JPH0321057A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH0321057A
JPH0321057A JP1156225A JP15622589A JPH0321057A JP H0321057 A JPH0321057 A JP H0321057A JP 1156225 A JP1156225 A JP 1156225A JP 15622589 A JP15622589 A JP 15622589A JP H0321057 A JPH0321057 A JP H0321057A
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JP
Japan
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voltage
mos transistor
input terminal
input
gate
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JP1156225A
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Japanese (ja)
Inventor
Haruji Yamazaki
山崎 治二
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Sanyo Electric Co Ltd
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Sanyo Electric Co Ltd
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Publication of JPH0321057A publication Critical patent/JPH0321057A/en
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Abstract

PURPOSE:To enable inputting low-level signals by applying voltage generated by a voltage generation circuit to the gate of a high-dielectric strength MOS transistor. CONSTITUTION:The present inventions, which includes a high-dielectric strength MOS transistor 8 formed between an input terminal 6 and the gates of the MOS transistors of an input circuit 15 and a voltage generation circuit 10 to generate voltage outside the range of the source voltage based thereon, applies the voltage generated by the voltage generation circuit 10 to the gate of the high-dielectric strength MOS transistor 8. Therefore, when the high-dielectric strength MOS transistor 8 used is of a P channel type, the voltage generation circuit 10 generates lower voltage than the earth voltage VSS and applies said generated voltage to the gate of the high-dielectric strength MOS transistor 8. Thereby the signal level of the input terminal 6 to turn the high-dielectric strength MOS transistor 8 off can be lowered.

Description

【発明の詳細な説明】 (イ〉産業上の利用分野 本発明は、MOS}ランジスタで構成された半導体集積
回路に関し、特に、入力端子に高電圧が印加されたとき
の、静電破壊防止に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (A) Industrial Application Field The present invention relates to a semiconductor integrated circuit composed of MOS transistors, and in particular to prevention of electrostatic damage when a high voltage is applied to an input terminal. .

(口〉従来の技術 一般にワンチップマイクロコンピュータやロジック回路
等のMOSトランジスタで構成された半導体集積回路(
以下ICと呼ぶ)においては、入力端子は保護抵抗を介
して入力インバータのゲートに接続される。ところが、
入力端子に高電圧(例えば−40V程度)の電圧が印加
されると入力インバータのゲート絶縁膜が破壊されてし
まう。
(Example) Conventional technology Generally speaking, semiconductor integrated circuits (
(hereinafter referred to as an IC), an input terminal is connected to the gate of an input inverter via a protection resistor. However,
If a high voltage (for example, about -40V) is applied to the input terminal, the gate insulating film of the input inverter will be destroyed.

そこで、従来は、第3図及び第4図に示される保護回路
が用いられていた。
Therefore, conventionally, protection circuits shown in FIGS. 3 and 4 have been used.

第3図において、入力端子(1〉と入力インバータ(2
)との間には、抵抗(3)とP−/−ヤンネルMOSト
ランジスタ(4)が直列に接続され、MOSトランジス
タ(4〉のゲートが接地電圧VSSに接続されている。
In Figure 3, input terminal (1>) and input inverter (2)
), a resistor (3) and a P-/-Yannel MOS transistor (4) are connected in series, and the gate of the MOS transistor (4>) is connected to the ground voltage VSS.

また、入力インバータ(2)のゲートと接地間には、ゲ
ートが電源電圧V DDに接続されたNチャンネルMO
S+−ランジスタ(5)が設けられている。このNチャ
ンネルMOSトランジスタ(5)はプルダウン抵抗とし
て作用している。
Also, between the gate of the input inverter (2) and the ground, there is an N-channel MO whose gate is connected to the power supply voltage VDD.
An S+- transistor (5) is provided. This N-channel MOS transistor (5) functions as a pull-down resistor.

一方、第4図に示された回路は、第3図に示された回路
構成と同じであるが、MOSトランシスタ(4)のゲー
トに制御信号XIODSBが印加されている。制御信号
X I ODSBは、入カ端子(1〉から入力信号を入
力する必要のあるときのみ接地電圧V5,(“L ++
レベル)になり、入カの必要がないときは電源電圧Vゎ
バH 11レベル)になる信号であり、入力インバータ
(2)の出カを受け取る内部回路(図示せず)によって
作成される。
On the other hand, the circuit shown in FIG. 4 has the same circuit configuration as shown in FIG. 3, but a control signal XIODSB is applied to the gate of the MOS transistor (4). The control signal X I ODSB is connected to the ground voltage V5, (“L ++
It is a signal that becomes the power supply voltage V11 level) when input is not required, and is created by an internal circuit (not shown) that receives the output of the input inverter (2).

第3図及び第4図の回路によれば、入力端子(1)に接
地電圧V ss以下の電圧が印加された場合には、MO
Sトランジスタ(4)吐才フするため、入力端子(1)
に印加された電圧は入カイシバータ(2)のゲートに印
加されず、静電破壊が防止される。
According to the circuits shown in FIGS. 3 and 4, when a voltage equal to or lower than the ground voltage Vss is applied to the input terminal (1), the MO
In order to output S transistor (4), input terminal (1)
The voltage applied to the inverter (2) is not applied to the gate of the inverter (2), thereby preventing electrostatic damage.

(ハ)発明が解決しようとする課題 しかしながら、前述した第3図及び第4図の回路におい
て、MOSトランジスタ〈4〉の閾値V tpとMOS
}ランジスタ(4〉のバックケ−1・バイアス電圧のた
めに、入力端子(1)からみた閾値電圧が高くなり、低
レベルの信号を入力することがで3 きない不都合があった。また、MOSトランジスタ(5
)がプルダウン抵抗として作用するため、入力端子(1
)に“H′′レベルの信号が印加されたときにMOSト
ランジスタ(5)に電流が流れ、消費電力を低下するこ
とができない。更に、“H ++レベルの信号が入力端
子(1)に印加したときには、抵抗(3)とMOSトラ
ンジスタ(4)の合成インピーダンスと、MOS}ラン
ジスタ(5)のインピーダンスの比で決められた電圧が
、入力インバータ(2)に印加されることになり、入力
インバータ(2)の閾値電圧に達しないことがあった。
(c) Problems to be Solved by the Invention However, in the circuits of FIGS. 3 and 4 described above, the threshold value V tp of the MOS transistor <4> and the MOS
} Due to the bias voltage of the transistor (4), the threshold voltage seen from the input terminal (1) becomes high, making it impossible to input low-level signals. Transistor (5
) acts as a pull-down resistor, so the input terminal (1
), current flows through the MOS transistor (5), making it impossible to reduce power consumption.Furthermore, when an H'' level signal is applied to the input terminal (1), current flows through the MOS transistor (5), making it impossible to reduce power consumption. In this case, a voltage determined by the ratio of the combined impedance of the resistor (3) and the MOS transistor (4) to the impedance of the MOS transistor (5) is applied to the input inverter (2), and the input inverter There were cases where the threshold voltage of (2) was not reached.

(二)課題を解決するための手段 本発明は上述した点に鑑みて創作されたものであり、入
力端子と入力回路のMOSトランジスタのゲート間に設
けられた高耐圧MOSトランジスタと、電源電圧に基い
て該電源電圧の範囲外の電圧を発生する電圧発生回路と
を備え、電圧発生回路で発生された電圧を高耐圧MOS
トランジスタのゲートに印加するものである。更に、電
圧発生口路で発生された電圧を電源とし、入力端子に印
4 加された信号の入力を制御する制御信号が印加されたレ
ベルシフト回路とを備え、該レベルシフ1〜回路の出力
信号を高耐圧MOS+−ランジスタのゲートに印加する
ものである。
(2) Means for Solving the Problems The present invention was created in view of the above points, and includes a high voltage MOS transistor provided between the input terminal and the gate of the MOS transistor of the input circuit, and a power supply voltage. and a voltage generation circuit that generates a voltage outside the range of the power supply voltage based on the voltage, and the voltage generated by the voltage generation circuit is transferred to a high voltage MOS.
It is applied to the gate of the transistor. Furthermore, it is provided with a level shift circuit which uses the voltage generated in the voltage generation path as a power source and to which a control signal for controlling the input of the signal applied to the input terminal is applied, and output signals of the level shift circuit 1 to 4 are applied. is applied to the gate of the high voltage MOS+- transistor.

(ホ〉作用 上述の手段において、高耐圧MOSトランジスタにPチ
ャンネル型を使用した場合、電圧発生回路は接地電圧y
 ssより低い電圧を発生し、この電圧を高耐圧MOS
トランジスタのゲートに印加することにより、高耐圧M
OSトランジスタがオフする入力端子の信号レベルを引
き下げることができる。また、制御信号が印加されたレ
ベルシフト回路の出力信号レベルは、電圧発生回路で発
生された電圧、即ち、接地電圧VSSより低い電圧とな
るため、同様に高耐圧MOS+−ランジスタがオフする
,入力端子の信号レベルを引き下げることができる。即
ち、入力端子からみた閾値電圧が低くなるため低レベル
の信号入力を実現できる。更に、電圧発生回路で発生さ
れる電圧を入力回路のMOSトランジスタが破壊される
電圧レベルより十分高くしておくことにより、入力端子
に破壊電圧が印加された場合には、高耐圧MOSトラン
ジスタが才フして、破壊が防止される。
(E) Effect In the above-mentioned means, when a P-channel type is used as the high voltage MOS transistor, the voltage generating circuit is connected to the ground voltage y
Generates a voltage lower than ss and uses this voltage as a high voltage MOS
By applying it to the gate of the transistor, high breakdown voltage M
The signal level of the input terminal at which the OS transistor is turned off can be lowered. Furthermore, since the output signal level of the level shift circuit to which the control signal is applied is a voltage lower than the voltage generated by the voltage generation circuit, that is, the ground voltage VSS, the high voltage MOS+- transistor is similarly turned off. The signal level of the terminal can be lowered. That is, since the threshold voltage seen from the input terminal becomes low, low-level signal input can be realized. Furthermore, by making the voltage generated by the voltage generation circuit sufficiently higher than the voltage level that destroys the MOS transistor in the input circuit, the high-voltage MOS transistor will be able to function effectively when a breakdown voltage is applied to the input terminal. This prevents destruction.

(へ〉実施例 第1図は本発明の実施例を示す回路図である。(to) Example FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention.

(6)は入力端子、(7)は保護抵抗、(8)は高耐圧
に形成されたPチャンネル型のMOSトランジスタ、〈
9〉は(,−MOSで構成された入カインバータ、(1
0)は電圧発生回路である。入力端子(6)には保護抵
抗(7)の一端が接続され、保護抵抗(7〉の他端とM
OSトランジスタ(8)のソースが接統される。保護抵
抗(7)は通常半導体基板内に拡散抵抗として形成され
、この拡散抵抗はMOSトランジスタ(8)のソース領
域と共通の領域となる。MOSトランジスタ(8)は高
耐圧とするためにそのゲート絶縁膜は、他のMOSI−
ランジスタのゲート絶縁膜より厚く形成される。また、
MOSトランジスタ(8〉のドレインは入力インバータ
(9〉のゲートに接続される。
(6) is an input terminal, (7) is a protection resistor, (8) is a P-channel type MOS transistor formed with high withstand voltage,
9〉 is an input inverter composed of (,-MOS, (1
0) is a voltage generation circuit. One end of the protective resistor (7) is connected to the input terminal (6), and the other end of the protective resistor (7>
The source of the OS transistor (8) is connected. The protective resistor (7) is usually formed as a diffused resistor in the semiconductor substrate, and this diffused resistor forms a common region with the source region of the MOS transistor (8). In order to make the MOS transistor (8) high withstand voltage, its gate insulating film is similar to that of other MOS transistors (8).
It is formed thicker than the gate insulating film of the transistor. Also,
The drain of the MOS transistor (8>) is connected to the gate of the input inverter (9>).

電圧発生回路(10)は、リング発振器(11)、コン
デンザ(12)、MOSトランジスタ(13)(14)
から成る周知の電圧発生回路であり、リング発振器(1
1〉から電源電圧■DDと接地電圧V ssの振幅で出
力される交流信号をMOS+−ランジスタ(13)(1
4)で整流して負の電圧−■Bllを発生する。この電
圧−VBBは、MOSI−ランジスタ(13)(14)
の閾値電圧によって任意に設定可能であり、その値は、
入力端子(6)に接地電圧V,Sが印加されたときのM
O31〜ランジスタ〈8〉のバックゲ−1・バイアスの
影響を含めた閾値電圧分たけ少なくとも低い電圧、例え
ば−3.0v程度に設定される。
The voltage generation circuit (10) includes a ring oscillator (11), a capacitor (12), and MOS transistors (13) (14).
This is a well-known voltage generation circuit consisting of a ring oscillator (1
The AC signal outputted from the power supply voltage ■DD and the ground voltage Vss from the MOS+- transistor (13) (1)
4) to generate a negative voltage -■Bll. This voltage -VBB is the MOSI transistor (13) (14)
It can be set arbitrarily by the threshold voltage of
M when ground voltages V and S are applied to the input terminal (6)
The voltage is set to be at least as low as the threshold voltage including the influence of the backgate 1 bias of transistors O31 to transistor <8>, for example, to about -3.0V.

従って、電圧発生回路(10)の電圧−V RBが印加
されたMOSトランジスタ(8)は、入力端子(6)に
接地電圧VSSから電源電圧VDDの範囲の入力信号電
圧が印加される状態では常にオンとなるため、入力信号
は入カインバータ(9〉のゲートに確実に伝達される。
Therefore, the MOS transistor (8) to which the voltage -V RB of the voltage generating circuit (10) is applied is always in a state where an input signal voltage in the range from the ground voltage VSS to the power supply voltage VDD is applied to the input terminal (6). Since it is turned on, the input signal is reliably transmitted to the gate of the input inverter (9>).

よって、入力インバータ(9)の閾値電圧を低く設定す
ることにより、低レベルの入力が可能となり、また、第
3図及び第4図に示されたプルダウン用のMOSトラン
ジスタ(5)が不要7− となる。
Therefore, by setting the threshold voltage of the input inverter (9) low, low-level input is possible, and the pull-down MOS transistor (5) shown in FIGS. 3 and 4 is unnecessary. becomes.

第2図は本発明の他の実施例を示す回路図である。入力
端子(6)、保護抵抗(7)、高耐圧のMOSトランジ
スタ(8)、及び、電圧発生回路(10)は、第1図の
回路と同一であるので説明を省く。入力回路(5〉はC
−MOSで構成されたNORゲートであり、MOSトラ
ンジスタ(8〉のドレインが入力回路(15)の一方の
入力に接続され、他方の入力には制御信号XIODSB
が印加される。制御信号X I ODSBは、入力端子
(6〉に印加された入力信号の内部への取り込みを制御
する信号であり、取り込みを可佳とするときに接地電圧
V ssレベルとなり、取り込みを禁止するときには電
源電圧v DDレベルとなる。レベルシフト回路(16
)ハ、電源電圧■。Dと電圧発生回路(10〉で発生さ
れた電圧−■,lRを電源とし、入力された制御信号X
IODSBの信号レベルを電源電圧■DDと電圧−V 
JIBのレベルに変換するものである。レベルシフト回
路(16)(7)出力信号XIODSB’はMOSI−
ランジスタ(8)のゲー1・に接続される。
FIG. 2 is a circuit diagram showing another embodiment of the present invention. The input terminal (6), the protective resistor (7), the high voltage MOS transistor (8), and the voltage generating circuit (10) are the same as the circuit shown in FIG. 1, so their explanation will be omitted. Input circuit (5> is C
- It is a NOR gate composed of MOS, and the drain of the MOS transistor (8>) is connected to one input of the input circuit (15), and the other input is connected to the control signal XIODSB.
is applied. The control signal XI ODSB is a signal that controls the internal capture of the input signal applied to the input terminal (6>), and is set to the ground voltage Vss level when the capture is allowed, and is set to the ground voltage Vss level when the capture is prohibited. Power supply voltage v becomes DD level.Level shift circuit (16
) C, power supply voltage■. D and the voltage generated by the voltage generating circuit (10〉 -■, lR are used as power supplies, and the input control signal X
IODSB signal level is set to power supply voltage ■DD and voltage -V
This is to convert to the JIB level. Level shift circuit (16) (7) output signal XIODSB' is MOSI-
Connected to gate 1 of transistor (8).

8 第2図において、制御信号XIODSBが電源電圧V 
DDにある場合、出力信号XIODSB’は電源電圧V
DDレベルとなり、MOSトランジスタ(8〉吐才フと
なり、また、入力回路(15)の出力は接地電圧VSS
レベルに固定される。これにより、入力端子(6)に印
加された入力信号の取り込みが禁止される。一方、制御
信号XIODSBが接地電圧VSSになると、入力回路
(15)はC−MOSインバータと同一構成となり、M
OSトランジスタ<8〉から伝達される信号に応じた信
号の出力が可能となる。更に、レベルシフト回路(16
)の出力信号X I ODSB’は、電圧−VBBレベ
ルとなるため、MOS}ランジスタ(8)は、入力端子
(6)に印加される信号が接地電圧V ssレベルであ
っても、完全にオン状態となり、入力端子(6〉に印加
された信号は、入力回路(15)に伝達される。
8 In FIG. 2, the control signal XIODSB is set to the power supply voltage V
DD, the output signal XIODSB' is the power supply voltage V
DD level, the MOS transistor (8) is turned off, and the output of the input circuit (15) is at the ground voltage VSS.
fixed at the level. This prohibits the input signal applied to the input terminal (6) from being taken in. On the other hand, when the control signal XIODSB becomes the ground voltage VSS, the input circuit (15) has the same configuration as the C-MOS inverter, and the M
It becomes possible to output a signal according to the signal transmitted from the OS transistor <8>. Furthermore, a level shift circuit (16
) output signal XIODSB' is at the voltage -VBB level, so the MOS transistor (8) is completely turned on even if the signal applied to the input terminal (6) is at the ground voltage Vss level. The signal applied to the input terminal (6>) is transmitted to the input circuit (15).

従って、入力回路〈15〉の閾値電圧を低く設定するこ
とによって低レベルの信号入力が可能となり、プルダウ
ン用のトランジスタも不要となる。
Therefore, by setting the threshold voltage of the input circuit <15> low, it is possible to input a low-level signal, and a pull-down transistor is not required.

また、第1図及び第2図の回路において、入力端子(6
〉に負の高電圧が印加されると、MOSトランジスタ(
8)のゲートに印加された電圧、即ち、電圧発生回路(
10)の出力電圧−V BBより大幅に低くなるため、
MOSI−ランジスタ(8〉は完全にオフし、入力イン
バータ(9)及び入力回路(15)の破壊が防止される
In addition, in the circuits of FIGS. 1 and 2, the input terminal (6
> When a negative high voltage is applied to the MOS transistor (
8), that is, the voltage applied to the gate of the voltage generating circuit (
10) because the output voltage -V BB will be significantly lower than
The MOSI transistor (8>) is completely turned off, preventing destruction of the input inverter (9) and input circuit (15).

また、第1図及び第2図に示された電圧発生回路(10
〉は、NチャンネルMOSトランジスタが形成されるP
型半導体層をバイアスするための基板バイアス発生回路
と兼用することも可能である。
In addition, the voltage generation circuit (10
> is P where an N-channel MOS transistor is formed.
It is also possible to use it also as a substrate bias generation circuit for biasing the type semiconductor layer.

この場合、基板バイアス電圧よりMOSトランジスタ(
8)のゲート電圧を高くする場合には、接地電圧V s
sと基板バイアスの電圧の出力間にドレインとゲートを
接続したNチャンネルMOSあるいはPチャンネルMO
Sを複数直列接続し、任意の接続点の電圧をMOSトラ
ンジスタ(8)のゲートに印加する。
In this case, the MOS transistor (
8) When increasing the gate voltage, the ground voltage V s
N-channel MOS or P-channel MO with drain and gate connected between s and substrate bias voltage output
A plurality of MOS transistors S are connected in series, and a voltage at an arbitrary connection point is applied to the gate of the MOS transistor (8).

(ト〉発明の効果 上述の如く本発明によれば、高入力インピーダンスを持
つ入力端子の静電破壊の防止が実現できると共に、低入
力レベルの入力が可能となり、ICのアプリケーション
の多様化及び高信頼性が図れる利点がある。更に、プル
ダウン用の素子を設ける必要がなくなるため、入力端子
に常時“H +1レベルを印加しても電流が流れること
がなく、スタンバイ状態での消費電力が低減できる効果
もある。
(G) Effects of the Invention As described above, according to the present invention, it is possible to prevent electrostatic damage to input terminals with high input impedance, and it is also possible to input low input levels, thereby diversifying IC applications and increasing It has the advantage of improving reliability.Furthermore, since there is no need to provide a pull-down element, no current flows even if the "H+1" level is constantly applied to the input terminal, reducing power consumption in standby mode. It's also effective.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第l図及び第2図は本発明の実施例を示す回路図、第3
図及び第4図は従来例を示す回路図である。 (6)・・・入力端子、 (7)・・・保護抵抗、 (
8)・・・MOSトランジスタ、 (9)・・・入カイ
ンバータ、(10〉・・・電圧発生回路、 (15)・
・・入力回路、 〈16〉・・・レベルシフト回路。
Figures 1 and 2 are circuit diagrams showing embodiments of the present invention;
4 are circuit diagrams showing a conventional example. (6)...Input terminal, (7)...Protection resistor, (
8)...MOS transistor, (9)...input inverter, (10>...voltage generation circuit, (15)...
...Input circuit, <16>...Level shift circuit.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)入力端子と、該入力端子に一端が接続された抵抗
素子と、該抵抗素子の他端にゲートが接続されたMOS
トランジスタとを備えた半導体集積回路において、 前記入力端子と前記MOSトランジスタのゲート間に、
前記抵抗素子と直列に接続された高耐圧MOSトランジ
スタと、 電源電圧に基いて、該電源電圧の範囲外の電圧を発生す
る電圧発生回路とを備え、 前記電圧発生回路で発生された電圧を前記高耐圧MOS
トランジスタのゲートに印加することを特徴とする半導
体集積回路。
(1) MOS with an input terminal, a resistance element with one end connected to the input terminal, and a gate connected to the other end of the resistance element
In a semiconductor integrated circuit comprising a transistor, between the input terminal and the gate of the MOS transistor,
a high-voltage MOS transistor connected in series with the resistance element; and a voltage generation circuit that generates a voltage outside the range of the power supply voltage based on the power supply voltage, the voltage generated by the voltage generation circuit is High voltage MOS
A semiconductor integrated circuit characterized in that a voltage is applied to the gate of a transistor.
(2)入力端子と、該入力端子に一端が接続された抵抗
素子と、 該抵抗素子の他端にゲートが接続されたMOSトランジ
スタとを備えた半導体集積回路において、 前記入力端子と前記MOSトランジスタのゲート間に、
前記抵抗素子と直列に接続された高耐圧MOSトランジ
スタと、 電源電圧に基いて、該電源電圧の範囲外の電圧を発生す
る電圧発生回路と、 該電圧発生回路で発生された電圧を電源とし、前記入力
端子に印加された信号の入力を制御する制御信号が印加
されたレベルシフト回路とを備え、 該レベルシフト回路の出力信号を前記高耐圧MOSトラ
ンジスタのゲートに印加することを特徴とする半導体集
積回路。
(2) In a semiconductor integrated circuit comprising an input terminal, a resistance element having one end connected to the input terminal, and a MOS transistor having a gate connected to the other end of the resistance element, the input terminal and the MOS transistor between the gates of
a high-voltage MOS transistor connected in series with the resistance element; a voltage generation circuit that generates a voltage outside the range of the power supply voltage based on the power supply voltage; and a voltage generated by the voltage generation circuit as a power supply; and a level shift circuit to which a control signal for controlling the input of the signal applied to the input terminal is applied, and an output signal of the level shift circuit is applied to the gate of the high voltage MOS transistor. integrated circuit.
JP1156225A 1989-06-19 1989-06-19 Semiconductor integrated circuit Pending JPH0321057A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6128173A (en) * 1997-10-16 2000-10-03 Nec Corporation Semiconductor integrated circuit device having protective transistors with P-N junction broken down earlier than breakdown of gate insulator of component transistors

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6128173A (en) * 1997-10-16 2000-10-03 Nec Corporation Semiconductor integrated circuit device having protective transistors with P-N junction broken down earlier than breakdown of gate insulator of component transistors

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