JPH0321541B2 - - Google Patents

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JPH0321541B2
JPH0321541B2 JP59093128A JP9312884A JPH0321541B2 JP H0321541 B2 JPH0321541 B2 JP H0321541B2 JP 59093128 A JP59093128 A JP 59093128A JP 9312884 A JP9312884 A JP 9312884A JP H0321541 B2 JPH0321541 B2 JP H0321541B2
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JP
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sodium
phenyl
solvent
reaction
salt
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JP59093128A
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JPS6041659A (ja
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Geirii Matsukinnii Bonii
Konratsudo Robinson Jiin
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Ethyl Corp
Original Assignee
Ethyl Corp
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Publication date
Application filed by Ethyl Corp filed Critical Ethyl Corp
Publication of JPS6041659A publication Critical patent/JPS6041659A/ja
Publication of JPH0321541B2 publication Critical patent/JPH0321541B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C309/00Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はある種のアシロキシベンゼンスルホネ
ートのアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩の
製造方法に、そしてさらに特にヒドロキシベンゼ
ン スルホン酸の対応する塩とアリール エステ
ル間の反応によるこれらの塩の製造方法に関す
る。本発明のアシロキシベンゼンスルホネート塩
は多くの用途を有する。例えば、それらは繊維工
業において織物の過酸化物漂白に対する活性化剤
としておよびアクリル繊維の染色における染色助
剤として使われる。 特殊の実施態様において、そして例解のため
に、本発明は次の方程式: に従つてナトリウム 4−ノナノイルオキシベン
ゼンスルホネートを製造することを企図する。 別の実施態様において、本発明は式: (式中Rは30個までの炭素原子を含むヒドロカ
ルビル基でありそしてアルキル、アルケニル、シ
クロアルキル、アリール、アラルキルから選ばれ
そしてMはアルカリ金属またはアルカリ土類金属
である)のアシロキシベンゼンスルホネートのア
ルカリ金属およびアルカリ土類金属塩を高温度に
おいて対応する式; のヒドロキシベンゼン スルホネート塩と式: (式中RおよびMは上に定義した通りである)
のアリール エステルとを反応させることによつ
て製造することを企図する。 本発明のアリール エステル類はそれらの製造
方法が公知であるようにこの技術で公知である。
例えば、1979年4月12日交付のGresham等に対
する米国特許2467206号は非芳香族オレフイン不
飽和を含む有機化合物を一酸化炭素およびフエノ
ールと高温度および圧力において、主成分として
コバルトまたはニツケルを含む触媒の存在におい
て加熱することによる式アシルOR(式中のRは
フエノール中のフエノール性ヒドロキシルに結合
するアリール基を表わす)のアリール エステル
の合成を開示する。 Aslony,“高級脂肪酸によるフエノールの直接
エステル化”、Journal of the American
Chemists′Society,32,170−172(1955)は115−
290℃の間の反応温度において、場合によつては
硫酸、燐酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸鉛
および亜燐酸トリフエニルのような触媒の存在に
おいてフエノールと高級脂肪酸の直接エステル化
による多数の一価フエノールおよび二価フエノー
ルの脂肪酸エステルの製造法を開示している。 本発明に従つて使うことができるヒドロキシベ
ンゼンスルホネート塩は式: (式中のMはアルカリ金属またはアルカリ土類
金属である)の塩である。金属スルホネート官能
基は環中のヒドロキシル基に対するオルソー、メ
ターまたはパラーの芳香族炭素原子の何れとも結
合することができる。本発明のヒドロキシベンゼ
ンスルホネート塩は公知の化合物でありそして
R.J.Thomas等によつて“弗化ほう素によつて促
進されるスルホン化および硝化反応”,
Industrial and Engineering Chemistry.32,408
−410(1940)中に開示されるように、例えば高温
度において弗化ほう素の存在においてフエノール
を硫酸で処理するようなこの技術で公知の方法に
よつてつくることができる。 ヒドロキシベンゼンスルホネート塩反応体の好
例は次のものである: ナトリウム2−ヒドロキシベンゼンスルホネー
ト; ナトリウム3−ヒドロキシベンゼンスルホネー
ト; ナトリウム4−ヒドロキシベンゼンスルホネー
ト; カリウム2−ヒドロキシベンゼンスルホネー
ト; カリウム3−ヒドロキシベンゼンスルホネー
ト; カリウム4−ヒドロキシベンゼンスルホネー
ト; カルシウム2−ヒドロキシベンゼンスルホネー
ト; カルシウム3−ヒドロキシベンゼンスルホネー
ト; カルシウム4−ヒドロキシベンゼンスルホネー
ト;。 本発明において使うことができるアシル エス
テル反応体の好例は次のものである: 蟻酸フエニル;酢酸フエニル; プロピオン酸フエニル;ブタン酸フエニル; ペンタン酸フエニル;ヘキサン酸フエニル; ヘプタン酸フエニル;オクタン酸フエニル; ノナン酸フエニル;デカン酸フエニル; ウンデカン酸フエニル;ドデカン酸フエニル; トリデカン酸フエニル;ノナデカン酸フエニル; エイコサン酸フエニル;トリアコンタン酸フエニ
ル; アクリル酸フエニル;2:ブテン酸フエニル; 2−ペンテン酸フエニル;5−ヘキセン酸フエニ
ル; 4−ヘプテン酸フエニル;3−オクテン酸フエニ
ル; 4−デカン酸フエニル;2−ウンデカン酸フエニ
ル; 3−ドデカン酸フエニル; 2−オクタデセン酸フエニル; 2−エイコセン酸フエニル; 3−テトラコセン酸フエニル; 2−ヘキサコセン酸フエニル; 2−トリアコンテン酸フエニル; 安息香酸フエニル; フエニル酢酸フエニル; フエニルプロピオン酸フエニル; フエニルブタン酸フエニル; フエニルペンタン酸フエニル; フエニルヘキサン酸フエニル; フエニルデカン酸フエニル; フエニルウンデカン酸フエニル; フエニルドデカン酸フエニル; フエニルヘプタデカン酸フエニル; フエニルオクタデカン酸フエニル; ナフトエ酸フエニル; シクロブタンカルボン酸フエニル; シクロペンタンカルボン酸フエニル; シクロヘキサンカルボン酸フエニル; シクロウンデカンカルボン酸フエニル; シクロドデカンカルボン酸フエニル; シクロヘプタデカンカルボン酸フエニル; シクロエイコサンカルボン酸フエニル; 2−メチル安息香酸フエニル; 3−エチル安息香酸フエニル; 2,3−ジメチル安息香酸フエニル; 2−プロピル安息香酸フエニル; 2−イソプロピル安息香酸フエニル; 2−−ブチル安息香酸フエニル; 4−オクチル安息香酸フエニル; 4−デシル安息香酸フエニル; 4−ドデシル安息香酸フエニル; 4−ペンタデシル安息香酸フエニル; 4−オクタデシル安息香酸フエニル; それらの混合物およびこれに類するもの。 この方法のアシロキシベンゼンスルホネート塩
製品の好例は次のものである: ナトリウム2−メタノイルオキシベンゼンスル
ホネート; ナトリウム3−メタノイルオキシベンゼンスル
ホネート; ナトリウム4−メタノイルオキシベンゼンスル
ホネート; ナトリウム2−エタノイルオキシベンゼンスル
ホネート; カリウム3−エタノイルオキシベンゼンスルホ
ネート; カルシウム4−エタノイルオキシベンゼンスル
ホネート; ナトリウム2−プロパノイルオキシベンゼンス
ルホネート; カリウム3−プロパノイルオキシベンゼンスル
ホネート; カルシウム4−プロパノイルオキシベンゼンス
ルホネート; ナトリウム4−ペンタノイルオキシベンゼンス
ルホネート; ナトリウム4−ヘキサノイルオキシベンゼンス
ルホネート; カルシウム2−ヘプタノイルオキシベンゼンス
ルホネート; カリウム3−ヘプタノイルオキシベンゼンスル
ホネート; ナトリウム4−ヘプタノイルオキシベンゼンス
ルホネート; ナトリウム4−オクタノイルオキシベンゼンス
ルホネート; カリウム3−ノナノイルオキシベンゼンスルホ
ネート; ナトリウム4−ノナノイルオキシベンゼンスル
ホネート; ナトリウム4−デカノイルオキシベンゼンスル
ホネート; ナトリウム4−ウンデカノイルオキシベンゼン
スルホネート; ナトリウム4−ペンタデカノイルオキシベンゼ
ンスルホネート; ナトリウム4−アイコサノイルオキシベンゼン
スルホネート; ナトリウム4−ヘキサコソノイルオキシベンゼ
ンスルホネート; ナトリウム4−トリアコンタノイルオキシベン
ゼンスルホネート; ナトリウム4−アクリロイルオキシベンゼンス
ルホネート; ナトリウム4−(ブチル−2−エノイルオキシ)
ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(ペンチル−2−エノイルオキ
シ)ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(ヘキシル−2−エノイルオキ
シ)ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(ヘプチル−3−エノイルオキ
シ)ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(オクチル−4−エノイルオキ
シ)ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(ノニル−2−エノイルオキシ)
ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(デシル−2−エノイルオキシ)
ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(ヘキサデシル−4−エノイル
オキシ)ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(ヘプタデシル−2−エノイル
オキシ)ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(ノナデシル−4−エノイルオ
キシ)ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(アイコシル−2−エノイルオ
キシ)ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(トリコシル−4−エノイルオ
キシ)ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(ヘプタコシル−3−エノイル
オキシ)ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(トリアコンチル−2−エノイ
ルオキシ)ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−ベンゾイルオキシベンゼンスル
ホネート; ナトリウム4−フエニルアセトイルオキシベン
ゼンスルホネート; カルシウム4−フエニルアセトイルオキシベン
ゼンスルホネート; カリウム4−フエニルプロパノイルオキシベン
ゼンスルホネート; ナトリウム4−(フエニルブタノイルオキシベ
ンゼンスルホネート; ナトリウム4−フエニルペンタノイルオキシベ
ンゼンスルホネート; ナトリウム4−フエニルヘプタノイルオキシベ
ンゼンスルホネート; ナトリウム4−フエニルオクタノイルオキシベ
ンゼンスルホネート; ナトリウム4−フエニルデカノイルオキシベン
ゼンスルホネート; ナトリウム4−フエニルドデカノイルオキシベ
ンゼンスルホネート; ナトリウム4−フエニルヘプタデカノイルオキ
シベンゼンスルホネート; ナトリウム4−フエニルオクタデカノイルオキ
シベンゼンスルホネート; ナトリウム4−ナフトイルオキシベンゼンスル
ホネート; ナトリウム4−シクロブチルメタノイルオキシ
ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−シクロペンチルメタノイルオキ
シベンゼンスルホネート; ナトリウム4−シクロヘキシルメタノイルオキ
シベンゼンスルホネート; ナトリウム4−シクロヘプチルメタノイルオキ
シベンゼンスルホネート; ナトリウム4−シクロヘプチルデカノイルオキ
シベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(2−メチルベンゾイルオキシ)
ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(3−エチルベンゾイルオキシ)
ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(2,3−ジメチルベンゾイル
オキシ)ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(2−プロピルベンゾイルオキ
シ)ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(2−イソプロピルベンゾイル
オキシ)ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−(2−−ブチルベンゾイルオ
キシ)ベンゼンスルホネート; ナトリウム4−
(4−デシルベンゾイルオキシ)ベンゼンスルホ
ネート; ナトリウム4−(4−オクタデシルベンゾイル
オキシ)ベンゼンスルホネート; およびこれらの混合物。 本発明の方法はアリール エステルとヒドロキ
シベンゼンスルホン酸のアルカリ金属またはアル
カリ土類金属塩との混合物を適した反応容器中で
熱することによつて実施される。一般に、この方
法は200から350℃まで、より好ましくは250から
325℃までの温度において行なわれる。 要求されるのではないが、この方法は実質的に
無水条件下で行なわれることが好ましく、従つ
て、反応系の成分は実質的に乾燥した不活性雰囲
気下で一緒にしそして維持する。しかし、薬品中
に存在するいくらかの水は、例えば、ヘキサン、
オクタン、トルエン、キシレンおよびこれに類す
るもののような有機溶剤を使用する合体した薬品
の共沸蒸留によるような通例の技法によつて薬品
から除去することができるので方法中で使用する
薬品はそれらを合体する前に無水にする必要は
い。 典型的には、希望するアシロキシベンゼンスル
ホネート塩以外の酸素含有化合物は本発明の方法
によつて生産することができる。フエノールおよ
びフエノール−2,4−ジスルホン酸二ナトリウ
ムは反応によつて形成される主副生成物である。
しかし、実施例中に述べられるように、アシロキ
シベンゼンスルホネート塩の収率は90重量%およ
びそれ以上になるであろう。反応混合物からのフ
エノールの除去はそれが形成されたらできるだけ
早い蒸留によつて容易に達成することができる。
反応は平衡応であるから、フエノールの除去は反
応を完結に押しやる助けとなる。一般に精留塔を
使う必要はない。しかし、工程中に使用するアリ
ール エステル反応体がフエノールの沸点に接近
した沸点を有する場合は、精留塔の使用が望まし
い。 反応に使われる反応体の相対的割合は、もしも
望む場合はその他の割合を使うことができるけれ
ども化学量論的に必必要とする量でよい。化学量
論的量よりもさらに多量のエステルを使用すれば
また反応を完結に押しやるのに役立つので反応に
おいて過剰にアリール エステルを使うことは好
ましい。アリール エステル対ヒドロキシベンゼ
ンスルホネート塩のモル比が1.25〜5:1までで
ある場合に優れた結果が得られる。 典型的には、反応は環境圧力において実施され
る、しかし、もしも望むならば、1000psigまでま
たはそれ以上の圧力を使うことができる。最大圧
力は保持容気の強度によつて制限されるだけであ
る。しかし、およそ350℃よりも高い沸点を有す
るアリール ステルを本発明の方法で使う場合
は、副生成物フエノールの蒸留を促進するために
反応は減圧において行なうことができる。 もしも望むならば、反応媒質として不活性液体
を使うことができる。しかし、反応は何等媒質を
加えずに満足に実施することができ、特に工程中
に過剰のアリール エステル反応体を使う場合は
そうである。もしも溶剤を使用するならば、必ず
しも必要ではないが、その溶剤はこの方法で生産
される副生物フエノールよりも高くそしてアリー
ル エステル反応体よりも低い沸点を有すること
が有利である。このようにして、望まれないフエ
ノールの実質的に総てを留去し、一方反応中にア
リル エステル反応体が留出するのを防ぐことが
可能となる。このことは高沸点アリール エステ
ルを工程中に使う場合は環境圧力における蒸留の
実施を可能にし従つて溶剤を用いないときに必要
な減圧下での反応実施が避けられる。本法におい
て使うことができる溶剤の例には塩素化ベンゼ
ン、塩素化トルエン、高沸点アルカン、例えばウ
ンデカン、テトラデカン、ヘキサデカン、鉱油お
よび高沸点直鎖および分枝鎖アルカンを含む。そ
れに加えて、トリグリム、テトラグリム、1,2
−ジエトキシエタンのような非プロトン性溶剤お
よびN,N−ジメチルアセトアミド、テトラメチ
レン スルホン、N−メチルピロリドンのような
双性非プロトン性溶剤および類似材料もまた使う
ことができる。 この方法によつて生じたアシロキシベンゼンス
ルホネート塩は副生成物フエノールの除去後に残
存する未反応アリール エステルおよび溶剤から
容易に分離される。好ましくは、反応混合物を濾
過しそして固体生成物をヘプタン、トルエン、ジ
クロルメタンまたはジエチル エーテルのような
低沸点溶剤の使用によつて、アリール エステル
および溶剤がなくなるまで洗滌する。低沸点溶剤
は次いで蒸発させて固体生成物から除去する。別
法として、アシロキシベンゼンスルホネート塩生
成物は反応溶剤およびアリール エステル反応体
が一般に溶解しない水に溶解させることによつて
反応混合物から分離することができ、このように
して形成された有機および水性相を分離しそして
晶出または噴霧乾燥のような公知の技法によつて
アシロキシベンゼンスルホネート塩を水性相から
分離する。 本発明の方法は以下の例解的実施例によつてさ
らに明らかになるであろう。 実施例 1 ヘプタン酸フエニルの製造 温度計、磁気撹拌機およびDean−Starkトラツ
プを取付けた8インチVigreuxカラムを装置した
2立入り、3つ口丸底フラスコにヘプタン酸
(180.9g:1.39モル)、フエノール(180.69g;
1.92モル)、トルエン(216.5;2.35モル)および
硫酸(5.04g;0.0514モル)を装入した。反応混
合物を131℃に加熱しそしてこの温度に5時間保
つて74重量%のヘプタン酸フエニルを与えた。反
応生成物を4.5モルの水中に溶かした0.08モルの
Na2CO3の溶液で1回洗つた。相分離はおよそ20
分後に起きた。有機層はフエノールおよびトルエ
ンを除去するために20−プレートのoldershawカ
ラムを使用して環境圧力において分別蒸留をし
た。残つた液体を次に10−プレートoldershawカ
ラムを通し50トルで蒸留して中央留分154.4g
(54%収率)の純ヘプタン酸フエニルを与えた。 実施例 2 ナトリウム4−ノナノイルオキシベンゼンスル
ホネートの製造 機械撹拌機、熱電対さやおよびDean−Starkト
ラツプを取り付けた1立の3つ口丸底フラスコに
ナトリウム4−ヒドロキシベンゼンスルホネート
2水和物(160g、0.670モル)、ヘキサデカン
(102g)、およびオクタン(166g)を装入した。
反応混合物を15mlの水がトラツプ中に集まるまで
還流させた。次に反応フラスコとトラツプの間に
16mm×300mmVigreuxカラムを結合しそして1.5時
間に亘つて断続的にトラツプを排出させて100ml
のオクタンが集まるまで蒸留を続けた。フラスコ
を少し冷やしそしてノナン酸フエニル(428.5
g;1.38モル)をフラスコに加えそして蒸留によ
つて除去した。その結果生じた混合物を292℃の
ポツト温度および180゜と282℃の間(180゜および
282℃を含む)のオバーヘツド温度においてDean
−Starkトラツプ上で還流させた。トラツプはフ
エノールを除去するために時々排出させた。4時
間還流させた後、および70mlのフエノールおよび
およそ60mlのヘキサデカンが集つた。4時間の終
において、ポツト温度は301℃でありそしてオバ
ーヘツド温度は275゜と282℃の間を上下した。 混合物を冷却しそして固体を濾過によつて集め
そして濾過器上でおよそ100mlのオクタンによつ
て洗滌した。濾過ケーキをおよそ400mlのヘキサ
ンとジエチル エーテルの混合物中で再度スラリ
ー化し、集めそして次にペンタンとジエチルエー
テルのおよそ400mlの混合物中で2回目の再スラ
リー化を行つた。残つた固体を真空濾過によつて
集め、ペンタンで洗いそして炉中で90℃で乾かし
て214.5gの白色固体を与えた。カチオン滴定に
よる分析は生成物が86.9重量%のナトリウム4−
ノナノイルオキシベンゼンスルホネートから成る
ことを示した。NMRによる分析は生成物がまた
2.8重量%の二ナトリウムフエノール−2,4ジ
スルホネートをナトリウム4−ヒドロキシベンゼ
ンスルホネートから成る残りの生成物と共に含む
ことを示した。 実施例 3 ナトリウム4−ヘプタノイルオキシベンゼンス
ルホネートの製造 磁気撹拌機、熱電対さやおよびDean−Starkト
ラツプを取付けた12インチの分別蒸留カラムを備
えた200ml、3つ口丸底フラスコにナトリウム4
−ヒドロキシベンゼンスルホネート二水和物
(19.5g;0.084モル)、ヘプタン酸フエニル(47.6
g;0.231モル)、45mlのオクタンおよび20mlのテ
トラデカンを装入した。反応混合物を加熱還流さ
せそしてオクタンおよび水をトラツプの排水によ
つて除去した。総てのオクタンが除去された後に
反応温度は265℃に達した。反応混合物をポツト
温度265−267℃(オバーヘツド温度190−248℃)
において2時間加熱しそしておよそ6.2gのフエ
ノールをトラツプ中に集めた。20mlのテトラデカ
ンを追加してフラスコに加えそして反応混合物を
2.5時間追加して加熱還流させその間に追加のフ
エノール3.6gを集めた。還流をさらに2時間継
続しその間に20.5gのテトラデカンを集めた。反
応混合物を冷却しそして真空濾過によつて固体を
集めそして各回におよそ150mlのジエチル エー
テルを用いて3回洗つた。カチオン滴定による白
色生成物の分析はそれが88.2重量%のナトリウム
4−ヘプタノイルオキシベンゼンスルホネートを
含むことを示した。 反応生成物の試料をメタノールおよび痕跡量の
硫酸によつて還流させた。その結果生じたメチル
エステルをVPCによつて分析すると固形分は3.01
ミリ当量(93重量%)のナトリウム4−ヘプタノ
イルオキシベンゼンスルホネートを含むことを示
した。 同様にして、いくらかのその他の実験を反応
体、溶剤および反応条件を変えて実施した。それ
らの結果は次表中に与えられる。
【表】
【表】
【表】 エート
ルベンゼンスルホネー
(0.11)
トの混合物;90%
比較例 1 ナトリウムフエノールスルホネート二水和物
(SPH・2H2O)15gとカプリル酸(オクタン酸)
51gとを、p−トルエンスルホン酸触媒0.15gを
用いて、100mlのデカンと50mlのヘプタン混合物
中で反応させた。そのSPH・2H2Oは先ずそのア
ルカン溶媒に加えられ、そしてヘプタンの一部が
蒸留して除去され、水和物の水を取り除いた。そ
れ以外の物質が加えられそしてヘプタンの残り
を、ポツト温度が185℃で、ヘツド温度170℃(n
−デカンの沸点174℃)となる迄蒸留した。Dean
Strk水分離器を用いて、留出物から水を分離し
ながら還流を6時間15分続けた。この結果、灰色
の固形生成物が得られた。その灰色の固形生成物
を、NMRで分析したところ、75モル%のナトリ
ウムオクタノイルオキシベンゼンスルホネートが
含まれており、かつ滴定法では、その望ましい生
成物が75.2重量%含まれていた。これらの値は、
実際の収率を正確に示すものであり、比較上妥当
な値である。その他に望ましくないジナトリウム
フエノールジスルホネートがかなりの量(約4
%)生成した。 比較例 2 比較例1と同じ反応が、ヘプタン、デカンおよ
びドデカンの混合物中で触媒として少量のp−ヒ
ドロキシベンゼンスルホン酸を用いて、行なわれ
た。ポツト温度は210.7℃であつたその灰色の生
成物はNMRでの分析で、80%のナトリウムオク
タノイルオキシベンゼンスルホネートで滴定法で
74.1重量%であつた。後者の方法は標準法として
用いられる。 比較例 3 Dean Stark水トラツプを頂部に設けたブイグ
レツクス(Vigreawx)カラムを備えた撹拌され
ている300mlの二つの首つきフラスコに12.07g
(0.052モル)ナトリウム フエノール スルホネ
イト二水和物と、56gのノニル酸と50mlのヘプタ
ンを加えた。ヘプタンはフエノール フルホネイ
トを共沸して二水和化するのに用いた。それから
炭化水素の煮沸と除去を行い、フラスコ温度を
242℃(頂部169℃)に調節し、そして水を6時間
の間除去した。そのフラスコの内容物を冷却し、
そして固体(6.85g)をろ過によつて分離し、ア
セトンで洗浄し、乾燥しそしてAOBS(アシロキ
シベンゼン スルホネート)量を分析した。二度
の分析結果では、1.0および1.1重量%の固形の
AOBSが確認された。 実施例 4 カプリル酸の替りに、フエニルカプリエートを
用いて上記比較例1の実験を行なつた。その結果
滴定法では、収率は、93重量%であつた。 実施例 5 SPS・2H2O18.0gを45mlのオクタンと共にフ
ラスコに入れ、そしてその混合物を蒸留して水和
物の水を除去した。それから、セタン中の65重量
%のフエニルノナエート(C9酸)68gを加え、
その混合物を294〜297℃に加熱してフエノールを
留出除去した。さらにオクタンを加えた。その生
成物はアルカンに不溶であり、ろ過によつて回収
し、洗浄し、乾燥した。それは、白色または淡黄
色であり、92.4重量%のナトリウムノナノイルオ
キシベンゼンスルホネートであつた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 約200℃〜350℃の温度において相当するヒド
    ロキシベンゼンスルホネート塩をアリールエステ
    ルと反応させることを含むアシロキシベンゼンス
    ルホネートのアルカリ金属またはアルカリ土類金
    属塩の製造方法。 2 前記のアシロキシベンゼンスルホネートのア
    ルカリ金属またはアルカリ土類金属塩が式 (式中のRはアルキル、アルケニル、シクロア
    ルキル、アリール、アラルキルから選ばれる30個
    までの炭素原子を含有するヒドロカルビル基であ
    りそしてMはアルカリ金属またはアルカリ土類金
    属である)を有し、前記のヒドキシベンゼンスル
    ホネート塩が式: そして前記のアシルエステルが式 (式中Rは上に定義した通りである) を有する特許請求の範囲第1項に記載の方法。 3 一般的構造式()を有する化合物がナトウ
    ム4−ヘプタノイルオキシベンゼンスルホネー
    ト;ナトリウム4−ノナノイルオキシベンゼンス
    ルホネートおよびそれらの混合物から選ばれる特
    許請求の範囲第2項に記載の方法。 4 アリール エステル反応体対ヒドキシベンゼ
    ンスルホネート塩反応体のモル比が1.25〜5:1
    までである特許請求の範囲第2項に記載の方法。 5 前記の反応が反応条件下で不活性である溶剤
    の存在において実施される特許請求の範囲第2項
    記載の方法。 6 溶剤がデカン、ウンデカン、テトラデカン、
    ヘキサデカン、鉱油およびそれらの混合物から選
    ばれる特許請求の範囲第5項に記載の方法。 7 前記の溶剤がトリグリム、テトラグリムおよ
    び1,2−ジエトキシエタンから選ばれる非プロ
    トン性溶剤である特許請求の範囲第5項に記載の
    方法。 8 前記の溶剤がN,N−ジメチルアセトアミ
    ド、テトラメチレンスルホンおよびN−メチルピ
    ロリジノンから選ばれる双性の非プロトン性溶剤
    である特許請求の範囲第5項に記載の方法。
JP59093128A 1983-05-11 1984-05-11 アシロキシベンゼンスルホン酸塩の製造方法 Granted JPS6041659A (ja)

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