JPH03195021A

JPH03195021A - 温純水引上方式に於ける乾燥装置

Info

Publication number: JPH03195021A
Application number: JP33593889A
Authority: JP
Inventors: Yoshihide Shibano; 佳英柴野
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1989-12-25
Filing date: 1989-12-25
Publication date: 1991-08-26
Anticipated expiration: 2009-11-16
Also published as: JPH0693449B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は温純水引上方式に於ける乾燥装置に係わり、昇
降治具の保持具と洗浄乾燥対象物との間の水滴を除去す
る手段に特徴を有する温純水引り方式に於ける乾燥装置
に関する。

［徒来の技術］間知の通り、レンズ、光ディスク、液晶パネル、太陽電
池等、その表面が比較的平滑であってシンプルな形状の
洗浄乾燥対象物を洗浄後、その表面を乾燥させるのにＩ
ＰＡの茄気、フロン１１３の電気、またその自熱による
乾燥方法が用いられていた。

ところが、フロンによるオゾン層破壊の為使用禁１Ｆが
言われているのでフロン系の乾燥材を用いることができ
なくなってしまった。

そして、洗浄乾燥対象物を昇降治具に於ける保持具ヒに
セットして温純水に浸漬後、温純水の表面張力を利用し
７て洗浄乾燥対象物を乾燥させる方法が用いられている
。

より詳しく説明すると、第３図に示すように、この場合
上記昇降治具３′に於ける保持具４′は斜面６、底面７
より成る台形状の受溝５が形成されているのみであった
。

［発明が解決しようとする課題］ト記従来技術によれば、保持具４′は洗浄乾燥対象物ｌ
をセットすることができるという利点を有する。

しかし、洗浄乾燥対象物１の表面Ａと保持具４′の接触
部Ｃとの間に水滴Ｂが溜ってしまい、外部への露出面積
が小さく乾燥効率が悪くなる為、容易に乾燥せずにしみ
になってしまい易いという問題点があった。

［目的］従って本発明の目的とする所は、洗浄乾燥対象物を保持
するのは勿論のこと、保持具の接触部に水滴が溜るのを
防上し、洗浄乾燥対象物全体を乾燥し、しみ等を発生さ
せない乾燥手段を提供するにある。

［課題を解決する為の手段〕ト記目的を達成する為に本発明は次の技術的手段を有す
る。

即ち実施例に対応する添付図面中の符号を用いてこれを
説明すると本発明は、レンズ、光ディスク　液晶パネル
、太陽電池等、その表面が比較的平滑であってシンプル
な形状の洗浄乾燥対象物１を洗浄後、これらを乾燥させ
るべく昇降治具３に於ける保持具４　、Ｉ−、にセーノ
トして温純水２に浸漬後、ゆっくりとほぼ垂直に上方へ
引上げ、温純水２の表面張力を利用してこれら洗浄乾燥
対象物ｌを乾燥させる手段に於いて、と記洗浄乾燥対費
物ｌの表面Ａと接触し、それらを保持する昇降治具３に
於ける保持具４の接触部Ｃに、当該接触部Ｃと洗浄乾燥
対象物１の表面Ａとの間の部分に溜る水滴Ｂを除去する
為の水滴除去手段を設けたことを特徴とする温純水引上
方式に於ける乾燥装置である。

［作用］ヒ記構改に基づくと、洗浄乾燥対象物１は昇降治具３に
於ける保持具４−ヒにセットされ、温純水２に浸漬され
る○は勿論、昇降治具３をゆっくりとほぼ垂直に上方へ
引上げることにより、洗浄乾燥対象物１表面の水分は温
純水２となり温純水２中に拡散されるものである。

また、温純水である為、張力が弱くなるものであると共
に、洗浄乾燥対象物１表面が熱くなるものである。

そして、水滴除去手段を設けることにより、洗浄乾燥対
象物１の表面Ａと保持具４の接触部Ｃとの聞の部分に溜
る水滴Ｂが除去されるものである。

し実施例］次の添付図面に従い本発明の好適な実施例を詳述する。

第１図は混純水引−Ｆ方式に於ける乾燥装置の正面図を
示しており、昇降治具３は四角のパイプ状に形成され１
円形である光ディスク１を保持する為に下部は湾曲して
おり、一方が取手となるように垂直に上方に伸びている
。そして、光ディスク１をより確実に保持し、接触面積
をできるだけ小さくする為に三〜所に保持具４が配設さ
れている。

第４図は第１実施例の保持具４１であり、第１図のＹ−
Ｙ’線に沿った断面図を示しており、保持具４１は耐熱
、耐薬品性であるセラミック酸であり、斜面６と底面７
より成る台形状の受溝５が形成されており、光ディスク
ｌの表面Ａとの接触部Ｃの近くの内部にニクロム線で形
成された電気抵抗加熱ヒーター８が埋設されており、昇
降治具３１と接着材等で密着されている。そして、昇降
治具３１の内部には上記電気抵抗加熱ヒーター８を接続
する端子台９が配設され、昇降治具３１の側面には端子
台９を取り替え、調節等するため開口部が形成されてお
り、側面の外部にはパツキンｌＯにより開閉自在に固定
された蓋１１が配設されている。

また第５図は第２実施例の保持具４２の断面図を示して
おり、保持具４２は耐薬品性であるテフロン製マあり、
第１実施例と同じく台形状の受溝５が形成されており、
接触部Ｃの近くに水滴真空吸引口１２が形成されており
、昇降治具３２に向かって吸引接続通路１３が形成され
ている。そして、昇降治具３２の内部は図示せざる取手
の先端に配設された吸引ポンプにより真空吸引できるよ
うに吸引通路１４となっている。

次に、光ディスク１の乾燥方法について説明する。

第１図に示すように、洗浄後の光ディスク１は昇降治具
３の保持具４上にセー、トされ、温度を６０℃から７０
℃ぐらいに設定された温純水２の中に垂直に投入される
。そして、昇降治具３を上下に揺動させ光ディスク１を
温純水２になじませた後、ゆっくりと垂直に引上げられ
る。

そして、引上げられた後、第１実施例に於ける電気抵抗
加熱ヒーター線８が加熱され保持具４１が８０℃から　
１００℃ぐらいの温度になり、また第２実施例に於ける
吸引ポンプが作動され吸引通路１４、吸引接続通路１３
を介して水滴真空吸引口１２より真空吸引される。

上記の動作によって、光デイスク１表面についた洗浄の
為の水滴は温純水２に拡散され、また引トげの際に光デ
イスク１表面は温純水２となる為張力が弱くなり、付着
しにくくなり、更に光ディスク１自体が温純水２により
熱をもつ為たとえ表面に温純水２の水分が付着しても、
その自熱で水分は乾燥するものである。

そして引−ヒげ後、光ディスク１の表面Ａと保持具４の
接触部Ｃとの間に溜った水滴Ｂは第１実施例では電気抵
抗加熱ヒーター線８の加熱により、また第２実施例では
水滴真空吸引口１２より真空吸引することにより、除去
するものである。

尚、本実施例では洗浄乾燥対象物１を光ディスクとした
が、それ以外にも様々なものが考えられ、昇降治具３．
保持具４もそれに応じて様々なものが考えられる。

また、その洗浄乾燥対象物ｌに応じて保持具４１と保持
具４２を使い分けることができ、例えば第１図の保持具
４を左から保持具４１、保持具４２、保持具４１と配設
することも考えられる。

以上のように、本実施例は洗浄乾燥対象物１表面の水滴
は温純水２中での拡散、また温純水の温度効果による張
力の低下、また引−ヒげ後の洗浄乾燥対象物ｌの自熱に
より、除去、乾燥されることができるものである・また、従来問題であった洗浄乾燥対象物１の表面Ａと保
持具４の接触部Ｃとの間に溜る水滴Ｂは、保持具４１の
接触部Ｃ付近の内部に電気抵抗加熱ヒーター線８を埋設
し、保持具４１全体を加熱することにより除去されるこ
とができるものである。

そして同じく、保持具４２の接触部Ｃ付近に水滴真空吸
引口１２を形成し、真空吸引することにより除去される
ことができるものである。

［発明の効果］以上詳述した如く請求項第１項の発明によれば、洗浄乾
燥対象物は温純水によるのと共に、洗浄乾燥対象物の表
面と保持具の接触部との間に溜る水滴を除去する水滴除
去手段を設けることによって、洗浄乾燥対象物全体を乾
燥させることができ、しみ等の原因を作りにくくするこ
とができるという利点を有する。

また、請求項第２項の発明によれば、保持具の内部に電
気抵抗加熱ヒーター線を埋設することによって、保持具
の斜面、底面全体を加熱することができ、水滴が底面に
溜ったとしても乾燥することができ、水滴が多く溜る箇
所に於いて乾燥効果をよりよくすることができるという
利点を有する。

そして、請求項第３項の発明によれば、保持具の接触部
付近に水滴真空吸引口を形成することによって、水滴を
真空吸引することができ、水滴をより早く除去すること
ができるという利点を有する。

【図面の簡単な説明】

添付図面は本発明の実施例を示し、第１図は乾燥装置の正面図、第２図は第１図のｘ−ｘ　′線に沿った断面図、第３図
から第５図までは第１図のＹ−Ｙ’線に沿った断面図で
あり、第３図は従来例第４図は第１実施例、第５図は第２実施例である。図中 ■・・・・洗浄乾燥対象物、　　２・・・・温純水、３
・・・・昇降治具、　　　　　４・・・・保持具、５・
・・・受溝、　　　　　　　６・・・・斜面、７・・・
・底面、８・・・・電気抵抗加熱ヒーター線。１２・・・・水滴真空吸引口、Ａ・・・・洗浄乾燥対象物の表面、Ｂ・・・・水滴、Ｃ・・・・保持具の接触部、である。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）レンズ、光ディスク、液晶パネル、太陽電池等、
その表面が比較的平滑であってシンプルな形状の洗浄乾
燥対象物を洗浄後、これらを乾燥させるべく昇降治具に
於ける保持具上にセットして温純水に浸漬後、ゆっくり
とほぼ垂直に上方へ引上げ、温純水の表面張力を利用し
てこれら洗浄乾燥対象物を乾燥させる手段に於いて；上記洗浄乾燥対象物１の表面Ａと接触し、それらを保持
する昇降治具３に於ける保持具４の接触部Ｃに、当該接
触部Ｃと洗浄乾燥対象物１の表面Ａとの間の部分に溜る
水滴Ｂを除去する為の水滴除去手段を設けたことを特徴
とする温純水引上方式に於ける乾燥装置。
（２）上記保持具４１はセラミック等耐熱耐薬品性の材
質から成り、洗浄乾燥対象物１の表面Ａを受ける為の受
溝５が形成され、この受溝５の斜面６の接触部Ｃ近くに
電気抵抗加熱ヒーター線８が埋設されて、上記水滴除去
手段を構成していることを特徴とする請求項第１項記載
の温純水引上方式に於ける乾燥装置。
（３）上記保持具４２はテフロン等耐薬品性の材質から
成り、洗浄乾燥対象物１の表面Ａを受ける為の受溝５が
形成され、この受溝５の斜面６の接触部Ｃ近くに開口す
る水滴真空吸引口１３が形成されて、上記水滴除去手段
を構成していることを特徴とする請求項第１項記載の温
純水引上方式に於ける乾燥装置。