JPH03188644A - 付着膜の付着力測定方法 - Google Patents
付着膜の付着力測定方法Info
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- JPH03188644A JPH03188644A JP32798189A JP32798189A JPH03188644A JP H03188644 A JPH03188644 A JP H03188644A JP 32798189 A JP32798189 A JP 32798189A JP 32798189 A JP32798189 A JP 32798189A JP H03188644 A JPH03188644 A JP H03188644A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 47
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 22
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 21
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 21
- 238000010008 shearing Methods 0.000 abstract description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 56
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、付着部材の底面部と付着膜を接着剤で固定
して付着膜を下地部材から引き離すことにより付着膜の
付着力を測定する方法に関する。
して付着膜を下地部材から引き離すことにより付着膜の
付着力を測定する方法に関する。
現在薄膜の応用は多岐に亘っているが、基板に膜がよく
密着していない為に剥離が生じたり、耐久性を保証でき
ない場合があり、デバイスとしての膜、反射用としての
膜、保護用としての膜、いずれの場合も付着力は重要な
要素である。
密着していない為に剥離が生じたり、耐久性を保証でき
ない場合があり、デバイスとしての膜、反射用としての
膜、保護用としての膜、いずれの場合も付着力は重要な
要素である。
この付着力を測定する方法として、「接着剤による方法
」が知られている。この「接着剤による方法」は、測定
方法が簡便なので薄膜の付着力測定に広く用いられてい
る。この方法によると、棒（または板）の底面全体に接
着剤を塗付した後、薄膜の表面に貼り付け、その棒を引
き離す（膜が剥がれることが前提条件）。この時に要す
る力と付着部の底面積から付着力が計算される。「接着
剤による方法」としては、■直接引張法、■引例し法、
■剪断法、■トルク法、■スコッチテープ法、■ビーリ
ング法が知られている（“薄膜の付着力′、薄膜の作製
・評価とその応用技術／Ｘンドブック、フジテクノシス
テム発行、１９８４、ｐｐ、２０８−２１７）。
」が知られている。この「接着剤による方法」は、測定
方法が簡便なので薄膜の付着力測定に広く用いられてい
る。この方法によると、棒（または板）の底面全体に接
着剤を塗付した後、薄膜の表面に貼り付け、その棒を引
き離す（膜が剥がれることが前提条件）。この時に要す
る力と付着部の底面積から付着力が計算される。「接着
剤による方法」としては、■直接引張法、■引例し法、
■剪断法、■トルク法、■スコッチテープ法、■ビーリ
ング法が知られている（“薄膜の付着力′、薄膜の作製
・評価とその応用技術／Ｘンドブック、フジテクノシス
テム発行、１９８４、ｐｐ、２０８−２１７）。
第５図は、従来の直接引張法による付着力測定方法を示
す工程図である。直接引張法は、基板１に蒸着された薄
膜２に接着剤３を用いて引張力付加部材５を固定し、薄
膜２が基板１との界面から剥離するように、引張力付加
部材５を鉛直方向に引張り、引張力付加部材５の底面積
から付着力を計算する。しかし、引張力付加部材５を引
張るときには薄膜２を剥離する為の剪断力が加わってい
るので、正確に付着力を計算することができなかった。
す工程図である。直接引張法は、基板１に蒸着された薄
膜２に接着剤３を用いて引張力付加部材５を固定し、薄
膜２が基板１との界面から剥離するように、引張力付加
部材５を鉛直方向に引張り、引張力付加部材５の底面積
から付着力を計算する。しかし、引張力付加部材５を引
張るときには薄膜２を剥離する為の剪断力が加わってい
るので、正確に付着力を計算することができなかった。
第６図は、従来のトルク法による付着力測定方法を示す
工程図である。トルク法は、基板１に蒸着された薄膜２
に接着剤３を用いてトルク付加部材６を固定し、薄膜２
が基板１との界面から剥離するように、トルク付加部材
６を捩じり、トルク付加部材６の底面積から付着力を計
算する。しかし、トルク付加部材６を捩じるときには薄
膜２を剥離する為の剪断力が加わっているので、やはり
正確に付着力を計算することができなかった。
工程図である。トルク法は、基板１に蒸着された薄膜２
に接着剤３を用いてトルク付加部材６を固定し、薄膜２
が基板１との界面から剥離するように、トルク付加部材
６を捩じり、トルク付加部材６の底面積から付着力を計
算する。しかし、トルク付加部材６を捩じるときには薄
膜２を剥離する為の剪断力が加わっているので、やはり
正確に付着力を計算することができなかった。
そこで本発明は、剪断力の影響を除去できる正確なΔＰ
＋Ｐ＋決方法供することにより、測定精度を高めること
を目的とする。
＋Ｐ＋決方法供することにより、測定精度を高めること
を目的とする。
上記課題を達成するため、この発明は付着部材の底面部
と付着膜を接着剤で固定して付着膜を下地部材から引き
離すことにより付着膜の付着力をＡＪ＋定する付着膜の
付着力測定方法であって、上記底面部が固定される固定
領域内で付着膜が下地部材上に形成された付着部を配置
すると共に、この付着部の周囲に付着膜及び下地部材間
の付着強度より接触部材との付着強度がはるかに小さい
中間膜を下地部材上に配置し、上記付着部における付着
膜の付着力を測定することを特徴とする。
と付着膜を接着剤で固定して付着膜を下地部材から引き
離すことにより付着膜の付着力をＡＪ＋定する付着膜の
付着力測定方法であって、上記底面部が固定される固定
領域内で付着膜が下地部材上に形成された付着部を配置
すると共に、この付着部の周囲に付着膜及び下地部材間
の付着強度より接触部材との付着強度がはるかに小さい
中間膜を下地部材上に配置し、上記付着部における付着
膜の付着力を測定することを特徴とする。
この発明は、以上のように構成されているので、下地部
材上に形成された中間膜により固定領域内で付着膜に段
差が生じる。この中間膜と接触部材（下地部材、付着膜
等）との付着強度は、付着膜及び下地部材間の付着強度
に比べて無視できる値なので、中間膜の介在によって付
着力に影響を与えることはない。さらに、この段差が固
定領域内で閉ループ状にできているので、付着膜による
剪断力は無くなる。
材上に形成された中間膜により固定領域内で付着膜に段
差が生じる。この中間膜と接触部材（下地部材、付着膜
等）との付着強度は、付着膜及び下地部材間の付着強度
に比べて無視できる値なので、中間膜の介在によって付
着力に影響を与えることはない。さらに、この段差が固
定領域内で閉ループ状にできているので、付着膜による
剪断力は無くなる。
以下、この発明に係る付着膜の付着力測定方法を添付図
面に基づき説明する。なお、説明において同一要素には
同一符号を用い、重複する説明は省略する。
面に基づき説明する。なお、説明において同一要素には
同一符号を用い、重複する説明は省略する。
第１図は一実施例に係る付着膜の測定方法（直接引張法
）を示すものである。同図（ａ）は、付着膜の構造を示
す縦断面図、同図（ｂ）は同図（ａ）のＡ−Ａ’線から
みた断面図を示す。この実施例によると、付着部材１１
が固定される固定領域の外周部にフォトレジスト膜１２
、中央部に付着膜１３が下地部材１０上に形成されてい
る。
）を示すものである。同図（ａ）は、付着膜の構造を示
す縦断面図、同図（ｂ）は同図（ａ）のＡ−Ａ’線から
みた断面図を示す。この実施例によると、付着部材１１
が固定される固定領域の外周部にフォトレジスト膜１２
、中央部に付着膜１３が下地部材１０上に形成されてい
る。
付着部材１１は接着剤１４を介して付着膜１３に固定さ
れている。ここで、付着膜１３と下地部材１０との付着
強度に対して、フォトレジスト膜１２と他の接触部材（
下地部材１０あるいは付着膜１３）との付着強度はかな
り小さくなっているので、フォトレジスト膜１２を使用
しても、付着力に影響を与えることはない。フォトレジ
スト膜１２の付着強度は、レジスト材料、レジストのベ
ーク条件の選択や、レジストの表面処理等により変える
ことができる。
れている。ここで、付着膜１３と下地部材１０との付着
強度に対して、フォトレジスト膜１２と他の接触部材（
下地部材１０あるいは付着膜１３）との付着強度はかな
り小さくなっているので、フォトレジスト膜１２を使用
しても、付着力に影響を与えることはない。フォトレジ
スト膜１２の付着強度は、レジスト材料、レジストのベ
ーク条件の選択や、レジストの表面処理等により変える
ことができる。
例えば、付着膜１３と下地部材１０との付着強度に対し
て、フォトレジスト膜１２と下地部材１０の付着強度を
かなり小さくすると、測定値に対してフォトレジスト膜
１２の付着強度は無視できる値になり、さらに、固定領
域内で円周（閉ループ）状に段差が生じているので（第
１図（ｂ）参照）付着膜１３の剪断力の影響が無く、付
着力の測定精度を向上させることができる。この場合、
フォトレジスト膜１２と下地部材１０の付着強度の代イ
つりに、フォトレジスト膜１２と付着膜１３の付着強度
を小さくしてもよい。
て、フォトレジスト膜１２と下地部材１０の付着強度を
かなり小さくすると、測定値に対してフォトレジスト膜
１２の付着強度は無視できる値になり、さらに、固定領
域内で円周（閉ループ）状に段差が生じているので（第
１図（ｂ）参照）付着膜１３の剪断力の影響が無く、付
着力の測定精度を向上させることができる。この場合、
フォトレジスト膜１２と下地部材１０の付着強度の代イ
つりに、フォトレジスト膜１２と付着膜１３の付着強度
を小さくしてもよい。
次に、第１図に示す付着力測定方法に使用することがで
きる付着構造体の形成方法を第２図により説明する。ま
ず、基板等の下地部材１０上にフォトレジスト膜１２を
形成してベークする（同図（ａ））。下地部材１０とし
ては、ガラス基板、Ｓｉウェハ Ｓｉウェハ上に形成さ
れたＳｉＯ２膜やＳｉＮ膜等があり、レジスト材として
は、市販品である０ＭＲ８３，０ＦＰＲ８００、Ａ２１
４００等を使用することができる。次に、フォトリソグ
ラフィ技術を用いて開孔部Ｂをバターニングにより形成
しく同図（ｂ））、評価対象となる付着膜１３（例えば
、Ａ ｕ Ｉｆぐを２０００オングストローム）を真空
蒸石法で形成する（同図（Ｃ））。最後に、この付着膜
］３と付着部材１１を接る剤１４て固定する。接青剤］
４としては、アラルタイト、ロックタイト、アロナルフ
ァ等の市販品を使用できる。この付着構造体を用いるこ
とにより、測定値に対してフォトレジスト膜１２の付着
強度は無視できる値になり、さらに、付着力（測定値）
における付着膜１３の剪断力の影響が無くなる。
きる付着構造体の形成方法を第２図により説明する。ま
ず、基板等の下地部材１０上にフォトレジスト膜１２を
形成してベークする（同図（ａ））。下地部材１０とし
ては、ガラス基板、Ｓｉウェハ Ｓｉウェハ上に形成さ
れたＳｉＯ２膜やＳｉＮ膜等があり、レジスト材として
は、市販品である０ＭＲ８３，０ＦＰＲ８００、Ａ２１
４００等を使用することができる。次に、フォトリソグ
ラフィ技術を用いて開孔部Ｂをバターニングにより形成
しく同図（ｂ））、評価対象となる付着膜１３（例えば
、Ａ ｕ Ｉｆぐを２０００オングストローム）を真空
蒸石法で形成する（同図（Ｃ））。最後に、この付着膜
］３と付着部材１１を接る剤１４て固定する。接青剤］
４としては、アラルタイト、ロックタイト、アロナルフ
ァ等の市販品を使用できる。この付着構造体を用いるこ
とにより、測定値に対してフォトレジスト膜１２の付着
強度は無視できる値になり、さらに、付着力（測定値）
における付着膜１３の剪断力の影響が無くなる。
第３図は、この発明の他の実施例に係る付着膜の付着カ
フ１ｐｊ定方法を示すものである。同図（ａ）に示す測
定方法は、付着部が固定領域の外周部に形成されており
、その外側にフォトレジスト膜１２が形成されている。
フ１ｐｊ定方法を示すものである。同図（ａ）に示す測
定方法は、付着部が固定領域の外周部に形成されており
、その外側にフォトレジスト膜１２が形成されている。
また、固定領域内の中央部にもフォトレジスト膜１２が
下地部材１０上に形成されているので付着部の面積が小
さくなっている。なお、固定領域外周部に形成されたフ
ォトレジスト膜と固定領域内の中央部に形成されたフォ
トレジスト膜は同一材料、膜厚でなくてもよい。
下地部材１０上に形成されているので付着部の面積が小
さくなっている。なお、固定領域外周部に形成されたフ
ォトレジスト膜と固定領域内の中央部に形成されたフォ
トレジスト膜は同一材料、膜厚でなくてもよい。
同図（ｂ）に示す測定方法には、固定領域の外に形成さ
れたフォトレジスト膜１２と膜厚、材質の異なるフォト
レジスト膜１５が固定領域内中央部に形成されている。
れたフォトレジスト膜１２と膜厚、材質の異なるフォト
レジスト膜１５が固定領域内中央部に形成されている。
付着部は、同図（ａ）と同様、固定領域内に形成されて
いる。
いる。
同図（ｃ）に示す測定方法は固定領域内のほぼ全面に付
着部が形成されており、その周囲にフォトレジスト膜１
２が下地部材１０上に形成されている。その為、付着膜
１３の段差は固定領域のほぼ外縁部に沿って形成されて
いる。
着部が形成されており、その周囲にフォトレジスト膜１
２が下地部材１０上に形成されている。その為、付着膜
１３の段差は固定領域のほぼ外縁部に沿って形成されて
いる。
第４図は、この発明の応用例に係る付着膜の付着力測定
方法を示すものである。上記実施例との差異は、第１図
に示す測定方法をトルク法に適用した点である。この場
合、付着部材１６はトルクを付加できる構造になってい
る。なお、その構造及び形成方法は上記実施例と変わら
ないので説明は省略する。
方法を示すものである。上記実施例との差異は、第１図
に示す測定方法をトルク法に適用した点である。この場
合、付着部材１６はトルクを付加できる構造になってい
る。なお、その構造及び形成方法は上記実施例と変わら
ないので説明は省略する。
なお、この発明は上記実施例に限定されるものではない
。例えば、中間膜はフォトレジスト膜に限定されるもの
ではなく、その接触部材との付着強度が無視しつる程に
小さければよいので、測定条件により多種多様の材料が
考えられる。
。例えば、中間膜はフォトレジスト膜に限定されるもの
ではなく、その接触部材との付着強度が無視しつる程に
小さければよいので、測定条件により多種多様の材料が
考えられる。
また、上記実施例では付着ツノ測定方法として直接引張
法及びトルク法を一例として説明したが、引倒し法など
の他の方法にも適用することができる。
法及びトルク法を一例として説明したが、引倒し法など
の他の方法にも適用することができる。
さらに、中間膜の配置、形状、膜厚等は上記実施例に限
定されるものではなく、測定条件により適切なものが設
定される。
定されるものではなく、測定条件により適切なものが設
定される。
この発明は、以上説明したように構成されているので、
剪断力の影響を除去することができ、測定精度が向上す
る。
剪断力の影響を除去することができ、測定精度が向上す
る。
第１図は本発明の一実施例に係る付着膜の付着力Δｐｊ
定方法を示す説明図、第２図は第１図に示す測定方法に
使用することができる付着構造体の形成方法を示す工程
図、第３図は本発明の他の実施例に係る付着膜の付着力
測定方法を示す縦断面図、第４図は本発明の応用例に係
る付着膜の付着力測定方法を示す縦断面図、第５図は従
来技術に係る薄膜の付着力測定方法を示す工程図、第６
図は他の従来技術に係る薄膜の付着力測定方法を示す工
程図である。 １・・・基板、２・・・薄膜、３・・・接着剤、５・・
・引張力付加部材、 ６・・・ トルク付加部材、 ０・・・下地部材、 １、 ６・・・付着部材、 １２、 ５・・・フォ トレン ス ト膜、 ３・・・付着膜、 ・・接着剤。
定方法を示す説明図、第２図は第１図に示す測定方法に
使用することができる付着構造体の形成方法を示す工程
図、第３図は本発明の他の実施例に係る付着膜の付着力
測定方法を示す縦断面図、第４図は本発明の応用例に係
る付着膜の付着力測定方法を示す縦断面図、第５図は従
来技術に係る薄膜の付着力測定方法を示す工程図、第６
図は他の従来技術に係る薄膜の付着力測定方法を示す工
程図である。 １・・・基板、２・・・薄膜、３・・・接着剤、５・・
・引張力付加部材、 ６・・・ トルク付加部材、 ０・・・下地部材、 １、 ６・・・付着部材、 １２、 ５・・・フォ トレン ス ト膜、 ３・・・付着膜、 ・・接着剤。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 付着部材の底面部と付着膜を接着剤で固定して付着膜を
下地部材から引き離すことにより付着膜の付着力を測定
する付着膜の付着力測定方法であって、 前記底面部が固定される固定領域内で付着膜が下地部材
上に形成された付着部を配置すると共に、この付着部の
周囲に前記付着膜及び前記下地部材間の付着強度より接
触部材との付着強度がはるかに小さい中間膜を下地部材
上に配置し、 前記付着部における付着膜の付着力を測定することを特
徴とする付着膜の付着力測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32798189A JPH03188644A (ja) | 1989-12-18 | 1989-12-18 | 付着膜の付着力測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32798189A JPH03188644A (ja) | 1989-12-18 | 1989-12-18 | 付着膜の付着力測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03188644A true JPH03188644A (ja) | 1991-08-16 |
Family
ID=18205174
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32798189A Pending JPH03188644A (ja) | 1989-12-18 | 1989-12-18 | 付着膜の付着力測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03188644A (ja) |
-
1989
- 1989-12-18 JP JP32798189A patent/JPH03188644A/ja active Pending
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