは付着物がある場合、短
紫外線照射が試料表面に十分に到達せず、これによる照
射不足を回避するために、試料表面を予め清浄にするこ
とが必要で、作業性が悪いなどの課題があった。 この発明は上記のような課題を解消するためになされた
もので、試料表面を予め清浄にしておく必要がなく、し
たがって作業能率が高い紫外線表面処理装置を得ること
を目的とする。
【課題を解決するための手段】
この発明に係る紫外線表面処理装置は、所定の短紫外線
照射位置に置かれた試料の表面に対して清浄剤を吹き付
け、ついで短紫外線照射を行なうように構成したもので
ある。
【作用】
この発明における紫外線表面処理装置は、所定の短紫外
線照射位置に置かれた試料の表面に対して清浄剤を吹き
付ける手段を設け、この清浄剤の吹き付けによって清浄
にされた試料の表面に短紫外線照射を行なうことにより
、試料表面を予め清浄にする工程を設けることなく、十
分な紫外線表面処理効果を得ることができる。この発明
において使用される清浄剤の一つの例は、試料の表面に
付着している油脂などの汚れ成分を溶解させることがで
きる有機溶媒であり、他の例は、汚れ成分を機械的に除
去する研磨剤である。 r発明の実施例】 以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図において、1は紫外線を照射するランプ(この実施例
では低圧水銀ランプ)、2はランプハウス、3は試料載
せ台、4はモータ、5は排気、冷却用ファン、6はハウ
ジング、7は試料取出口、8は試料である。また9は清
浄剤吹き付はノズル、lOは清浄剤を収容する清浄剤容
器、11は図示しない供給源から清浄剤容器10内に圧
縮空気を導く圧縮空気パイプ、12は清浄剤容器10内
に収容された清浄剤、この例では有機溶媒である。 次に動作について説明する。表面処理すべき試料8は、
試料載せ台3上に載置され、ランプlからの距離がモー
タ4の作用で調整される。この調整の完了後、近紫外線
照射に先立ち、圧縮空気パイプ11を介して清浄剤容器
10内に圧縮空気を導入し、この圧縮空気の圧力により
、清浄剤容器10内の清浄剤12をノズル9から試料8
の表面に吹き付ける。これによって試料8の表面に付着
していた油脂等の汚れは清浄剤によって溶解、除去され
、ランプ1からの近紫外線照射およびこれによって発生
したオゾンの作用による表面処理が十分に行なわれる。 清浄剤12の吹き付けは、予め定めた一定時間行なわれ
、紫外線照射ならびにオゾンへの曝露は、清浄剤12の
吹き付けよりも長い一定時間行なわれる。ついでランプ
1を消灯し、試料取出ロアより試料8を取り出す。また
吹き付けられた清浄剤は、ハウジング6の底部から適当
な手段によって外部に取り出され、必要であれば精製後
、再使用される。清浄剤は、試料8の処理すべき表面に
付着している汚れ成分を溶解できるものが好ましく、た
とえばトルエン、アセトン、エタノール等の有機溶媒が
使用できる。 第2図は、この発明の他の実施例による紫外線表面処理
装置を示す。この実施例では、清浄剤容器10は、アル
ミナあるいは二酸化けい素のような固体粒子からなる清
浄剤を収容するのに適した構造のもので、圧縮空気パイ
プ11の上方に配置され、圧縮空気パイプll内を流れ
る圧縮空気に清浄剤を一定量づつ供給できるようになっ
ている。 また試料載せ台3は多孔板からなり、その下方には、シ
ュート13および受器14が配置されている。15は、
耐磨耗性熱線吸収ガラス板で、ランプ1の下方に配置さ
れている。 紫外線表面処理は、第1図に示した実施例と同様に、清
浄剤容器lO内の清浄剤12をノズル9から試料8の表
面に吹き付けながら、ランプ1からの近紫外線を試料8
の表面に照射することによって行なわれる。これによっ
て試料8の表面に付着している汚れは速やかに除去され
る。吹き付けられた清浄剤12は、試料載せ台3の孔を
通過して、受器14に集められる。清浄剤12の一部は
試料8の表面に衝突したのち上方に向かうが、耐磨耗性
熱線吸収ガラス板15に遮られ、ランプlが損傷を受け
ることはない。また清浄剤12が硬度の高い固体粒子で
ある場合には、試料8の表面がある程度粗面化されるの
で、近紫外線による表面処理効果が増大する。
【発明の効果】
以上のようにこの発明によれば、ハウジング内に置かれ
た試料に対して、近紫外線による表面処理と並行して、
その表面に清浄剤を吹き付けるように構成したので、活
性化された試料の表面が容易に得られ、効率のよい近紫
外線表面処理装置が得られる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による近紫外線表面処理装
置の縦断面図、第2図はこの発明の他の実施例による近
紫外線表面処理装置の縦断面図、第3図は従来の近紫外
線表面処理装置の縦断面図である。 図において、1はランプ、2はランプハウス、3は試料
載せ台、4はモータ、5は排気、冷却用ファン、 試料、9 容器、1 なお、 示す。 6はハウジング、7は試料取出口、8はは清浄剤吹き付
はノズル、10は清浄剤1は圧縮空気パイプ、12は清
浄剤。 図中、同一符号は同一、又は相当部分を第 図 第 図 八つジンつ゛ 12°;責沖?】

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 紫外線を照射するランプと、このランプからの紫外線を
    受ける位置に試料を保持する試料載せ台と、前記ランプ
    および前記試料載せ台を収容するハウジングと、前記試
    料載せ台上の試料表面に向けて清浄剤を吹き付けるノズ
    ルとを備えた紫外線表面処理装置。
JP2067490A 1990-01-31 1990-01-31 紫外線表面処理装置 Pending JPH03224571A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2067490A JPH03224571A (ja) 1990-01-31 1990-01-31 紫外線表面処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2067490A JPH03224571A (ja) 1990-01-31 1990-01-31 紫外線表面処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03224571A true JPH03224571A (ja) 1991-10-03

Family

ID=12033745

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2067490A Pending JPH03224571A (ja) 1990-01-31 1990-01-31 紫外線表面処理装置

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JP (1) JPH03224571A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017113648A (ja) * 2017-03-31 2017-06-29 株式会社トクヤマ 紫外線殺菌装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017113648A (ja) * 2017-03-31 2017-06-29 株式会社トクヤマ 紫外線殺菌装置

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