JPH0623178B2 - ビスアリ−ルチオアルカンの製造方法 - Google Patents
ビスアリ−ルチオアルカンの製造方法Info
- Publication number
- JPH0623178B2 JPH0623178B2 JP61009732A JP973286A JPH0623178B2 JP H0623178 B2 JPH0623178 B2 JP H0623178B2 JP 61009732 A JP61009732 A JP 61009732A JP 973286 A JP973286 A JP 973286A JP H0623178 B2 JPH0623178 B2 JP H0623178B2
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- Japan
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- bis
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- preferable
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
- B41M5/337—Additives; Binders
- B41M5/3375—Non-macromolecular compounds
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （発明の分野） 本発明は記録材料、特に感熱記録材料用の添加剤として
有用なビスアルコキシアリールチオアルカンの製造方法
に関する。
有用なビスアルコキシアリールチオアルカンの製造方法
に関する。
（従来技術） チオフエノール誘導体特にアルコキシチオフエノールを
原料とするチオエーテル化合物の製造において、アルコ
キシチオフエノールは入手が困難だつたり、価格が高価
なため工業的使用が難しい。
原料とするチオエーテル化合物の製造において、アルコ
キシチオフエノールは入手が困難だつたり、価格が高価
なため工業的使用が難しい。
（発明の目的） 従つて本発明の目的は、ＯＨ基を有するチオフエノール
類を用いて安価で簡便なビスアルコキシアリールチオア
ルカンの製造方法を提供することである。
類を用いて安価で簡便なビスアルコキシアリールチオア
ルカンの製造方法を提供することである。
（発明の構成） 本発明は、アルキレンジオールのジスルホン酸エステル
またはジハロアルカンにＯＨ基を有するチオフエノール
類を反応させ、残存する芳香族性水酸基をエーテル化す
ることを特徴とするビスアリールチオアルカンの製造方
法により達成された。
またはジハロアルカンにＯＨ基を有するチオフエノール
類を反応させ、残存する芳香族性水酸基をエーテル化す
ることを特徴とするビスアリールチオアルカンの製造方
法により達成された。
本発明の手法を反応式で示せば次の如くなる。
但しここでＲ1はアルキル基またはアリール基、Ｘはハ
ロゲン原子、Ｒ2は炭素数１から１０の２価の基、Ｒ3は
アルキル基、アラルキル基、Ｙはハロゲン原子、硫酸エ
ステル残基、芳香族スルホン酸エステル残基またはＯＨ
基を表わす。
ロゲン原子、Ｒ2は炭素数１から１０の２価の基、Ｒ3は
アルキル基、アラルキル基、Ｙはハロゲン原子、硫酸エ
ステル残基、芳香族スルホン酸エステル残基またはＯＨ
基を表わす。
これらのうちＲ1としてはアリール基が好ましく特に、
フエニルおよびｐ−トリル基が好ましい。
フエニルおよびｐ−トリル基が好ましい。
Ａｒは置換ないし無置換の５員又は６員の、単環又は縮
合環からなる芳香環を表わす。酸素原子、窒素原子、硫
黄原子等を炭素原子の他に含んでいてもよい。
合環からなる芳香環を表わす。酸素原子、窒素原子、硫
黄原子等を炭素原子の他に含んでいてもよい。
原料の入手のしやすさ、ハンドリングの点からは、ベン
ゼン環、ナフタレン環の場合が最も有利である。
ゼン環、ナフタレン環の場合が最も有利である。
Ｒ2は炭素原子数１から１０の２価の基で、特に好まし
いのは直鎖状ないし分岐したアルキレン、オキサアルキ
レン、チアアルキレン、もしくはアルケニレンの場合で
ある。中でも、直鎖状の炭素原子数６以下のアルキレ
ン、オキサアルキレン、ポリオキサアルキレン、チアア
ルキレンなどが、合成の容易さ、生成物の精製のしやす
さ、などの点ですぐれている。
いのは直鎖状ないし分岐したアルキレン、オキサアルキ
レン、チアアルキレン、もしくはアルケニレンの場合で
ある。中でも、直鎖状の炭素原子数６以下のアルキレ
ン、オキサアルキレン、ポリオキサアルキレン、チアア
ルキレンなどが、合成の容易さ、生成物の精製のしやす
さ、などの点ですぐれている。
Ｒ3はアルキル基、アラルキル基を表わし、直鎖状また
は分岐状のどちらでもよい。特に炭素原子数５以下の低
級アルキル基炭素原子数８以下のアラルキル基が好まし
い。
は分岐状のどちらでもよい。特に炭素原子数５以下の低
級アルキル基炭素原子数８以下のアラルキル基が好まし
い。
Ｙはハロゲン原子、硫酸エステル残基、芳香族スルホン
酸エステル残基またはＯＨ基を表わす。つまりＲ3−Ｙ
はエーテル化剤のことを表わし、具体例として、硫酸ジ
メチル、硫酸ジエチル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、
塩化ベンジル、メチルトシレート、エチルアルコール等
があげられるがこれらに限定されるものではない。特に
硫酸エステル化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物
が入手のしやすさ、ハンドリングの点から好ましい。
酸エステル残基またはＯＨ基を表わす。つまりＲ3−Ｙ
はエーテル化剤のことを表わし、具体例として、硫酸ジ
メチル、硫酸ジエチル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、
塩化ベンジル、メチルトシレート、エチルアルコール等
があげられるがこれらに限定されるものではない。特に
硫酸エステル化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物
が入手のしやすさ、ハンドリングの点から好ましい。
一般式（III）で表わされる化合物を安価でかつ簡便に
また副生物の生成を少なく得るには特に製造途中で反応
中間体を取り出さずに反応させる方が好ましい。
また副生物の生成を少なく得るには特に製造途中で反応
中間体を取り出さずに反応させる方が好ましい。
そのためには反応（Ｉ）、（II）の製造方法を実施する
際に５０〜１５０℃程度の加熱を行うこと、有機塩基ナ
トリウム化合物、カリウム化合物、カルシユウム化合物
などから選ばれた塩基を併用すること、水、アルコー
ル、ハロゲン化炭化水素、芳香族化合物、極性溶媒等の
溶剤を併用することもさしつかえない。
際に５０〜１５０℃程度の加熱を行うこと、有機塩基ナ
トリウム化合物、カリウム化合物、カルシユウム化合物
などから選ばれた塩基を併用すること、水、アルコー
ル、ハロゲン化炭化水素、芳香族化合物、極性溶媒等の
溶剤を併用することもさしつかえない。
これらのうち塩基としてナトリウムまたはカリウム化合
物を用い、溶媒として極性溶媒を用いると好都合であ
る。
物を用い、溶媒として極性溶媒を用いると好都合であ
る。
無機の塩基としては、苛性ソーダ、苛性加里、炭酸ソー
ダ、炭酸加里が好ましく、特に苛性ソーダが有用であ
り、廃液処理の点からも好都合である。
ダ、炭酸加里が好ましく、特に苛性ソーダが有用であ
り、廃液処理の点からも好都合である。
本発明に用いられる極性溶剤としては、エーテル、カル
ボニル、スルホニル、シアノ又はアミド等の親水性基を
有する溶剤が特に好ましい。
ボニル、スルホニル、シアノ又はアミド等の親水性基を
有する溶剤が特に好ましい。
たとえば、メチルエチルケトン、アセトニトリル、ジメ
チルアセトアミド、アクリロニトリル、Ｎ−メチルピロ
リドン、ヘキサメチルホスホルアミド、スルホラン、シ
クロヘキサノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、アセトン等が好ましく、特に水溶性の溶剤は
後処理の簡便さの点から好ましい。
チルアセトアミド、アクリロニトリル、Ｎ−メチルピロ
リドン、ヘキサメチルホスホルアミド、スルホラン、シ
クロヘキサノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、アセトン等が好ましく、特に水溶性の溶剤は
後処理の簡便さの点から好ましい。
これらの溶剤は固型分濃度が１０％以上、好ましくは２
０％以上になるように用いられる。
０％以上になるように用いられる。
又、小量の水を併用することも無機塩基、スルホン酸塩
の溶解、着色物の副生防止の点から好ましい。更に、不
活性ガス雰囲気下に反応を行うことも、液の着色防止の
点から好ましい手法である。
の溶解、着色物の副生防止の点から好ましい。更に、不
活性ガス雰囲気下に反応を行うことも、液の着色防止の
点から好ましい手法である。
又、反応に際して、クラウンエーテル、相間移動触媒を
使用することも差し支えない。
使用することも差し支えない。
また反応は加圧下に行つてもよい。特にアセトンを溶剤
に使用する場合に、好ましい結果を与える。
に使用する場合に、好ましい結果を与える。
反応温度は反応性およびスルホン酸エステルの分解の点
から２０℃以上１５０℃以下が好ましく、特に、５０℃
以上１００℃以下が好ましい。
から２０℃以上１５０℃以下が好ましく、特に、５０℃
以上１００℃以下が好ましい。
本発明に使用する塩基の量はジハロアルカンまたはジオ
ールのジスルホン酸エステル１モルに対して２〜８モル
が好ましく特に２〜６モルが好ましい。
ールのジスルホン酸エステル１モルに対して２〜８モル
が好ましく特に２〜６モルが好ましい。
本発明に使用するチオフエノール類の量はジオールのジ
スルホン酸エステル１モルに対して２〜４モルが好まし
く、特に２〜３モルが好ましい。
スルホン酸エステル１モルに対して２〜４モルが好まし
く、特に２〜３モルが好ましい。
本発明に使用するエーテル化剤としてハロゲン化物、エ
ステル化合物を使用する際の塩基はエーテル化剤添加時
に同時に添加してもまたは最初の塩基添加時に必要量す
べて添加しておいてもよく、特にあらかじめ必要量すべ
ての塩基を添加しておく方が好ましい。
ステル化合物を使用する際の塩基はエーテル化剤添加時
に同時に添加してもまたは最初の塩基添加時に必要量す
べて添加しておいてもよく、特にあらかじめ必要量すべ
ての塩基を添加しておく方が好ましい。
エーテル化剤としてアルコールを使用する際には触媒を
使用するのが好ましく、特に酸触媒が好ましい。
使用するのが好ましく、特に酸触媒が好ましい。
たとえば硫酸、塩酸、芳香族スルホン酸、スルホン酸ク
ロリド、三フツ化ホウ素または塩化アルミニウム等が好
ましい。
ロリド、三フツ化ホウ素または塩化アルミニウム等が好
ましい。
溶媒は反応（Ｉ）に使用するものと同じものが使用でき
る。
る。
本発明に使用するエーテル化剤の量はチオフエノール類
１モルに対して１〜３モルが好ましく、特に１〜２モル
が好ましい。
１モルに対して１〜３モルが好ましく、特に１〜２モル
が好ましい。
（発明の実施例） 実施例１ かきまぜき機をつけたフラスコに、１００mlのアセトニ
トリル、０．１モルの１，２−ジ−ｐ−トリルスルホニ
ルオキシエタンおよび０．２２モルのモノチオハイドロ
キノンを秤り取る。かきまぜながら０．５モル等量の４
８重量％苛性ソーダ水溶液を内温が７５℃以上にならな
い様に注意しながら滴下した。ついで還流させながら３
時間かきまぜた。この反応混合物に０．２２モルのジメ
チル硫酸を滴下し更に３０分還流させながらかきまぜ
た。反応混合物を氷水中に注ぎ析出した結晶を取後メ
タノール／酢エチにて再結晶し、１，２−ビス（４−メ
トキシフエニルチオ）エタン（ｍｐ１０８−１０°）を
得た。
トリル、０．１モルの１，２−ジ−ｐ−トリルスルホニ
ルオキシエタンおよび０．２２モルのモノチオハイドロ
キノンを秤り取る。かきまぜながら０．５モル等量の４
８重量％苛性ソーダ水溶液を内温が７５℃以上にならな
い様に注意しながら滴下した。ついで還流させながら３
時間かきまぜた。この反応混合物に０．２２モルのジメ
チル硫酸を滴下し更に３０分還流させながらかきまぜ
た。反応混合物を氷水中に注ぎ析出した結晶を取後メ
タノール／酢エチにて再結晶し、１，２−ビス（４−メ
トキシフエニルチオ）エタン（ｍｐ１０８−１０°）を
得た。
実施例２ 実施例１の１，２−ジ−ｐ−トリルスルホニルオキシエ
タンの代わりに１，４−ジ−ｐ−トリルスルホニルオキ
シブタンを用いて、実施例１と同様に反応させ１，４−
ビス（４−メトキシフエニルチオ）ブタン（ｍｐ１０２
−３°）を得た。
タンの代わりに１，４−ジ−ｐ−トリルスルホニルオキ
シブタンを用いて、実施例１と同様に反応させ１，４−
ビス（４−メトキシフエニルチオ）ブタン（ｍｐ１０２
−３°）を得た。
次に具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。
ではない。
1) １，２−ビス（４−メトキシフエニルチオ）エタン 2) １，２−ビス（４−エトキシフエニルチオ）エタン 3) １，２−ビス（３−メトキシフエニルチオ）エタン 4) １，２−ビス（３−エトキシフエニルチオ）エタン 5) １，３−ビス（４−ｔ−ブトキシフエニルチオ）プ
ロパン 6) １，４−ビス（４−メトキシフエニルチオ）ブタン 7) １，４−ビス（４−エトキシフエニルチオ）ブタン 8) １，４−ビス（３−メトキシフエニルチオ）ブタン 9) １，４−ビス（２−メトキシフエニルチオ）ブタン 等がある。
ロパン 6) １，４−ビス（４−メトキシフエニルチオ）ブタン 7) １，４−ビス（４−エトキシフエニルチオ）ブタン 8) １，４−ビス（３−メトキシフエニルチオ）ブタン 9) １，４−ビス（２−メトキシフエニルチオ）ブタン 等がある。
Claims (1)
- 【請求項１】アルキレンジオールのジスルホン酸エステ
ルまたはジハロアルカンに芳香族性水酸基を有するチオ
フエノール類を反応させ、残存する芳香族性水酸基をエ
ーテル化することを特徴とするビスアリールチオアルカ
ンの製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61009732A JPH0623178B2 (ja) | 1986-01-20 | 1986-01-20 | ビスアリ−ルチオアルカンの製造方法 |
| AU64898/86A AU593591B2 (en) | 1985-11-08 | 1986-11-05 | Recording material |
| CA000522337A CA1264548A (en) | 1985-11-08 | 1986-11-06 | Recording material |
| DE8686115459T DE3670239D1 (de) | 1985-11-08 | 1986-11-07 | Aufzeichnungsmaterial. |
| ES86115459T ES2015250B3 (es) | 1985-11-08 | 1986-11-07 | Material de grabacion. |
| EP86115459A EP0222343B1 (en) | 1985-11-08 | 1986-11-07 | Recording material |
| US06/928,354 US4792542A (en) | 1985-11-08 | 1986-11-10 | Recording material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61009732A JPH0623178B2 (ja) | 1986-01-20 | 1986-01-20 | ビスアリ−ルチオアルカンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62167757A JPS62167757A (ja) | 1987-07-24 |
| JPH0623178B2 true JPH0623178B2 (ja) | 1994-03-30 |
Family
ID=11728483
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61009732A Expired - Lifetime JPH0623178B2 (ja) | 1985-11-08 | 1986-01-20 | ビスアリ−ルチオアルカンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0623178B2 (ja) |
-
1986
- 1986-01-20 JP JP61009732A patent/JPH0623178B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62167757A (ja) | 1987-07-24 |
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