JPH03199351A - 応力緩和特性および曲げ加工性の良好な電子機器用高強度高導電銅合金の製造方法 - Google Patents
応力緩和特性および曲げ加工性の良好な電子機器用高強度高導電銅合金の製造方法Info
- Publication number
- JPH03199351A JPH03199351A JP33658689A JP33658689A JPH03199351A JP H03199351 A JPH03199351 A JP H03199351A JP 33658689 A JP33658689 A JP 33658689A JP 33658689 A JP33658689 A JP 33658689A JP H03199351 A JPH03199351 A JP H03199351A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper alloy
- temperature
- cold rolling
- treatment
- stress relaxation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 claims abstract description 19
- 230000035882 stress Effects 0.000 claims abstract description 17
- 230000032683 aging Effects 0.000 claims abstract description 16
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 39
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 claims description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 10
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 10
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 10
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 5
- 238000005482 strain hardening Methods 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 4
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910011212 Ti—Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003483 aging Methods 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000851 Alloy steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000238413 Octopus Species 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- MOFOBJHOKRNACT-UHFFFAOYSA-N nickel silver Chemical compound [Ni].[Ag] MOFOBJHOKRNACT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010956 nickel silver Substances 0.000 description 1
- VIKNJXKGJWUCNN-XGXHKTLJSA-N norethisterone Chemical compound O=C1CC[C@@H]2[C@H]3CC[C@](C)([C@](CC4)(O)C#C)[C@@H]4[C@@H]3CCC2=C1 VIKNJXKGJWUCNN-XGXHKTLJSA-N 0.000 description 1
- BSPSZRDIBCCYNN-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynetin Chemical compound [Sn]#P BSPSZRDIBCCYNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Conductive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明の製造方法は、端子、コネクター リレー リー
ドフレーム等の電子部品を始めとする良好な曲げ加工性
が要求され、場合によっては高いばね性が要求されるあ
らゆる分野の製品の製造に利用可能である。 ［従来の技術］ 従来、強度が要求される電子部品には、黄銅、洋白、り
ん青銅、ベリリウム鋼等の銅合金や、ステンレス等の鉄
合金が用いられている。これらの電子部品用の材料の中
で、りん青銅は強度も高く、曲げ加工性、耐食性、耐応
力腐食割れ性も良好であり広く利用されている。 ところで、近年、部品の小型化が各方面で急速に進んで
いる。部品を小型化する場合、材料も薄いものになるこ
とから、材料は高強度でなければならない。又、部品の
熱容量が小さくなることから、通電時の発生熱が小さく
、熱放散性に優れることも必要になるので、材料は高導
電でなければならない。更に、材料の曲げ部の曲げ半径
も小さくなるため、材料は曲げ加工性に優れていなけれ
ばならない。 ところが、りん青銅の強化機構は、Ｃｕ中へのＳｎの固
溶強化と冷間加工（圧延）による加工硬化の組合せによ
るものであり、高強度で高導電のりん青銅を得ようとす
ると、Ｓｎ濃度を低くし、かつ、冷間圧延の加工度を高
くしなければならず、そのため曲げ加工性が悪くなる。 特に曲げ軸が圧延方向に対し平行方向の曲げ加工性が悪
くなる。又、Ｓｎ濃度の低いりん青銅の加工硬化による
強度の向上もおのずと限界がある。又、５ｎｆｉ度の高
いりん青銅は高強度であり、曲げ加工性も極めて良好で
あるが、導電率が低く、地金コストも高い。 これに対して、本発明の製造方法で対象とするＣｕ−Ｃ
ｒ−Ｔｉ−Ｆｅ系合金は、高強度高導電で応力緩和特性
にも優れることから、第３元素の添加等により特性の改
善が図られ、新合金が開発されてきた。ところろがこの
銅合金は他の分散強化型銅合金と同様曲げ加工性が著し
く悪く、ごく限られた用途にしか、つまり厳しい曲げ加
工の不要な部位にしか用いることができない。 ［発明が解決しようとする課題］ 上述のように、部品の小型化に伴い、材料は高強度高導
電であり、曲げ加工性も良好であることが要求されるよ
うになってきているが、元来、高強度で高導電であるＣ
ｕ−Ｃｒ−Ｔｌ−Ｆｅ系合金の曲げ加工性の改善が各方
面から待ち望まれている。 ［課題を解決するための手段］ 本発明はこのような点に鑑み、曲げ加工性に優れた高強
度高導電銅合金の製造方法を提供するものである。 すなわち、本発明は、Ｃｒ ０．０５〜１．０ｗｔ％、
・Ｔ ｌ ０．０２〜０．６ ｖｔ％、Ｆ ｅ ０．０
５〜１．５ ｖｔ％を含み、あるいは更に副成分として
、Ａ Ｉ ＳＢ ｅ ｓＣｏ％Ｈｆ、Ｉ ｎＳＭｇＳＭ
ｎ、Ｎｉ、Ｐ。 Ｓｎ、Ｚｎ、Ｚｒからなる群より選択された１種又は２
種以上を総量で０．０１〜２．０ｗｔ％含み、残部Ｃｕ
及び不可避不純物からなる銅合金の製造において、 （１）結晶粒度をｌ〜２０μｍに調整する、７００’Ｃ
以上の温度での最終の溶体化処理 （１）加工度８０％未満の最終の冷間圧延（１） ３
００〜７００℃の温度での時効処理からなる工程、ある
いは （１）結晶粒度を１〜２０μｍに調整する、７００”Ｃ
以上の温度での最終の溶体化処理 （１） ｆｉ終溶体化処理直後の加工度Ｘ％（ＯＳ Ｘ
＜８０）の冷間圧延 （ｍ） ８００〜７００℃の温度での時効処理（ＩＶ
）加工度Ｙ％（０（ＩＩＩ）−（１−Ｘ／１００）（１
−Ｙ／１００）） Ｘｌ ００＜ ８０）の最終の冷間
圧延ｍ １５０〜８００℃の温度で再結晶しない時間
の熱処理からなる工程を、番号順に順次行うことを特徴
とする方法である。 ［本発明の詳細な説明］ 次に本発明の各成分及び製造条件の限定理由を述べる。 Ｃｒは時効処理を行うことにより、母材中に金属Ｃｒを
析出させ強度及び耐熱性を向上させるために添加するも
ので、その含有量を０．０５〜１．０ ｖｔ％とするの
は、０．０５ｗｔ％未満では前述の効果が期待できず、
逆に１．０ｗｔ％を超えると、溶体化処理後においても
未溶解Ｃｒが母材中に残留し、著しい導電率及び加工性
の低下が起るためである。 Ｔｉは時効処理を行うことにより母材中に、Ｆｅと金属
間化合物を形成し、強度、耐熱性、導電性の向上が図れ
るためで、特に導電性はＴｉ−Ｆｅの金属間化合物を形
成させることでＴｉ単独添加に比べ、著しい改善が見ら
れる。 Ｔｉの含有量を０．０２〜０．６ ｖｔ％とするのは、
０．０２ｖｔ％未満では前述の効果が期待できず、逆に
０．８ｖｔ％を超えると、Ｃｒと同様、溶体化処理後に
おいても未溶解Ｔｉが母材中に残留し、著しい導電性及
び加工性の低下が起るためである。 ＦｅはＴｉと金属間化合物を形成させることにより、強
度及び導電性の向上が図れるため添加するもので、その
含有量を０．０５〜１．５ ｖｔ％とするのは、０．０
５ｗｔ％未満では前述の効果が期待できず、逆に１．５
ｗｔ％を超えると導電性、半田付は性が劣化するためで
ある。好ま（くはＴｉ／ Ｆ ｅ比を０．４〜０．５程
度にすることが推奨される。又、副成分としてＡ １
ｓ Ｂ ｅ ｓ Ｃｏ ｓＩｆ、Ｉｎ、ＭｇＳＭｎ、Ｎ
ｉ、Ｐ、Ｓｎ。 ＺｎＳＺｒからなる群より選択された１種又は２種以上
を総量で、０．０１〜２．ＯｖＬ％添加させるのは導電
性を大きく低下させずに強度を向上させる効果が期待で
きるためで、添加量が総量で、０．０１ｗｔ％未満では
前述の効果が期待できず、逆に２．０ｗｔ％を超えると
、著しい導電性、加工性の劣化が起るためである。 次に、溶体化処理を行うのは、後の時効処理で高強度高
導電の材料を得るためである。処理温度を７００℃以上
とするのは、７００℃未満ではＣｒ、Ｆｅ、Ｔｉの組成
によっては、Ｃｒ５ＦｅｓＴｉが未固溶となり、時効硬
化型銅合金の特徴である高強度が得られないためである
。 又、結晶粒度を１〜２０μｍとするのは、結晶粒度は応
力緩和特性および曲げ加工性に大きく影響を及ぼすため
である。結晶粒度が１μｍ未満では、応力緩和特性が悪
くなり、これを板ばねとして用いた場合、ばね圧の低下
が早期に生じる。又、２０μｍを超えると曲げ加工の際
、粒界に沿っての肌あれが生じやすくなり、曲げ半径が
小さい場合は割れることもある。 溶体化処理後に１回又は２回の冷間圧延を行うのは、加
工硬化により強度を得るためである。 冷間圧延の加工度を８０％未満とするのは、８０％以上
では圧延による集合組織の発達が顕著に生じ、異方性が
大きくなり、圧延方向と平行方向の曲げ軸での曲げ加工
性が劣化するためである。 なお、本発明の製造方法において、結晶粒度及び冷間圧
延加工度の規定は、良好な曲げ加工性を得るために極め
て重要であり、その両方が共に規定した条件を満たさな
い限り、良好な曲げ性を有する材料は得られない。 時効処理は、強度、導電性を向上させるために必要であ
るが、時効処理温度を３００〜７００℃とする理由は、
３００℃未満では時効処理に時間がかかり、経済的では
なく、７００℃を超えると、Ｃｒ５Ｆｅ、Ｔｉの組成に
よっては、Ｃｒ。 Ｆｅ、Ｔｉが固溶してしまい、時効硬化型の合金の特徴
である強度及び導電性が得られないためである。実操業
的には４２０〜４８０℃での時効処理が推奨される。 １５０〜８００℃の温度で再結晶させないで熱処理を行
う理由は、冷間加工後に再結晶させない熱処理を行うこ
とにより、ばね特性、曲げ加工性を更に向上させるため
であり、１５０℃未満では熱処理時間が極めて長くなり
、経済的でなく、８００℃を超えると、熱処理時間が短
くなり、特性の制御が困難になるためである。又、この
熱処理を３５０〜７００℃の温度で行えば、材料は時効
され、更に高い導電性が得られる。 なお、本発明の製造条件の規定は、最終の溶体化処理以
降の工程に関してのものであり、それ以前の工程、製造
条件は任意のものでかまわない。すなわち、最終の溶体
化処理以前に行う溶体化処理、熱間圧延、中間焼鈍、冷
間圧延といった工程について、本発明方法は何ら規定し
ない。
ドフレーム等の電子部品を始めとする良好な曲げ加工性
が要求され、場合によっては高いばね性が要求されるあ
らゆる分野の製品の製造に利用可能である。 ［従来の技術］ 従来、強度が要求される電子部品には、黄銅、洋白、り
ん青銅、ベリリウム鋼等の銅合金や、ステンレス等の鉄
合金が用いられている。これらの電子部品用の材料の中
で、りん青銅は強度も高く、曲げ加工性、耐食性、耐応
力腐食割れ性も良好であり広く利用されている。 ところで、近年、部品の小型化が各方面で急速に進んで
いる。部品を小型化する場合、材料も薄いものになるこ
とから、材料は高強度でなければならない。又、部品の
熱容量が小さくなることから、通電時の発生熱が小さく
、熱放散性に優れることも必要になるので、材料は高導
電でなければならない。更に、材料の曲げ部の曲げ半径
も小さくなるため、材料は曲げ加工性に優れていなけれ
ばならない。 ところが、りん青銅の強化機構は、Ｃｕ中へのＳｎの固
溶強化と冷間加工（圧延）による加工硬化の組合せによ
るものであり、高強度で高導電のりん青銅を得ようとす
ると、Ｓｎ濃度を低くし、かつ、冷間圧延の加工度を高
くしなければならず、そのため曲げ加工性が悪くなる。 特に曲げ軸が圧延方向に対し平行方向の曲げ加工性が悪
くなる。又、Ｓｎ濃度の低いりん青銅の加工硬化による
強度の向上もおのずと限界がある。又、５ｎｆｉ度の高
いりん青銅は高強度であり、曲げ加工性も極めて良好で
あるが、導電率が低く、地金コストも高い。 これに対して、本発明の製造方法で対象とするＣｕ−Ｃ
ｒ−Ｔｉ−Ｆｅ系合金は、高強度高導電で応力緩和特性
にも優れることから、第３元素の添加等により特性の改
善が図られ、新合金が開発されてきた。ところろがこの
銅合金は他の分散強化型銅合金と同様曲げ加工性が著し
く悪く、ごく限られた用途にしか、つまり厳しい曲げ加
工の不要な部位にしか用いることができない。 ［発明が解決しようとする課題］ 上述のように、部品の小型化に伴い、材料は高強度高導
電であり、曲げ加工性も良好であることが要求されるよ
うになってきているが、元来、高強度で高導電であるＣ
ｕ−Ｃｒ−Ｔｌ−Ｆｅ系合金の曲げ加工性の改善が各方
面から待ち望まれている。 ［課題を解決するための手段］ 本発明はこのような点に鑑み、曲げ加工性に優れた高強
度高導電銅合金の製造方法を提供するものである。 すなわち、本発明は、Ｃｒ ０．０５〜１．０ｗｔ％、
・Ｔ ｌ ０．０２〜０．６ ｖｔ％、Ｆ ｅ ０．０
５〜１．５ ｖｔ％を含み、あるいは更に副成分として
、Ａ Ｉ ＳＢ ｅ ｓＣｏ％Ｈｆ、Ｉ ｎＳＭｇＳＭ
ｎ、Ｎｉ、Ｐ。 Ｓｎ、Ｚｎ、Ｚｒからなる群より選択された１種又は２
種以上を総量で０．０１〜２．０ｗｔ％含み、残部Ｃｕ
及び不可避不純物からなる銅合金の製造において、 （１）結晶粒度をｌ〜２０μｍに調整する、７００’Ｃ
以上の温度での最終の溶体化処理 （１）加工度８０％未満の最終の冷間圧延（１） ３
００〜７００℃の温度での時効処理からなる工程、ある
いは （１）結晶粒度を１〜２０μｍに調整する、７００”Ｃ
以上の温度での最終の溶体化処理 （１） ｆｉ終溶体化処理直後の加工度Ｘ％（ＯＳ Ｘ
＜８０）の冷間圧延 （ｍ） ８００〜７００℃の温度での時効処理（ＩＶ
）加工度Ｙ％（０（ＩＩＩ）−（１−Ｘ／１００）（１
−Ｙ／１００）） Ｘｌ ００＜ ８０）の最終の冷間
圧延ｍ １５０〜８００℃の温度で再結晶しない時間
の熱処理からなる工程を、番号順に順次行うことを特徴
とする方法である。 ［本発明の詳細な説明］ 次に本発明の各成分及び製造条件の限定理由を述べる。 Ｃｒは時効処理を行うことにより、母材中に金属Ｃｒを
析出させ強度及び耐熱性を向上させるために添加するも
ので、その含有量を０．０５〜１．０ ｖｔ％とするの
は、０．０５ｗｔ％未満では前述の効果が期待できず、
逆に１．０ｗｔ％を超えると、溶体化処理後においても
未溶解Ｃｒが母材中に残留し、著しい導電率及び加工性
の低下が起るためである。 Ｔｉは時効処理を行うことにより母材中に、Ｆｅと金属
間化合物を形成し、強度、耐熱性、導電性の向上が図れ
るためで、特に導電性はＴｉ−Ｆｅの金属間化合物を形
成させることでＴｉ単独添加に比べ、著しい改善が見ら
れる。 Ｔｉの含有量を０．０２〜０．６ ｖｔ％とするのは、
０．０２ｖｔ％未満では前述の効果が期待できず、逆に
０．８ｖｔ％を超えると、Ｃｒと同様、溶体化処理後に
おいても未溶解Ｔｉが母材中に残留し、著しい導電性及
び加工性の低下が起るためである。 ＦｅはＴｉと金属間化合物を形成させることにより、強
度及び導電性の向上が図れるため添加するもので、その
含有量を０．０５〜１．５ ｖｔ％とするのは、０．０
５ｗｔ％未満では前述の効果が期待できず、逆に１．５
ｗｔ％を超えると導電性、半田付は性が劣化するためで
ある。好ま（くはＴｉ／ Ｆ ｅ比を０．４〜０．５程
度にすることが推奨される。又、副成分としてＡ １
ｓ Ｂ ｅ ｓ Ｃｏ ｓＩｆ、Ｉｎ、ＭｇＳＭｎ、Ｎ
ｉ、Ｐ、Ｓｎ。 ＺｎＳＺｒからなる群より選択された１種又は２種以上
を総量で、０．０１〜２．ＯｖＬ％添加させるのは導電
性を大きく低下させずに強度を向上させる効果が期待で
きるためで、添加量が総量で、０．０１ｗｔ％未満では
前述の効果が期待できず、逆に２．０ｗｔ％を超えると
、著しい導電性、加工性の劣化が起るためである。 次に、溶体化処理を行うのは、後の時効処理で高強度高
導電の材料を得るためである。処理温度を７００℃以上
とするのは、７００℃未満ではＣｒ、Ｆｅ、Ｔｉの組成
によっては、Ｃｒ５ＦｅｓＴｉが未固溶となり、時効硬
化型銅合金の特徴である高強度が得られないためである
。 又、結晶粒度を１〜２０μｍとするのは、結晶粒度は応
力緩和特性および曲げ加工性に大きく影響を及ぼすため
である。結晶粒度が１μｍ未満では、応力緩和特性が悪
くなり、これを板ばねとして用いた場合、ばね圧の低下
が早期に生じる。又、２０μｍを超えると曲げ加工の際
、粒界に沿っての肌あれが生じやすくなり、曲げ半径が
小さい場合は割れることもある。 溶体化処理後に１回又は２回の冷間圧延を行うのは、加
工硬化により強度を得るためである。 冷間圧延の加工度を８０％未満とするのは、８０％以上
では圧延による集合組織の発達が顕著に生じ、異方性が
大きくなり、圧延方向と平行方向の曲げ軸での曲げ加工
性が劣化するためである。 なお、本発明の製造方法において、結晶粒度及び冷間圧
延加工度の規定は、良好な曲げ加工性を得るために極め
て重要であり、その両方が共に規定した条件を満たさな
い限り、良好な曲げ性を有する材料は得られない。 時効処理は、強度、導電性を向上させるために必要であ
るが、時効処理温度を３００〜７００℃とする理由は、
３００℃未満では時効処理に時間がかかり、経済的では
なく、７００℃を超えると、Ｃｒ５Ｆｅ、Ｔｉの組成に
よっては、Ｃｒ。 Ｆｅ、Ｔｉが固溶してしまい、時効硬化型の合金の特徴
である強度及び導電性が得られないためである。実操業
的には４２０〜４８０℃での時効処理が推奨される。 １５０〜８００℃の温度で再結晶させないで熱処理を行
う理由は、冷間加工後に再結晶させない熱処理を行うこ
とにより、ばね特性、曲げ加工性を更に向上させるため
であり、１５０℃未満では熱処理時間が極めて長くなり
、経済的でなく、８００℃を超えると、熱処理時間が短
くなり、特性の制御が困難になるためである。又、この
熱処理を３５０〜７００℃の温度で行えば、材料は時効
され、更に高い導電性が得られる。 なお、本発明の製造条件の規定は、最終の溶体化処理以
降の工程に関してのものであり、それ以前の工程、製造
条件は任意のものでかまわない。すなわち、最終の溶体
化処理以前に行う溶体化処理、熱間圧延、中間焼鈍、冷
間圧延といった工程について、本発明方法は何ら規定し
ない。
本発明を実施例をもって具体的に説明する。
第１表に示した成分の銅合金に、表中の結晶粒度に調整
する最終の溶体化処理、最終溶体化処理後の冷間圧延、
時効処理、最終の冷間圧延、再結晶しない条件での焼鈍
を順次行い、０．２０ｍ５の板とした。最終の溶体化処
理後の２回の冷間圧延の加工度は第１表に示すものとし
た。 これらの例について引張強さ、伸び、ばね限界値、導電
率、曲げ加工性、耐食性、耐応力腐食割れ性（以下耐Ｓ
ＣＣ性と称す）、はんだ付は性、はんだ耐熱剥離性、応
力緩和特性を調査した。引張強さ、伸びはＪＩＳ ５
号引張試験片を用い測定した。ばね限界値は１０■■幅
で１００■長さの短所に加工し測定した。導電率は１０
ｍｍ幅で１００ｍｍ長さの短所に加工し、４端子法によ
り測定した。耐食性はＪ Ｉ Ｓ Ｈ８５０２に準じ
、試料表面を６１２００工メリー紙にて研摩後、４０℃
、９０％ＲＨにおいて２ｓｐｖｗ Ｓ Ｏ２雰囲気に１
４日間暴露し、暴露前後の重量変化を測定した。この単
位は腐食減量を示す（ａｄｄ ： ｍｇ／ ｄｓ ２／
ｄａｙ）。 耐ＳＣＣ性は１２．５ｍｍ幅で１５０ｍｍ長さの履用試
験片に加工し、第１図に示すようにこの短ｆｊｔ１をル
ープ状にタコ糸２で縛り、２倍に純水で希釈したアンモ
ニア水３１を含む２０交デシケータ内に暴露し、割れが
発生するまでの日数を調査した。はんだ付は性は試料表
面を＃ １２００工メリー紙にて研摩した後、１０ｇｖ
幅で５０ｍ５の長さに加工し、沸騰蒸気に１時間暴露後
ロジン系フラックスを用い、２３０℃のＳＯ８ｎ ／
４０Ｐ ｂはんだに５秒間浸漬し、外観を観察し、９５
％以上の面積がはんだにより被覆されている場合を良好
とした。はんだめっき耐熱剥離性は試料表面を＃１２０
０１２００工メリー摩後、ＢＯＳｎ／４０Ｐｂはんだを
電気めっきし、１５０℃にて加熱し、１００時間毎に取
り出し、板厚（０，２０ｔｓ）の内側曲げ半径で、９０
°曲げを往復１回行い１、曲げ部のはんだめっきの剥離
の有無を調べた。又、曲げ加工性は、１ａｓｓ幅に試料
を加工した後、ＪＩＳ２ ２２４ｇに準じ １８０＠曲
げ試験を行い、曲げ部の外観を観察した。曲げ軸は圧延
方向に平行方向（Ｂａｄ ｗａｙ）とし、内側曲げ半径
は密着（０，０■）と同一とした。曲げ加工性の判定は
外観により、良好、肌荒れ、割れ発生と３段階とした。 応力緩和特性は、１５０℃、大気中で０．２％耐力の８
０％の曲げ応力を負荷し、１０００時間後の応力緩和率
を測定した。 第１表から、本発明例は、高強度高導電で、曲げ加工性
も良好で、他の特性も良好であることが判る。 比較例であるＮｏ、１２はＣｒ ｓ Ｎ ｏ、 １３は
Ｔｉがそれぞれ十分な添加量でないため強度、ばね特性
が本発明合金に比べ劣っている。 比較例Ｎ ｏ、１４はＣｒの添加量が１．０ｗ１％を超
えているため、導電性が本発明合金に比べて劣る。 比較例Ｎ ｏ、１５は冷間圧延の加工度が高く、１８０
＠密着曲げ試験において割れが生じる。比較例Ｎｏ、１
６は、結晶粒度が大きく、１８０’密着曲げ試験におい
て割れが生じる。比較例Ｎｏ、１７は結晶粒が微細すぎ
るため応力緩和特性が劣る。 比較例Ｎｏ、１５．１８．１７はいずれも製造条件が不
適当であるため、本発明例に比べて応力緩和特性や曲げ
加工性が劣化した例である。比較例Ｎｏ。 １８．１９はＪＩＳ規格のりん青銅（りん青銅２種Ｃ５
１９１Ｒ−Ｈ及びばね用りん青銅Ｃ５２１０Ｒ−Ｈ）で
あるが、高強度で曲げ加工性も良好であるものの、本発
明例に比べて導電率が低い。比較例Ｎ ｏ、２０は、低
すずりん青銅のＥＨ材であり、強度は本発明例並に高強
度であるが、曲げ加工性は本発明例より劣る。 一方、本発明例は、比較例と同等もしくはそれらを上回
る強度を有しており、又、ＪＩＳ規格のりん青銅よりも
高導電ではんだめっき耐熱剥離性が優れており、他の緒
特性も良好である。 ［発明の効果］ 本発明により、応力緩和特性および曲げ加工性の良好な
電子機器用高強度高導電銅合金を得ることが可能となり
、電子部品の小型化、材料の薄肉化に対応することがで
きる。
する最終の溶体化処理、最終溶体化処理後の冷間圧延、
時効処理、最終の冷間圧延、再結晶しない条件での焼鈍
を順次行い、０．２０ｍ５の板とした。最終の溶体化処
理後の２回の冷間圧延の加工度は第１表に示すものとし
た。 これらの例について引張強さ、伸び、ばね限界値、導電
率、曲げ加工性、耐食性、耐応力腐食割れ性（以下耐Ｓ
ＣＣ性と称す）、はんだ付は性、はんだ耐熱剥離性、応
力緩和特性を調査した。引張強さ、伸びはＪＩＳ ５
号引張試験片を用い測定した。ばね限界値は１０■■幅
で１００■長さの短所に加工し測定した。導電率は１０
ｍｍ幅で１００ｍｍ長さの短所に加工し、４端子法によ
り測定した。耐食性はＪ Ｉ Ｓ Ｈ８５０２に準じ
、試料表面を６１２００工メリー紙にて研摩後、４０℃
、９０％ＲＨにおいて２ｓｐｖｗ Ｓ Ｏ２雰囲気に１
４日間暴露し、暴露前後の重量変化を測定した。この単
位は腐食減量を示す（ａｄｄ ： ｍｇ／ ｄｓ ２／
ｄａｙ）。 耐ＳＣＣ性は１２．５ｍｍ幅で１５０ｍｍ長さの履用試
験片に加工し、第１図に示すようにこの短ｆｊｔ１をル
ープ状にタコ糸２で縛り、２倍に純水で希釈したアンモ
ニア水３１を含む２０交デシケータ内に暴露し、割れが
発生するまでの日数を調査した。はんだ付は性は試料表
面を＃ １２００工メリー紙にて研摩した後、１０ｇｖ
幅で５０ｍ５の長さに加工し、沸騰蒸気に１時間暴露後
ロジン系フラックスを用い、２３０℃のＳＯ８ｎ ／
４０Ｐ ｂはんだに５秒間浸漬し、外観を観察し、９５
％以上の面積がはんだにより被覆されている場合を良好
とした。はんだめっき耐熱剥離性は試料表面を＃１２０
０１２００工メリー摩後、ＢＯＳｎ／４０Ｐｂはんだを
電気めっきし、１５０℃にて加熱し、１００時間毎に取
り出し、板厚（０，２０ｔｓ）の内側曲げ半径で、９０
°曲げを往復１回行い１、曲げ部のはんだめっきの剥離
の有無を調べた。又、曲げ加工性は、１ａｓｓ幅に試料
を加工した後、ＪＩＳ２ ２２４ｇに準じ １８０＠曲
げ試験を行い、曲げ部の外観を観察した。曲げ軸は圧延
方向に平行方向（Ｂａｄ ｗａｙ）とし、内側曲げ半径
は密着（０，０■）と同一とした。曲げ加工性の判定は
外観により、良好、肌荒れ、割れ発生と３段階とした。 応力緩和特性は、１５０℃、大気中で０．２％耐力の８
０％の曲げ応力を負荷し、１０００時間後の応力緩和率
を測定した。 第１表から、本発明例は、高強度高導電で、曲げ加工性
も良好で、他の特性も良好であることが判る。 比較例であるＮｏ、１２はＣｒ ｓ Ｎ ｏ、 １３は
Ｔｉがそれぞれ十分な添加量でないため強度、ばね特性
が本発明合金に比べ劣っている。 比較例Ｎ ｏ、１４はＣｒの添加量が１．０ｗ１％を超
えているため、導電性が本発明合金に比べて劣る。 比較例Ｎ ｏ、１５は冷間圧延の加工度が高く、１８０
＠密着曲げ試験において割れが生じる。比較例Ｎｏ、１
６は、結晶粒度が大きく、１８０’密着曲げ試験におい
て割れが生じる。比較例Ｎｏ、１７は結晶粒が微細すぎ
るため応力緩和特性が劣る。 比較例Ｎｏ、１５．１８．１７はいずれも製造条件が不
適当であるため、本発明例に比べて応力緩和特性や曲げ
加工性が劣化した例である。比較例Ｎｏ。 １８．１９はＪＩＳ規格のりん青銅（りん青銅２種Ｃ５
１９１Ｒ−Ｈ及びばね用りん青銅Ｃ５２１０Ｒ−Ｈ）で
あるが、高強度で曲げ加工性も良好であるものの、本発
明例に比べて導電率が低い。比較例Ｎ ｏ、２０は、低
すずりん青銅のＥＨ材であり、強度は本発明例並に高強
度であるが、曲げ加工性は本発明例より劣る。 一方、本発明例は、比較例と同等もしくはそれらを上回
る強度を有しており、又、ＪＩＳ規格のりん青銅よりも
高導電ではんだめっき耐熱剥離性が優れており、他の緒
特性も良好である。 ［発明の効果］ 本発明により、応力緩和特性および曲げ加工性の良好な
電子機器用高強度高導電銅合金を得ることが可能となり
、電子部品の小型化、材料の薄肉化に対応することがで
きる。
第１図は耐ＳＣＣ性試験片の斜視図を示す。
ｌ・・・短所、２・・・タコ糸。
Claims (4)
- （１）Ｃｒ０．０５〜１．０ｗｔ％、Ｔｉ０．０２〜０
．６ｗｔ％、Ｆｅ０．０５〜１．５ｗｔ％を含み、残部
Ｃｕ及び不可避不純物からなる銅合金の製造において、
（ I ）結晶粒度を１〜２０μｍに調整する、７００℃
以上の温度での最終の溶体化処理 （II）加工度８０％未満の最終の冷間圧延 （III）３００〜７００℃の温度での時効処理からなる
工程を番号順に順次行うことを特徴とする応力緩和特性
および曲げ加工性の良好な電子機器用高強度高導電銅合
金の製造方法。 - （２）Ｃｒ０．０５〜１．０ｗｔ％、Ｔｉ０．０２〜０
．６ｗｔ％、Ｆｅ０．０５〜１．５ｗｔ％を含み、残部
Ｃｕ及び不可避不純物からなる銅合金の製造において、
（ I ）結晶粒度を１〜２０μｍに調整する、７００℃
以上の温度での最終の溶体化処理 （II）最終溶体化処理直後の加工度ｘ％（０≦ｘ＜８０
）の冷間圧延 （III）３００〜７００℃の温度での時効処理（IV）加
工度Ｙ％（０＜｛１−（１−Ｘ／１００）（１−Ｙ／１
００）｝×１００＜４０）の最終の冷間圧延 （Ｖ）１５０〜８００℃の温度で再結晶しない時間の熱
処理 からなる工程を番号順に順次行うことを特徴とする応力
緩和特性および曲げ加工性の良好な電子機器用高強度高
導電銅合金の製造方法。 - （３）Ｃｒ０．０５〜１．０ｗｔ％、Ｔｉ０．０２〜０
．６ｗｔ％、Ｆｅ０．０５〜１．５ｗｔ％、更に副成分
としてＡｌ、Ｂｅ、Ｃｏ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｎ
ｉ、Ｐ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｚｒからなる群より選択された１
種又は２種以上を総量で０．０１〜２．０ｗｔ％含み、
残部Ｃｕ及び不可避不純物からなる銅合金の製造におい
て、 （ I ）結晶粒度を１〜２０μｍに調整する、７００℃
以上の温度での最終の溶体化処理 （II）加工度８０％未満の最終の冷間圧延 （III）３００〜７００℃の温度での時効処理からなる
工程を番号順に順次行うことを特徴とする応力緩和特性
および曲げ加工性の良好な電子機器用高強度高導電銅合
金の製造方法。 - （４）Ｃｒ０．０５〜１．０ｗｔ％、Ｔｉ０．０２〜０
．６ｗｔ％、Ｆｅ０．０５〜１．５ｗｔ％、更に副成分
としてＡｌ、Ｂｅ、Ｃｏ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｎ
ｉ、Ｐ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｚｒにからなる群より選択された
１種又は２種以上を０．０１〜２．０ｗｔ％含み、残部
Ｃｕ及び不可避不純物からなる銅合金の製造において （ I ）結晶粒度を１〜２０μｍに調整する、７００℃
以上の温度での最終の溶体化処理 （II）最終溶体化処理直後の加工度ｘ％（０≦ｘ＜８０
）の冷間圧延 （III）３００〜７００℃の温度での時効処理（IV）加
工度Ｙ％（０＜｛１−（１−Ｘ／１００）（１−Ｙ／１
００）｝×１００＜８０）の最終の冷間圧延 （Ｖ）１５０〜８００℃の温度で再結晶しない時間の熱
処理からなる工程を番号順に順次行う ことを特徴とする応力緩和特性および曲げ加工性の良好
な電子機器用高強度高導電銅合金の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33658689A JPH03199351A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 応力緩和特性および曲げ加工性の良好な電子機器用高強度高導電銅合金の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33658689A JPH03199351A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 応力緩和特性および曲げ加工性の良好な電子機器用高強度高導電銅合金の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03199351A true JPH03199351A (ja) | 1991-08-30 |
Family
ID=18300683
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33658689A Pending JPH03199351A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 応力緩和特性および曲げ加工性の良好な電子機器用高強度高導電銅合金の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03199351A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100338244C (zh) * | 2003-12-12 | 2007-09-19 | 中国科学院金属研究所 | 一种铜铁铬三元铜基合金 |
| WO2009016706A1 (ja) * | 2007-07-27 | 2009-02-05 | Materials Solution Inc. | Ｃｕ合金材 |
-
1989
- 1989-12-27 JP JP33658689A patent/JPH03199351A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100338244C (zh) * | 2003-12-12 | 2007-09-19 | 中国科学院金属研究所 | 一种铜铁铬三元铜基合金 |
| WO2009016706A1 (ja) * | 2007-07-27 | 2009-02-05 | Materials Solution Inc. | Ｃｕ合金材 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3550233B2 (ja) | 高強度高導電性銅基合金の製造法 | |
| EP1586667A1 (en) | Copper alloy and method of manufacturing the same | |
| KR20040089731A (ko) | 내응력완화특성에 뛰어난 고강도 고도전성 동합금선재 | |
| JP2000328158A (ja) | プレス打抜き性が優れた銅合金板 | |
| JP4439003B2 (ja) | 強度と曲げ加工性に優れたチタン銅合金及びその製造方法 | |
| JPH03162553A (ja) | 曲げ加工性の良好な高強度高導電銅合金の製造方法 | |
| TW201940708A (zh) | 電氣･電子機器用的Pd合金、Pd合金材、探針及其製造方法 | |
| JP2000080428A (ja) | 曲げ加工性が優れた銅合金板 | |
| JPH03188247A (ja) | 曲げ加工性の良好な高強度高導電銅合金の製造方法 | |
| KR100403187B1 (ko) | 표면특성이 우수한 전자 재료용 구리합금 및 그 제조방법 | |
| JP2790238B2 (ja) | 曲げ性および応力緩和特性に優れたチタン銅合金の製造方法 | |
| JP2001032029A (ja) | 耐応力緩和特性に優れた銅合金及びその製造方法 | |
| JP3800269B2 (ja) | スタンピング加工性及び銀めっき性に優れる高力銅合金 | |
| JPH0830235B2 (ja) | 導電性ばね用銅合金 | |
| JPH03199351A (ja) | 応力緩和特性および曲げ加工性の良好な電子機器用高強度高導電銅合金の製造方法 | |
| JPS62182240A (ja) | 導電性高力銅合金 | |
| JP2017179511A (ja) | Ｃｕ−Ｎｉ−Ｓｉ系銅合金条及びその製造方法 | |
| JPS6338543A (ja) | 電子機器用銅合金とその製造法 | |
| JPH0987814A (ja) | 電子機器用銅合金の製造方法 | |
| JPH0499159A (ja) | 応力緩和特性及び曲げ加工性の良好な電子機器用高強度高導電銅合金の製造方法 | |
| JPH02190431A (ja) | 接続機器用銅合金 | |
| JPH03199352A (ja) | 応力緩和特性および曲げ加工性の良好な電子機器用高強度高導電銅合金の製造方法 | |
| JPH02170954A (ja) | 曲げ加工性の良好な銅合金の製造方法 | |
| WO2020014582A1 (en) | Copper-nickel-silicon alloys with high strength and high electrical conductivity | |
| JP2682577B2 (ja) | 端子・コネクター用銅合金の製造方法 |