JPH03200773A - 光学活性スルフィド誘導体の取得方法 - Google Patents
光学活性スルフィド誘導体の取得方法Info
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- JPH03200773A JPH03200773A JP34473689A JP34473689A JPH03200773A JP H03200773 A JPH03200773 A JP H03200773A JP 34473689 A JP34473689 A JP 34473689A JP 34473689 A JP34473689 A JP 34473689A JP H03200773 A JPH03200773 A JP H03200773A
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は一般式(1)
(式中R,R’はアルキル基を意味し、x’、xX s
は水素原子又はハロゲン原子を意味する〉で表わされる
スルフィド誘導体の光学分割方法に関する。一般式(1
)で表わされるスルフィド誘導体は、 (式中R,R’はアルキル基を意味し、x’、xX3は
水素原子又はハロゲン原子を意味する)で表わされるス
ルホン誘導体の合成中間体として非常に重要な化合物で
ある(特開昭61−85369号)一般式(If)で表
わされるスルホン誘導体は、抗真菌剤、抗カビ剤として
有用なものであり、(特開昭57−165370号、特
開昭58−185571号)、光学活性体の一方が強い
抗真菌活性を示すことが知られている〔第8回メディシ
ナルケミストリーシンポジウム(昭和61年)講演要旨
集〕。
は水素原子又はハロゲン原子を意味する〉で表わされる
スルフィド誘導体の光学分割方法に関する。一般式(1
)で表わされるスルフィド誘導体は、 (式中R,R’はアルキル基を意味し、x’、xX3は
水素原子又はハロゲン原子を意味する)で表わされるス
ルホン誘導体の合成中間体として非常に重要な化合物で
ある(特開昭61−85369号)一般式(If)で表
わされるスルホン誘導体は、抗真菌剤、抗カビ剤として
有用なものであり、(特開昭57−165370号、特
開昭58−185571号)、光学活性体の一方が強い
抗真菌活性を示すことが知られている〔第8回メディシ
ナルケミストリーシンポジウム(昭和61年)講演要旨
集〕。
従って、一般式(I)で表わされるスルフィド誘導体の
光学活性体は、一般式(If)で表わされるスルホン誘
導体の光学活性体を得るための、極めて重要な合成中間
体である。
光学活性体は、一般式(If)で表わされるスルホン誘
導体の光学活性体を得るための、極めて重要な合成中間
体である。
一般式(1)で表わされるスルフィド誘導体の光学活性
体の合成法としては、中間体であるジオール体を光学活
性な酸クロリドと反応させ、生じる2種のジアステレオ
マーエステル体を結晶化、およびシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにて分離する操作を経て光学活性なジオ
ール体を得、これから光学活性スルフィド誘導体を得る
方法が知られている〔第8回メディシナルケミストリー
シンポジウム(昭和61年〉講演要旨集第9頁〕しかし
、この方法は、2種のジアステレオマーエステルの分離
効率が悪く工業的方法としては適さなかった。
体の合成法としては、中間体であるジオール体を光学活
性な酸クロリドと反応させ、生じる2種のジアステレオ
マーエステル体を結晶化、およびシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにて分離する操作を経て光学活性なジオ
ール体を得、これから光学活性スルフィド誘導体を得る
方法が知られている〔第8回メディシナルケミストリー
シンポジウム(昭和61年〉講演要旨集第9頁〕しかし
、この方法は、2種のジアステレオマーエステルの分離
効率が悪く工業的方法としては適さなかった。
また、一般式(1)で表わされるスルフィド誘導体は、
濃厚な塩酸水溶液、濃厚な塩酸−メタノール溶液あるい
は濃厚な塩酸水−メタノール混合溶液中では、塩酸塩を
形成し、溶解するが、この溶液を単に水またはメタノー
ルにて希釈するのみで、粗分解が起こり、一般式(1)
で表わされるスルフィド誘導体それ自身が、結晶として
析出することがわかっている。このことは、塩としては
一船的にきわめて存在し易いと考えられている塩酸塩と
してすら存在しにくいことを示すものである。
濃厚な塩酸水溶液、濃厚な塩酸−メタノール溶液あるい
は濃厚な塩酸水−メタノール混合溶液中では、塩酸塩を
形成し、溶解するが、この溶液を単に水またはメタノー
ルにて希釈するのみで、粗分解が起こり、一般式(1)
で表わされるスルフィド誘導体それ自身が、結晶として
析出することがわかっている。このことは、塩としては
一船的にきわめて存在し易いと考えられている塩酸塩と
してすら存在しにくいことを示すものである。
従って、一般式(1)で表わされるスルフィド誘導体と
光学活性な酸との塩化によるジアステレオマー塩の分割
は、きわめて困難と考えられていた。
光学活性な酸との塩化によるジアステレオマー塩の分割
は、きわめて困難と考えられていた。
かかる状況下、本発明者らは一般式(1)で表わされる
スルフィド誘導体の光学活性体を効率良く取得する方法
を鋭意検討した結果、本発明方法を完成させた。
スルフィド誘導体の光学活性体を効率良く取得する方法
を鋭意検討した結果、本発明方法を完成させた。
本発明は、一般式(I)で表わされるスレオまたはエリ
スロースルフィド誘導体のd体と1体からなる混合物を
、光学分割剤として光学活性なカンファースルホン酸を
用いて光学分割し、光学活性なスルフィド誘導体を取得
するという方法に関する。
スロースルフィド誘導体のd体と1体からなる混合物を
、光学分割剤として光学活性なカンファースルホン酸を
用いて光学分割し、光学活性なスルフィド誘導体を取得
するという方法に関する。
更に詳しくは、本発明は一般式(I)で表わされるスル
フィド誘導体のd体と1体からなる混合物と3−置換あ
るいは無置換のD又はL−力ンファースルホン酸とを適
当な溶媒中で反応させ、2種類のジアステレオマー塩を
生成させ、これらの塩の溶媒に対する溶解度差を利用し
て分別し、得られる所望のジアステレオマー塩を分解し
て、所望の配位を有する光学活性スルフィド誘導体を得
るという方法である。
フィド誘導体のd体と1体からなる混合物と3−置換あ
るいは無置換のD又はL−力ンファースルホン酸とを適
当な溶媒中で反応させ、2種類のジアステレオマー塩を
生成させ、これらの塩の溶媒に対する溶解度差を利用し
て分別し、得られる所望のジアステレオマー塩を分解し
て、所望の配位を有する光学活性スルフィド誘導体を得
るという方法である。
一級式(1)のRおよびR′におけるアルヰル基は、直
鎮状または分枝状のいずれでもよく、好適には低級アル
キル基が挙げられ、さらに具体的には、例えばメチル、
エチル、プロピル、イソプロピルまたはブチル基等の炭
素原子数1〜4のアルキル基が挙げられる。中でもメチ
ル基が特に好適な例である。
鎮状または分枝状のいずれでもよく、好適には低級アル
キル基が挙げられ、さらに具体的には、例えばメチル、
エチル、プロピル、イソプロピルまたはブチル基等の炭
素原子数1〜4のアルキル基が挙げられる。中でもメチ
ル基が特に好適な例である。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子あるいはヨウ素原子が挙げられる。
子あるいはヨウ素原子が挙げられる。
XI 、)(2、XIの置換基のついたフェニル基とし
ては、具体的には2.4−ジフルオロフェニル、2.4
−ジクロロフェニル基等が最も好適な例として挙げられ
る。
ては、具体的には2.4−ジフルオロフェニル、2.4
−ジクロロフェニル基等が最も好適な例として挙げられ
る。
一般式(1)で表わされるスルフィド誘導体は不斉炭素
を2個有するため、立体異性体としてスレオ体及びエリ
スロ体が存在するが、本発明の方法は、いずれの立体異
性体にも適用可能であり、とりわけスレオ体に有効であ
る。
を2個有するため、立体異性体としてスレオ体及びエリ
スロ体が存在するが、本発明の方法は、いずれの立体異
性体にも適用可能であり、とりわけスレオ体に有効であ
る。
本発明は、具体的には次の方法により実施する一般式(
1)のスルフィド誘導体と、D−カンファースルホン酸
あるいは、L−力ンファースルホン酸とを、溶媒中に溶
解し、塩を形成せしめる。次いで、生ずる2種のジアス
テレオマー塩のうちの一方を優先的に晶出せしめる。
1)のスルフィド誘導体と、D−カンファースルホン酸
あるいは、L−力ンファースルホン酸とを、溶媒中に溶
解し、塩を形成せしめる。次いで、生ずる2種のジアス
テレオマー塩のうちの一方を優先的に晶出せしめる。
光学活性なカンファースルホン酸としては、例えば、D
−10−カンファースルホン酸、L−10−カンファー
スルホン酸のような光学活性無置換カンファースルホン
酸、あるいは、3−ブロモd−8−カンファースルホン
酸、3−ブロモ−d−10−カンファースルホン酸のよ
うな3−ハロ置換カンファースルホン酸などが挙げられ
る。
−10−カンファースルホン酸、L−10−カンファー
スルホン酸のような光学活性無置換カンファースルホン
酸、あるいは、3−ブロモd−8−カンファースルホン
酸、3−ブロモ−d−10−カンファースルホン酸のよ
うな3−ハロ置換カンファースルホン酸などが挙げられ
る。
溶媒としては例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン(
0−キシレン、m−キシレン、p−キシレンあるいはこ
れらの混合物〉などの芳香族系溶媒、例えばテトラヒド
ロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、例えばア
セトン、2−ブタノンなどのケトン系溶媒、例えばアセ
トニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シドなどの高極性非プロトン性溶媒、例えばジクロロメ
タン、クロロホルム、ジクロロエタンなどのハロゲン系
溶媒、例えばt−ブチルアルコールなどのアルコール系
溶媒等を挙げることができる。好ましい溶媒としては、
例えば芳香族系溶媒が挙げられる。また、これらを任意
の割合で混合して用いることもできる。この場合、高い
光学純度を効率よく得るには芳香族系溶媒を主溶媒とし
て用いることが好ましい。ただし、水またはメタノール
の単独溶媒は、本発明の塩形成溶媒には適さない。
0−キシレン、m−キシレン、p−キシレンあるいはこ
れらの混合物〉などの芳香族系溶媒、例えばテトラヒド
ロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、例えばア
セトン、2−ブタノンなどのケトン系溶媒、例えばアセ
トニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シドなどの高極性非プロトン性溶媒、例えばジクロロメ
タン、クロロホルム、ジクロロエタンなどのハロゲン系
溶媒、例えばt−ブチルアルコールなどのアルコール系
溶媒等を挙げることができる。好ましい溶媒としては、
例えば芳香族系溶媒が挙げられる。また、これらを任意
の割合で混合して用いることもできる。この場合、高い
光学純度を効率よく得るには芳香族系溶媒を主溶媒とし
て用いることが好ましい。ただし、水またはメタノール
の単独溶媒は、本発明の塩形成溶媒には適さない。
溶解し塩を形成せしめる際の温度としては、室温から溶
媒の沸点までの幅で行うことができるが、塩の形成を容
易に行うこと及び、溶解度差により一方のジアステレオ
マー塩を優先的に析出させ易くすることから、溶媒の沸
点近くまで加温することが好ましい。この際、溶媒の一
部を留去することにより、反応系内から水を除去するこ
ともできる。また、析出した塩を分離する前に、必要に
応じ冷却し、析出晶を増加させることもできる。
媒の沸点までの幅で行うことができるが、塩の形成を容
易に行うこと及び、溶解度差により一方のジアステレオ
マー塩を優先的に析出させ易くすることから、溶媒の沸
点近くまで加温することが好ましい。この際、溶媒の一
部を留去することにより、反応系内から水を除去するこ
ともできる。また、析出した塩を分離する前に、必要に
応じ冷却し、析出晶を増加させることもできる。
分割剤としてのD−カンファースルホン酸あるいはL−
カンファースルホン酸の使用量は、基質に対して0.5
〜2.0当量、好ましくは1当量前後が適当である。
カンファースルホン酸の使用量は、基質に対して0.5
〜2.0当量、好ましくは1当量前後が適当である。
なお、予め用意しておいた光学純度の高い塩を結晶化時
に接種することも可能である。
に接種することも可能である。
得られた結晶を、先に挙げた溶媒中で再結晶、または同
溶媒中に懸濁撹拌した後濾過することにより、光学純度
をより向上させることも可能である。この時に用いる溶
媒は、最初の塩の形成に用いたのと同じ溶媒でも良く、
また、別の溶媒を用いてもよい。
溶媒中に懸濁撹拌した後濾過することにより、光学純度
をより向上させることも可能である。この時に用いる溶
媒は、最初の塩の形成に用いたのと同じ溶媒でも良く、
また、別の溶媒を用いてもよい。
また、本発明方法では、2種のジアステレオマー塩の混
合物を予め単離しておき、これを前述の溶媒を用い再結
晶、または同溶媒中に懸濁撹拌した後濾過して、ジアス
テレオマー塩の一方だけを取り出すこともできる。
合物を予め単離しておき、これを前述の溶媒を用い再結
晶、または同溶媒中に懸濁撹拌した後濾過して、ジアス
テレオマー塩の一方だけを取り出すこともできる。
これらの方法で得られたジアステレオマー塩は、通常の
塩分解法を経て光学活性なスルフィド誘導体を単離する
ことができる。即ち、例えばジアステレオマー塩をアル
カリ水中に加え、光学活性なカンファースルホン酸はア
ルカリ金属塩として水慴に移行させ、光学活性スルフィ
ド誘導体は結晶として析出させ、これを分離し単離する
ことができる。
塩分解法を経て光学活性なスルフィド誘導体を単離する
ことができる。即ち、例えばジアステレオマー塩をアル
カリ水中に加え、光学活性なカンファースルホン酸はア
ルカリ金属塩として水慴に移行させ、光学活性スルフィ
ド誘導体は結晶として析出させ、これを分離し単離する
ことができる。
従って、本発明の方法により、−形式(1)で表わされ
るスルフィド誘導体の6体と1体の混合物から、光学純
度の高い6体及び1体をそれぞれ高収率で得ることが可
能である。
るスルフィド誘導体の6体と1体の混合物から、光学純
度の高い6体及び1体をそれぞれ高収率で得ることが可
能である。
本発明方法を用いることにより光学活性スルフィド誘導
体、なかでも光学活性スレオ−2−(24−ジフルオロ
フェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2,4−トリ
アゾール−1−イル)ブタン−2−オールを、工業的に
有利な方法で得ることが可能となった。
体、なかでも光学活性スレオ−2−(24−ジフルオロ
フェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2,4−トリ
アゾール−1−イル)ブタン−2−オールを、工業的に
有利な方法で得ることが可能となった。
次に、本発明を以下の実施例によって説明するが、これ
はその−例にすぎないものであって、これのみに何ら限
定されるものではない。
はその−例にすぎないものであって、これのみに何ら限
定されるものではない。
実施例1
トリアゾール−1−イル)ブタン−2−オールの光学分
割 反応容器に5.99gの(±)−スレオ−2−(24−
ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ1− (1,2
,4−)リアゾール−1−イル)ブタン−2−オール、
5.01gのD−10−カンファースルホン酸・1水
和物およびトルエン36−を加え、加熱を行い、還流下
結晶を溶解せしめた。
割 反応容器に5.99gの(±)−スレオ−2−(24−
ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ1− (1,2
,4−)リアゾール−1−イル)ブタン−2−オール、
5.01gのD−10−カンファースルホン酸・1水
和物およびトルエン36−を加え、加熱を行い、還流下
結晶を溶解せしめた。
還流下トルエン6−を留去したのち、反応液を40℃ま
で冷却し、40℃にて純度の高い結晶を接種し、1時間
保温して結晶を析出させた。その後、室温まで冷却して
析出晶を濾取し、トルエン10m!!で洗浄したのち減
圧下乾燥して、4.46gの(−)−スレオ−2−(2
,4−ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ−1−(
1,2,4−)リアゾール−1−イル)ブタン−2−オ
ールのDlo−カンファースルホン酸塩を得た。
で冷却し、40℃にて純度の高い結晶を接種し、1時間
保温して結晶を析出させた。その後、室温まで冷却して
析出晶を濾取し、トルエン10m!!で洗浄したのち減
圧下乾燥して、4.46gの(−)−スレオ−2−(2
,4−ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ−1−(
1,2,4−)リアゾール−1−イル)ブタン−2−オ
ールのDlo−カンファースルホン酸塩を得た。
光学純度 51.4%e、 e、 ()IPLC分
析値)融 点 81〜90℃ (分 解
)[’r)a’ 1g、9° (C=
0.50. CHCl、)なお、濾液を濃縮し、(+)
−スレオ−2−(2,4−ジフルオロフェニル)−3−
メチルチオ1− (1,2,4−)リアゾール−1−イ
ル)ブタン−2−オールのD−10−カンファースルホ
ン酸塩を主成分とするアモルファスを得た。
析値)融 点 81〜90℃ (分 解
)[’r)a’ 1g、9° (C=
0.50. CHCl、)なお、濾液を濃縮し、(+)
−スレオ−2−(2,4−ジフルオロフェニル)−3−
メチルチオ1− (1,2,4−)リアゾール−1−イ
ル)ブタン−2−オールのD−10−カンファースルホ
ン酸塩を主成分とするアモルファスを得た。
光学純度 36.9%e、 e、 ()lPL(:
分析値)CaE ’A’ +41.4” (
C=0.51.C)IcIs)得られた(−)−スレオ
体の塩の結晶4.23gにトルエン30−を加え、50
℃で2時間保温した。室温まで冷却して結晶を濾取し、
トルエン10−で洗浄したのち減圧乾燥して、2.86
gのく−〉スレオ−2−(2,4−ジフルオロフェニル
)3−メチルチオ−1−(1,2,4−)リアゾール−
1−イル)ブタン−2−オールのD−10−力ンファー
スルホン塩酸を得た。核磁気共鳴スペクトルの測定結果
より、塩基と酸の組成比は1:1であることが判明した
。
分析値)CaE ’A’ +41.4” (
C=0.51.C)IcIs)得られた(−)−スレオ
体の塩の結晶4.23gにトルエン30−を加え、50
℃で2時間保温した。室温まで冷却して結晶を濾取し、
トルエン10−で洗浄したのち減圧乾燥して、2.86
gのく−〉スレオ−2−(2,4−ジフルオロフェニル
)3−メチルチオ−1−(1,2,4−)リアゾール−
1−イル)ブタン−2−オールのD−10−力ンファー
スルホン塩酸を得た。核磁気共鳴スペクトルの測定結果
より、塩基と酸の組成比は1:1であることが判明した
。
光学純度 90.4%e、e。
融 点 90〜96℃
〔αE8538.4゜
()IPLc分析値)
(分 解)
(C= 0.50. C)HCl3)
また、この結晶はトルエンを重量比で6%含んでいるこ
とが核磁気共鳴スペクトルにより確認され、その元素分
析値(実測値)は、(−)−スレオ−2−(2,4−ジ
フルオロフェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2,
4−トリアゾール−1−イル)ブタン−2−オール、D
−10〜カンフアースルホン酸およびトルエンの組成比
を1=l:l/3とする計算値と一致した。
とが核磁気共鳴スペクトルにより確認され、その元素分
析値(実測値)は、(−)−スレオ−2−(2,4−ジ
フルオロフェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2,
4−トリアゾール−1−イル)ブタン−2−オール、D
−10〜カンフアースルホン酸およびトルエンの組成比
を1=l:l/3とする計算値と一致した。
さらに、以上の方法により得られた光学純度の高い(−
)−スレオ−2−(2,4−ジフルオロフェニル)−3
−メチルチオ−1−(1,2,4−トリアゾール−1−
イル)ブタン−2−オールのD−10−カンファースル
ホン酸塩2.00gを飽和重曹水6.0atl’中に攪
拌下ゆっくりと加えた。40℃で1時間保温したのち、
室温まで冷却し、生じた結晶を濾取した。10−の水で
洗浄後、減圧下乾燥して、1.03gの(−)−スレオ
−2−(24−ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ
−1−(1,2,4−トリアゾール−1−イル〉ブタン
−2−オールを得た。これをトルエンとヘブタンの混合
溶媒より再結晶し、純粋な(−)−スレオ−2−(2,
4−ジフルオロフェニル)−3メチルチオ−1−(1,
2,4−)リアゾール1−イル)ブタン−2−オールを
得た。
)−スレオ−2−(2,4−ジフルオロフェニル)−3
−メチルチオ−1−(1,2,4−トリアゾール−1−
イル)ブタン−2−オールのD−10−カンファースル
ホン酸塩2.00gを飽和重曹水6.0atl’中に攪
拌下ゆっくりと加えた。40℃で1時間保温したのち、
室温まで冷却し、生じた結晶を濾取した。10−の水で
洗浄後、減圧下乾燥して、1.03gの(−)−スレオ
−2−(24−ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ
−1−(1,2,4−トリアゾール−1−イル〉ブタン
−2−オールを得た。これをトルエンとヘブタンの混合
溶媒より再結晶し、純粋な(−)−スレオ−2−(2,
4−ジフルオロフェニル)−3メチルチオ−1−(1,
2,4−)リアゾール1−イル)ブタン−2−オールを
得た。
光学純度 〜100%e、 e、(IIPLc分析値
)融 点 134.5〜135.0℃[α] I
i’ −126,7° (C= 0.51. C
)IcIs)元素分析値(測定値)C52,1584,
98N 14.17(計算値)C52,16N 5.0
5 N 14.04参考例1 の製造 実施例1で得られた(−)−スレオ−2−〈24−ジフ
ルオロフェニル〉−3−メチルチオ−1−(1,2,4
−)リアゾール−1−イル〉ブタン−2−オール400
■を161nlのクロロホルムに溶解し、水冷下580
■メタクロロ過安息香酸を加えた。水冷下30分間撹拌
後、室温にて1時間半撹拌した。
)融 点 134.5〜135.0℃[α] I
i’ −126,7° (C= 0.51. C
)IcIs)元素分析値(測定値)C52,1584,
98N 14.17(計算値)C52,16N 5.0
5 N 14.04参考例1 の製造 実施例1で得られた(−)−スレオ−2−〈24−ジフ
ルオロフェニル〉−3−メチルチオ−1−(1,2,4
−)リアゾール−1−イル〉ブタン−2−オール400
■を161nlのクロロホルムに溶解し、水冷下580
■メタクロロ過安息香酸を加えた。水冷下30分間撹拌
後、室温にて1時間半撹拌した。
反応液に飽和チオ硫酸す)IJウム溶液15rd、を加
え、20分間撹拌したのち、有機層を分離し、水層より
クロロホルムにて抽出した。有機層を合わせて1規定水
酸化ナトリウム水溶液、飽和塩化アンモニウム水溶液、
飽和食塩水にて順次洗浄し、無水芒硝で乾燥後、減圧下
溶媒留去して(−)スレオ−2−(2,4−ジフルオロ
フェニル)−3−メチルスルホニル−1−(1,2,4
−)リアゾール−1−イル)ブタン−2−オールを得た
。これをイソプロピルアルコールより再結晶し365
mgの純粋な(−〉−スレオ−2−(2,4−ジフルオ
ロフェニル)3−メチルスルホニル−1−(1,2,4
−トリアゾール−1−イル)ブタン−2−オールを得た
。
え、20分間撹拌したのち、有機層を分離し、水層より
クロロホルムにて抽出した。有機層を合わせて1規定水
酸化ナトリウム水溶液、飽和塩化アンモニウム水溶液、
飽和食塩水にて順次洗浄し、無水芒硝で乾燥後、減圧下
溶媒留去して(−)スレオ−2−(2,4−ジフルオロ
フェニル)−3−メチルスルホニル−1−(1,2,4
−)リアゾール−1−イル)ブタン−2−オールを得た
。これをイソプロピルアルコールより再結晶し365
mgの純粋な(−〉−スレオ−2−(2,4−ジフルオ
ロフェニル)3−メチルスルホニル−1−(1,2,4
−トリアゾール−1−イル)ブタン−2−オールを得た
。
光学純度 〜100%e、 e、 (HPLC分析
値)融 点 148.0〜148.5℃[α]
1S−39,0° (C= 1.0. MeOH)元
素分析値(測定値)C47,12H4,57N12.7
2 S10.1(計算値)C47,13H4,56N1
2.68 S9.68実施例2 光学分割 反応容器に5.00gの(±)−スレオ−2−(24−
ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2
,4−トリアゾール−1−イル)ブタン−2−オール、
4.18gのD−10−力ンファースルホン酸・1水和
物およびキシレン(混合物137、5〜141.5℃留
分)25−を加え、加熱を行い、還流下結晶を溶媒せし
めた。反応液を35℃まで冷却し、35℃にて純度の高
い種晶を接種し、室温にて3時間撹拌して結晶を析出さ
せた。
値)融 点 148.0〜148.5℃[α]
1S−39,0° (C= 1.0. MeOH)元
素分析値(測定値)C47,12H4,57N12.7
2 S10.1(計算値)C47,13H4,56N1
2.68 S9.68実施例2 光学分割 反応容器に5.00gの(±)−スレオ−2−(24−
ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2
,4−トリアゾール−1−イル)ブタン−2−オール、
4.18gのD−10−力ンファースルホン酸・1水和
物およびキシレン(混合物137、5〜141.5℃留
分)25−を加え、加熱を行い、還流下結晶を溶媒せし
めた。反応液を35℃まで冷却し、35℃にて純度の高
い種晶を接種し、室温にて3時間撹拌して結晶を析出さ
せた。
析出晶を濾取し、キシレン10mfで洗浄したのち減圧
下乾燥して、3.01gの(−)−スレオ−2−(2,
4−ジフルオロフェニル〉−3−メチルチオ−1−(1
,2,4−トリアゾール−1−イル)ブタン−2−オー
ルのD−10のカンファースルホン酸塩を得た。
下乾燥して、3.01gの(−)−スレオ−2−(2,
4−ジフルオロフェニル〉−3−メチルチオ−1−(1
,2,4−トリアゾール−1−イル)ブタン−2−オー
ルのD−10のカンファースルホン酸塩を得た。
光学純度 66.2%e、 e、 (HPLC分析
値〉融 点 78〜82℃ (分 解
)〔αEP 22.2° (C= 0.
50. CHCl、)得られた結晶2.86gにキシレ
ン15−を加え、50℃で2時間保温した。室温まで冷
却し、室温にて3時間撹拌後、結晶を濾取した。キシレ
ン10−で洗浄したのち、減圧下乾燥して2.04gの
(−)−スレオ−2−(2,4−ジフルオロフェニル)
−3−メチルチオ−1−(1,2,4−トリアゾール−
1−イル)ブタン−2−オールのD−1O−カンファー
スルホン酸塩を得た。核磁気共鳴スペクトルの測定結果
より、塩基と酸の組成比はl:1であることが判明した
。
値〉融 点 78〜82℃ (分 解
)〔αEP 22.2° (C= 0.
50. CHCl、)得られた結晶2.86gにキシレ
ン15−を加え、50℃で2時間保温した。室温まで冷
却し、室温にて3時間撹拌後、結晶を濾取した。キシレ
ン10−で洗浄したのち、減圧下乾燥して2.04gの
(−)−スレオ−2−(2,4−ジフルオロフェニル)
−3−メチルチオ−1−(1,2,4−トリアゾール−
1−イル)ブタン−2−オールのD−1O−カンファー
スルホン酸塩を得た。核磁気共鳴スペクトルの測定結果
より、塩基と酸の組成比はl:1であることが判明した
。
光学純度 91.5%e、 e、 (HPLC分析
値)融 点 84〜88℃ (分 解
)Ca〕fi’ −39,6° (C= 0.
50. CHCl、)また、この結晶はキシレンを重量
比で約8%含んでいることが核磁気共鳴スペクトルによ
り1ilkuされ、その元素分析値(実測値)は、(−
)−スレオ−2−(2,4−ジフルオロフェニル)−3
−メチルチオ−1−(1,2,4−)リアゾール−1−
イル)ブタン−2−オール、D−10−カンファースル
ホン酸およびキシレンの組成比を1:lO,4とする計
算値と一致した。
値)融 点 84〜88℃ (分 解
)Ca〕fi’ −39,6° (C= 0.
50. CHCl、)また、この結晶はキシレンを重量
比で約8%含んでいることが核磁気共鳴スペクトルによ
り1ilkuされ、その元素分析値(実測値)は、(−
)−スレオ−2−(2,4−ジフルオロフェニル)−3
−メチルチオ−1−(1,2,4−)リアゾール−1−
イル)ブタン−2−オール、D−10−カンファースル
ホン酸およびキシレンの組成比を1:lO,4とする計
算値と一致した。
さらに、以上の方法により得られた光学純度の高い(−
)−スレオ−2−(2,4−ジフルオロフェニル)−3
−メチルチオ−1−(1,2,4−トリアゾール−1−
イル)ブタン−2−オールのD−10−カンファースル
ホン酸塩1.5C1gを飽和重曹水4.Od中に撹拌下
ゆっくりと加えた。40℃で1時間保温したのち、室温
まで冷却し、生じた結晶を濾取した。5−の水で洗浄後
、減圧不乾燥して0.74gの(−)−スレオ−2−(
2,4−ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ−1−
(1,2,4−)リアゾール−1−イル)ブタン−2−
オールを得た。これをトルエンとへブタンの混合溶媒よ
り再結晶し、純粋な(−)−スレオ−2−(2,4−ジ
フルオロフェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2,
4−)リアゾール−1−イル〉ブタン−2−オールを得
た。
)−スレオ−2−(2,4−ジフルオロフェニル)−3
−メチルチオ−1−(1,2,4−トリアゾール−1−
イル)ブタン−2−オールのD−10−カンファースル
ホン酸塩1.5C1gを飽和重曹水4.Od中に撹拌下
ゆっくりと加えた。40℃で1時間保温したのち、室温
まで冷却し、生じた結晶を濾取した。5−の水で洗浄後
、減圧不乾燥して0.74gの(−)−スレオ−2−(
2,4−ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ−1−
(1,2,4−)リアゾール−1−イル)ブタン−2−
オールを得た。これをトルエンとへブタンの混合溶媒よ
り再結晶し、純粋な(−)−スレオ−2−(2,4−ジ
フルオロフェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2,
4−)リアゾール−1−イル〉ブタン−2−オールを得
た。
光学純度
融 点
〔α〕r
元素分析値
実施例3
93.5% e、e。
130〜133℃
−120,4° (C= 0.50. CHCl3)(
測定値)C52,13)15.06 N14.0951
1.1(計算値)C52,16)15.05 N14.
04 S10.71光学分割 反応容器に1.OOgの(±)〜スレオー2−(24−
ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ=1− (1,
2,4−)リアゾール−1−イル)ブタン−2−オール
、0.84gのD−10−カンファースルホン酸および
3−のバラ−キシレンを加え100℃に加熱して結晶を
溶解せしめた。反応液を40℃まで冷却し、純度の高い
種晶を接種し、室温で3時間撹拌し、結晶を析出させた
。析出晶を濾取し、バラ−キシレン3−で洗浄したのち
減圧不乾燥してDJ5gの(−)−スレオ−(2,4−
ジフルオロフェニル〉−3−メチルチオ−1−(1,2
,4−)リアゾール−1−イル)ブタン−2−オールー
D−10−カンフアースルホン酸塩を得た。
測定値)C52,13)15.06 N14.0951
1.1(計算値)C52,16)15.05 N14.
04 S10.71光学分割 反応容器に1.OOgの(±)〜スレオー2−(24−
ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ=1− (1,
2,4−)リアゾール−1−イル)ブタン−2−オール
、0.84gのD−10−カンファースルホン酸および
3−のバラ−キシレンを加え100℃に加熱して結晶を
溶解せしめた。反応液を40℃まで冷却し、純度の高い
種晶を接種し、室温で3時間撹拌し、結晶を析出させた
。析出晶を濾取し、バラ−キシレン3−で洗浄したのち
減圧不乾燥してDJ5gの(−)−スレオ−(2,4−
ジフルオロフェニル〉−3−メチルチオ−1−(1,2
,4−)リアゾール−1−イル)ブタン−2−オールー
D−10−カンフアースルホン酸塩を得た。
光学純度
融 点
〔α〕25
実施例4
67.1%e、e、 ()IPLc分析値)70〜7
6℃ (分 解) 23.4 ° (C= 0.50. CHCl5)光
学分割 溶媒としてオルト−キシレン5−を用いた以外は実施例
3と同様の操作を行い、0.39gの(−)スレオ−2
−(2,4−ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ−
1−(1,2,4−)リアーゾール−1−イル〉ブタン
−2−オールのD−10−カンファースルホン酸塩を得
た。
6℃ (分 解) 23.4 ° (C= 0.50. CHCl5)光
学分割 溶媒としてオルト−キシレン5−を用いた以外は実施例
3と同様の操作を行い、0.39gの(−)スレオ−2
−(2,4−ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ−
1−(1,2,4−)リアーゾール−1−イル〉ブタン
−2−オールのD−10−カンファースルホン酸塩を得
た。
光学純度 81.5%e、e、 (HPLC分析値
)融 点 80〜88℃ (分 解)
〔α〕8’ 32.1 ° (C= 0
.54. CHCla)実施例5 反応容器に898■の(±)−スレオ−2−(24−ジ
フルオロフェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2,
4−トリアゾール−1−イル)ブタン−2−オール、9
88■の3−ブロモ−d−8−カンファースルホン酸・
1水和物およびトルエン10−を加え、加熱を行い、還
流下結晶を溶解せしめた。反応液を40℃まで冷却し、
40℃にて純度の高い種晶を接種したのち室温にて3時
間撹拌して結晶を析出させた。析出晶を濾取し、トルエ
ン7−で洗浄したのち減圧不乾燥して、713■の(=
)−スレオ−2−(2,4−ジフルオロフェニル)−3
−メチルチオ−1−(1,2,4−トリアゾール−1−
イル)ブタン−2−オールの3−ブロモ−d−8−カン
ファースルホン酸塩を得た。
)融 点 80〜88℃ (分 解)
〔α〕8’ 32.1 ° (C= 0
.54. CHCla)実施例5 反応容器に898■の(±)−スレオ−2−(24−ジ
フルオロフェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2,
4−トリアゾール−1−イル)ブタン−2−オール、9
88■の3−ブロモ−d−8−カンファースルホン酸・
1水和物およびトルエン10−を加え、加熱を行い、還
流下結晶を溶解せしめた。反応液を40℃まで冷却し、
40℃にて純度の高い種晶を接種したのち室温にて3時
間撹拌して結晶を析出させた。析出晶を濾取し、トルエ
ン7−で洗浄したのち減圧不乾燥して、713■の(=
)−スレオ−2−(2,4−ジフルオロフェニル)−3
−メチルチオ−1−(1,2,4−トリアゾール−1−
イル)ブタン−2−オールの3−ブロモ−d−8−カン
ファースルホン酸塩を得た。
光学純度 89.1%e、e、 (HPLC分析値
)融 点 162〜165℃ (分 解)[α
)!’ −10,0° (C= 0.50.1
jlC1a)なお、濾液を濃縮し、(+〉−スレオ−2
−(2,4−ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ−
1−(1,2,4−)リアゾール−1−イル)ブタン−
2−オールの3−ブロモ−d−8−カンファースルホン
酸塩を主成分とするアモルファスを得た。
)融 点 162〜165℃ (分 解)[α
)!’ −10,0° (C= 0.50.1
jlC1a)なお、濾液を濃縮し、(+〉−スレオ−2
−(2,4−ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ−
1−(1,2,4−)リアゾール−1−イル)ブタン−
2−オールの3−ブロモ−d−8−カンファースルホン
酸塩を主成分とするアモルファスを得た。
光学純度 56.0%e、e; (HPLC分析値
)(α) ii’ +78J° (C= 0.
50. CHCl、)得られた(−)−スレオ体の塩の
結晶684■にトルエン5.5+at’を加え、50℃
で2時間保温した。室温まで冷却して結晶を濾取し、ト
ルエン5IIIi′で洗浄したのち減圧下乾燥して、6
22■の(−)−スレオ−2−(2,4−ジフルオロフ
ェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2,4−トリア
ゾール−1−イル)ブタン−2−オールの3−ブロモ−
d−8−カンファースルホン酸塩を得た。核磁気共鳴ス
ペクトルの測定結果より、塩基と酸の組成比は1:1で
あることが判明した。
)(α) ii’ +78J° (C= 0.
50. CHCl、)得られた(−)−スレオ体の塩の
結晶684■にトルエン5.5+at’を加え、50℃
で2時間保温した。室温まで冷却して結晶を濾取し、ト
ルエン5IIIi′で洗浄したのち減圧下乾燥して、6
22■の(−)−スレオ−2−(2,4−ジフルオロフ
ェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2,4−トリア
ゾール−1−イル)ブタン−2−オールの3−ブロモ−
d−8−カンファースルホン酸塩を得た。核磁気共鳴ス
ペクトルの測定結果より、塩基と酸の組成比は1:1で
あることが判明した。
光学純度 98.7%e、e、 (HPLC分析値
)融 点 167〜169℃ (分 解)[
cr) P 17.9° (C= 0.50
. CHCl、)元素分析値′ (測定値)C45,07H4,89N6.86 S10
.1 0r12.2(計算値)C45,25H4,95
N6.88310.50 Br13.09さらに以上の
方法により得られた光学純度の高い(−)−スレオ−2
−(2,4−ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ−
1−(1,2,4−トリアゾール−1−イル〉ブタン−
2−オールの3−ブロモ−d−8−力ソファースルホン
酸塩400■を飽和重曹水1.6IR1中に撹拌下ゆっ
くりと加えた。40℃で1時間保温したのち室温まで冷
却し、生じた結晶を濾取した。2−の水で洗浄後、減圧
下乾燥して、190■の(=)−スレオ−2(2,4−
ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2
,4−)リアゾール−l−イル)ブタン−2−オールを
得た。これをトルエンとヘプタンの混合溶媒より再結晶
し、純粋な(−)−スレオ−2−(2,4−ジフルオロ
フェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2,4−)リ
アゾール−1−イル)ブタン−2−オールヲ得り。
)融 点 167〜169℃ (分 解)[
cr) P 17.9° (C= 0.50
. CHCl、)元素分析値′ (測定値)C45,07H4,89N6.86 S10
.1 0r12.2(計算値)C45,25H4,95
N6.88310.50 Br13.09さらに以上の
方法により得られた光学純度の高い(−)−スレオ−2
−(2,4−ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ−
1−(1,2,4−トリアゾール−1−イル〉ブタン−
2−オールの3−ブロモ−d−8−力ソファースルホン
酸塩400■を飽和重曹水1.6IR1中に撹拌下ゆっ
くりと加えた。40℃で1時間保温したのち室温まで冷
却し、生じた結晶を濾取した。2−の水で洗浄後、減圧
下乾燥して、190■の(=)−スレオ−2(2,4−
ジフルオロフェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2
,4−)リアゾール−l−イル)ブタン−2−オールを
得た。これをトルエンとヘプタンの混合溶媒より再結晶
し、純粋な(−)−スレオ−2−(2,4−ジフルオロ
フェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2,4−)リ
アゾール−1−イル)ブタン−2−オールヲ得り。
光学純度 100%e、e、 (HPLC分析値)
融 点 134.5〜135.0℃Ca〕P
126.1° (C= 0.50. CHC
l、)元素分析値 (測定値)C52,0085,08
N14.OI S10.4(計算値)C52,1685
,05N14.04510.71実施例6 光学分割 反応容器に200■の(±)−スレオ−2−(24−ジ
フルオロフェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2,
4−)リアゾール−1−イル〉ブタン−2−オール、2
20■の3−ブロモ−d−8−カンファースルホン酸・
1水和物および2−のキシレン(混合物、137.5〜
141.5℃留分)を加え、加熱を行い、還流下結晶を
溶解せしめた。反応液を50℃まで冷却し、純度の高い
種晶を接種したのち2時間撹拌し、結晶を析出させた。
融 点 134.5〜135.0℃Ca〕P
126.1° (C= 0.50. CHC
l、)元素分析値 (測定値)C52,0085,08
N14.OI S10.4(計算値)C52,1685
,05N14.04510.71実施例6 光学分割 反応容器に200■の(±)−スレオ−2−(24−ジ
フルオロフェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2,
4−)リアゾール−1−イル〉ブタン−2−オール、2
20■の3−ブロモ−d−8−カンファースルホン酸・
1水和物および2−のキシレン(混合物、137.5〜
141.5℃留分)を加え、加熱を行い、還流下結晶を
溶解せしめた。反応液を50℃まで冷却し、純度の高い
種晶を接種したのち2時間撹拌し、結晶を析出させた。
析出晶を濾取し、キシレン2dで洗浄したのち減圧下乾
燥して187■の(−)−スレオ−2−(2,4−ジフ
ルオロフェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2,4
−)リアゾール−1−イル)ブタン−2−オールの3−
ブロモ−d−8−カンファースルホン酸塩を得た。
燥して187■の(−)−スレオ−2−(2,4−ジフ
ルオロフェニル)−3−メチルチオ−1−(1,2,4
−)リアゾール−1−イル)ブタン−2−オールの3−
ブロモ−d−8−カンファースルホン酸塩を得た。
光学純度 88.6%e、e、(HPLC分析値)融
点 160〜165℃ (分 解)〔α)
!’ 7.1@(C= 0.50. CHCIa
)実施例7 光学分割 溶媒としてベンゼンを用い、結晶の濾取を室温で行った
以外は実施例6と全く同様の操作を行い144■の(−
)−スレオ−2−(2,4−ジフルオロフェニル)−3
−メチルチオ−1−(1,24−トリアゾール−1−イ
ル)ブタン−2−オールの3−ブロモ−d−8−カンフ
ァースルホン酸塩を得た。
点 160〜165℃ (分 解)〔α)
!’ 7.1@(C= 0.50. CHCIa
)実施例7 光学分割 溶媒としてベンゼンを用い、結晶の濾取を室温で行った
以外は実施例6と全く同様の操作を行い144■の(−
)−スレオ−2−(2,4−ジフルオロフェニル)−3
−メチルチオ−1−(1,24−トリアゾール−1−イ
ル)ブタン−2−オールの3−ブロモ−d−8−カンフ
ァースルホン酸塩を得た。
光学純度 94.7%e、e、(flPLc分析値)
融 点 164〜167℃ (分 解)〔α
〕±5−15.6° (C= 0.50. C
lICl3>以 上
融 点 164〜167℃ (分 解)〔α
〕±5−15.6° (C= 0.50. C
lICl3>以 上
Claims (4)
- (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中RおよびR′はアルキル基を意味し、X^1、X
^2、X^3は水素原子又はハロゲン原子を意味する。 ) で表わされるスルフィド誘導体のd体とl体の混合物に
、光学活性な3−置換または無置換のカンファースルホ
ン酸を作用させ、生じる2種のジアステレオマー塩を溶
解度差を利用して、分離し、得られる塩を分解し光学活
性なスルフィド誘導体を得ることを特徴とするスルフィ
ド誘導体の光学分割方法。 - (2)一般式( I )で示されるスルフィド誘導体が(
±)−スレオ−2−(2,4−ジフルオロフェニル)−
3−メチルチオ−1−(1,2,4−トリアゾール−1
−イル)ブタン−2−オ−ルである請求項1に記載の方
法。 - (3)一般式( I )で表されるスルフィド誘導体の光
学活性体と光学活性な3−置換または無置換のカンファ
ースルホン酸との塩。 - (4)(−)−スレオ−2−(2,4−ジフルオロフェ
ニル)−3−メチルチオ−1−(1,2,4−トリアゾ
ール−1−イル)ブタン−2−オールとD−10−カン
ファースルホン酸または3−ブロモ−d−8−カンファ
ースルホン酸との塩。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34473689A JPH03200773A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 光学活性スルフィド誘導体の取得方法 |
CA 2019832 CA2019832A1 (en) | 1989-06-28 | 1990-06-26 | Optical resolution of sulfone derivatives |
EP19900112255 EP0405502A2 (en) | 1989-06-28 | 1990-06-27 | Optical resolution of sulfone derivatives |
AU57873/90A AU5787390A (en) | 1989-06-28 | 1990-06-27 | Optical resolution of sulfone derivatives |
KR1019900009664A KR910000669A (ko) | 1989-06-28 | 1990-06-28 | 술폰 유도체의 광학 분리 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34473689A JPH03200773A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 光学活性スルフィド誘導体の取得方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03200773A true JPH03200773A (ja) | 1991-09-02 |
Family
ID=18371579
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34473689A Pending JPH03200773A (ja) | 1989-06-28 | 1989-12-27 | 光学活性スルフィド誘導体の取得方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03200773A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995034542A1 (fr) * | 1994-06-10 | 1995-12-21 | Tokyo Tanabe Company Limited | Compose de triazole et agent antifongique contenant ledit compose en tant qu'ingredient actif |
-
1989
- 1989-12-27 JP JP34473689A patent/JPH03200773A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995034542A1 (fr) * | 1994-06-10 | 1995-12-21 | Tokyo Tanabe Company Limited | Compose de triazole et agent antifongique contenant ledit compose en tant qu'ingredient actif |
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