JPH03188130A - テトラオルガノジシリルオキシ基を有するシリコーン共重合体及びその中間体 - Google Patents
テトラオルガノジシリルオキシ基を有するシリコーン共重合体及びその中間体Info
- Publication number
- JPH03188130A JPH03188130A JP2299110A JP29911090A JPH03188130A JP H03188130 A JPH03188130 A JP H03188130A JP 2299110 A JP2299110 A JP 2299110A JP 29911090 A JP29911090 A JP 29911090A JP H03188130 A JPH03188130 A JP H03188130A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- silicone
- formula
- aromatic
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims abstract description 53
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims abstract description 17
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims abstract description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 5
- -1 polydimethylsiloxane Polymers 0.000 claims description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 4
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 2
- CCSINQLTXLABIQ-UHFFFAOYSA-N 4-dimethylsilyloxy-2-benzofuran-1,3-dione Chemical group C[SiH](OC1=C2C(C(=O)OC2=O)=CC=C1)C CCSINQLTXLABIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 abstract 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 10
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 8
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 2
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NCWQJOGVLLNWEO-UHFFFAOYSA-N methylsilicon Chemical compound [Si]C NCWQJOGVLLNWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVEUVITYHIHZQE-UHFFFAOYSA-N n-methylpyridin-2-amine Chemical compound CNC1=CC=CC=N1 SVEUVITYHIHZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZMJVBOGDBMGI-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpropylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CC)C1=CC=CC=C1 BUZMJVBOGDBMGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQCPOLNSJCWPGT-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Bisphenol F Chemical compound OC1=CC=CC=C1CC1=CC=CC=C1O MQCPOLNSJCWPGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQXNNWDXHFBFEB-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(2-hydroxyphenyl)propane Chemical compound C=1C=CC=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1O MQXNNWDXHFBFEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminotoluene Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1N VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LROZSPADHSXFJA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-hydroxyphenyl)sulfonylphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1O LROZSPADHSXFJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 1
- JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine Chemical compound C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N)=CC=2)=C1 JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbenzidine Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDOZKJGKXYMEW-UHFFFAOYSA-N 4-ethylphenol Chemical compound CCC1=CC=C(O)C=C1 HXDOZKJGKXYMEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPDXWXPSCKSIII-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylbenzene-1,3-diamine Chemical compound CC(C)C1=CC=C(N)C=C1N IPDXWXPSCKSIII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPMGYFSWCJZSBA-UHFFFAOYSA-N C[SiH](C)O[SiH3] Chemical group C[SiH](C)O[SiH3] BPMGYFSWCJZSBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHXHXONFFPXOHP-UHFFFAOYSA-N S(=O)(=O)(C(F)(F)F)O.FOS(=O)(=O)C(F)(F)F Chemical compound S(=O)(=O)(C(F)(F)F)O.FOS(=O)(=O)C(F)(F)F XHXHXONFFPXOHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical group C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 1
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- KTPJDYNQZVAFBU-UHFFFAOYSA-N dichloro-[chloro(dimethyl)silyl]-methylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)[Si](C)(Cl)Cl KTPJDYNQZVAFBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZALIDSFNICAQX-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-trimethylsilylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(Cl)Cl JZALIDSFNICAQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- STZCRXQWRGQSJD-GEEYTBSJSA-M methyl orange Chemical compound [Na+].C1=CC(N(C)C)=CC=C1\N=N\C1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 STZCRXQWRGQSJD-GEEYTBSJSA-M 0.000 description 1
- 229940012189 methyl orange Drugs 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-diamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1N KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006501 nitrophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005628 tolylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000725 trifluoropropyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C(F)(F)F 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004078 waterproofing Methods 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
本発明は、式(1):
%式%
(1)
[式中Rは同一の又は異なる1価の炭素数1乃至14の
炭化水素基及び平衡化の間に不活性な1価の基で置換さ
れた炭素数1乃至14の炭化水素基から成る群から選ば
れる一員である] のテトラオルガノジシリルオキシ基が化学結合している
シリコーン共重合体及び該共重合体製造用の中間体に関
する。
炭化水素基及び平衡化の間に不活性な1価の基で置換さ
れた炭素数1乃至14の炭化水素基から成る群から選ば
れる一員である] のテトラオルガノジシリルオキシ基が化学結合している
シリコーン共重合体及び該共重合体製造用の中間体に関
する。
本発明以前に、
(2) :
を存するシリコーン環状物(以下rD’ 2Jといスト
リイ、21 (1956)1264−68頁熊田らに
より報告されている。−5LSLO−の骨格を1 有するいくつかの線状、環状又はかご様メチルケイ素テ
レマーも、工業化学雑誌、66(5)、1963.63
7−41頁に熊田らにより報告されている。ポーチの米
国特許第4.618.666号明細書に示されている様
に、テトラクロロ−1゜2−ジメチルジシラン、トリメ
チル−1,1,2−トリクロロジシラン、テトラメチル
−1,2−ジクロロジシラン及びジメチルジクロロシラ
ンから成るメチルクロロシラン合成残留物を直接加水分
解することによりジシリルオキシ基ををするメチルケイ
素樹脂を製造することができる。得られるメチルケイ素
樹脂が、成形粉として、繊維及び建設用防水剤として有
用であることが分った。
リイ、21 (1956)1264−68頁熊田らに
より報告されている。−5LSLO−の骨格を1 有するいくつかの線状、環状又はかご様メチルケイ素テ
レマーも、工業化学雑誌、66(5)、1963.63
7−41頁に熊田らにより報告されている。ポーチの米
国特許第4.618.666号明細書に示されている様
に、テトラクロロ−1゜2−ジメチルジシラン、トリメ
チル−1,1,2−トリクロロジシラン、テトラメチル
−1,2−ジクロロジシラン及びジメチルジクロロシラ
ンから成るメチルクロロシラン合成残留物を直接加水分
解することによりジシリルオキシ基ををするメチルケイ
素樹脂を製造することができる。得られるメチルケイ素
樹脂が、成形粉として、繊維及び建設用防水剤として有
用であることが分った。
発明の概要
本発明は、式(2)のD12と、アシル芳香族官能基(
たとえば下記式(3)及び1989年3月6日付で提出
された同時係属中のデービスらの米国特許出願第07/
319.027号明細書に示されている様なシリルアリ
ールアシル基又は下記式(4)及びリッチの米国特許第
4,794゜153号明細書に示されている様なシリル
芳香族無水物基)を存するジオルガノジシロキサンとを
結合させることにより、様々な熱及び電子線硬化可能な
シリコーン共重合体の製造用中間体を得ることができる
という知見に基づいている。これらのシリコーンポリイ
ミド、シリコーンポリアミド、シリコーンポリエステル
及びシリコーンボリカーボネート等のシリコーン共重合
体は、約15,000乃至約30.000の数平均分子
量(1’h)を有することができる。
たとえば下記式(3)及び1989年3月6日付で提出
された同時係属中のデービスらの米国特許出願第07/
319.027号明細書に示されている様なシリルアリ
ールアシル基又は下記式(4)及びリッチの米国特許第
4,794゜153号明細書に示されている様なシリル
芳香族無水物基)を存するジオルガノジシロキサンとを
結合させることにより、様々な熱及び電子線硬化可能な
シリコーン共重合体の製造用中間体を得ることができる
という知見に基づいている。これらのシリコーンポリイ
ミド、シリコーンポリアミド、シリコーンポリエステル
及びシリコーンボリカーボネート等のシリコーン共重合
体は、約15,000乃至約30.000の数平均分子
量(1’h)を有することができる。
発明の説明
本発明の1つの側面からは、式(1)のテトラオルガノ
ジシリルオキシ基が化学結合したシリコーンポリイミド
、シリコーンポリエステル、シリコーンポリアミド及び
シリコーンポリカーボネートから成る群から選ばれる橋
かけ可能なシリコーン共重合体が提供される。
ジシリルオキシ基が化学結合したシリコーンポリイミド
、シリコーンポリエステル、シリコーンポリアミド及び
シリコーンポリカーボネートから成る群から選ばれる橋
かけ可能なシリコーン共重合体が提供される。
本発明の別の側面からは、上記シリコーン共重合体製造
用の架橋可能な中間体が提供され、その中間体としてた
とえば、式(1)のテトラオルガノジシリルオキシ基と
、式(3): %式% (3) のアシル芳香族有機シロキシ基及び式(4):の芳香族
無水物シロキシ基から選ばれる末端官能基とが縮合した
ポリジオルガノシロキサンがある[式中Rは前述の意味
を有し、R1及びR2は炭素数6乃至14の芳香族有機
基から選ばれ、モしてXはハロゲン、アルコキシ、アリ
ールオキシ及びヒドロキシアリールオキシ等の基である
〕。1989年3月6日付で提出された同時係属中のリ
ッチらの米国特許出願筒07/319,025号明細書
に教示されている様に、式(4)の芳香族無水物シロキ
シ基は、アミンフェノールを用いて対応するヒドロキシ
アリールイミド基に転化させることができる。
用の架橋可能な中間体が提供され、その中間体としてた
とえば、式(1)のテトラオルガノジシリルオキシ基と
、式(3): %式% (3) のアシル芳香族有機シロキシ基及び式(4):の芳香族
無水物シロキシ基から選ばれる末端官能基とが縮合した
ポリジオルガノシロキサンがある[式中Rは前述の意味
を有し、R1及びR2は炭素数6乃至14の芳香族有機
基から選ばれ、モしてXはハロゲン、アルコキシ、アリ
ールオキシ及びヒドロキシアリールオキシ等の基である
〕。1989年3月6日付で提出された同時係属中のリ
ッチらの米国特許出願筒07/319,025号明細書
に教示されている様に、式(4)の芳香族無水物シロキ
シ基は、アミンフェノールを用いて対応するヒドロキシ
アリールイミド基に転化させることができる。
式(1)のRに包含される基は、例えばメチル、エチル
、プロピル、ブチル、ペンチル等の炭素数1乃至8のア
ルキル基;ビニル、プロペニル及びシクロへキセニル等
のアルケニル基;トリフルオロプロピル、シアノエチル
及びシアノプロピル等の置換アルキル基:フェニル、ト
リル、キシリル等の炭素数6乃至14のアリール基及び
ニトロフェニル及びクロロフェニル等の前記アリール基
のハロゲン化誘導体である。
、プロピル、ブチル、ペンチル等の炭素数1乃至8のア
ルキル基;ビニル、プロペニル及びシクロへキセニル等
のアルケニル基;トリフルオロプロピル、シアノエチル
及びシアノプロピル等の置換アルキル基:フェニル、ト
リル、キシリル等の炭素数6乃至14のアリール基及び
ニトロフェニル及びクロロフェニル等の前記アリール基
のハロゲン化誘導体である。
R1に包含される基は、フェニレン、キシリレン及びト
リレン等の2価の芳香族有機基である。
リレン等の2価の芳香族有機基である。
式(4)のR2に包含される基は、例えば−S;0−
(5)
[式中Rは前述の意味を有する]
のジオルガノシロキシ単位と式(1)のオルガノジシリ
ルオキシ基(縮合するジオルガノシロキシ単位及びオル
ガノジシリルオキシ基の総量を基準として0. 1乃至
100モル%)とが縮合して成るポリジオルガノシロキ
サンとして定義することができる。
ルオキシ基(縮合するジオルガノシロキシ単位及びオル
ガノジシリルオキシ基の総量を基準として0. 1乃至
100モル%)とが縮合して成るポリジオルガノシロキ
サンとして定義することができる。
本発明の好ましいシリコーン共重合体用中間体は、式(
2)のD J 、又は該D′2とシクロポリジオルガノ
シロキサンたとえばオクタメチルシクロテトラシロキサ
ン(D4)との混合物と、式(6): 前記シリコーン共重合体用中間体は、式(3)及び(4
)から選ばれる末端基ををし、式(5):0 のジシロキサン(PADS)又は式(7):本発明のテ
トラオルガノジシリルオキシ含有シリコーンポリイミド
共重合体の好適な製造法は、式(4)の芳香族シロキシ
基を末端に有し、そして式(5)の縮合ジオルガノシロ
キシ単位と式(1)のテトラオルガノジシリルオキン基
とが縮合して成る中間体ポリジオルガノシロキサン又は
該シロキサンと式(8) %式% のジシロキサンとの口[衡化により製造することができ
る[式中R及びXは前述の意味を有する]。
2)のD J 、又は該D′2とシクロポリジオルガノ
シロキサンたとえばオクタメチルシクロテトラシロキサ
ン(D4)との混合物と、式(6): 前記シリコーン共重合体用中間体は、式(3)及び(4
)から選ばれる末端基ををし、式(5):0 のジシロキサン(PADS)又は式(7):本発明のテ
トラオルガノジシリルオキシ含有シリコーンポリイミド
共重合体の好適な製造法は、式(4)の芳香族シロキシ
基を末端に有し、そして式(5)の縮合ジオルガノシロ
キシ単位と式(1)のテトラオルガノジシリルオキン基
とが縮合して成る中間体ポリジオルガノシロキサン又は
該シロキサンと式(8) %式% のジシロキサンとの口[衡化により製造することができ
る[式中R及びXは前述の意味を有する]。
平衡化するには、有効な量のトリフルオロメタンスルホ
ン酸を用いて、1988年10月240付で提出された
ブースらの同時係属中の米国特許出願m261,450
号明細書の方法に従って行なうのが好ましい。
ン酸を用いて、1988年10月240付で提出された
ブースらの同時係属中の米国特許出願m261,450
号明細書の方法に従って行なうのが好ましい。
111
0 0
[式中R3は4価の炭素数6乃至40の芳香族有機基で
ある] の芳香族無水物との混合物と、式(9)=NH,R4N
H2(9) [式中R4は炭素数6乃至30の2価の芳香族有機基で
ある] の芳香族有機ジアミンとの反応を行なうことによる。式
(9)に包含される芳香族有機ジアミンは、例えばm−
フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、4,4
′−ジアミノジフェニルプロパン、4.4’ −ジアミ
ノジフェニルメタン、ベンジジン、4.4’ −ジアミ
ノジフェニルスルフィド、4.4’−ジアミノジフェニ
ルスルホン、4゜4′−ジアミノジフェニルエーテル、
1.5−ジアミノナフタレン、3.3’ −ジメチルベ
ンジジン、3.3′−ジメトキシベンジジン、2,4−
ジアミノトルエン、2.6−ジアミノトルエン、2.4
−ビス(β−アミノ−tart−ブチル)トルエン、ビ
ス(p−β−メチル−〇−アミノペンチル)ベンゼン、
1.3−ジアミノ−4−イソプロピルベンゼン、1,2
−ビス(4−アミノプロポキシ)エタン、m−キシリレ
ンジアミン及びp−キシリレンジアミンである。
ある] の芳香族無水物との混合物と、式(9)=NH,R4N
H2(9) [式中R4は炭素数6乃至30の2価の芳香族有機基で
ある] の芳香族有機ジアミンとの反応を行なうことによる。式
(9)に包含される芳香族有機ジアミンは、例えばm−
フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、4,4
′−ジアミノジフェニルプロパン、4.4’ −ジアミ
ノジフェニルメタン、ベンジジン、4.4’ −ジアミ
ノジフェニルスルフィド、4.4’−ジアミノジフェニ
ルスルホン、4゜4′−ジアミノジフェニルエーテル、
1.5−ジアミノナフタレン、3.3’ −ジメチルベ
ンジジン、3.3′−ジメトキシベンジジン、2,4−
ジアミノトルエン、2.6−ジアミノトルエン、2.4
−ビス(β−アミノ−tart−ブチル)トルエン、ビ
ス(p−β−メチル−〇−アミノペンチル)ベンゼン、
1.3−ジアミノ−4−イソプロピルベンゼン、1,2
−ビス(4−アミノプロポキシ)エタン、m−キシリレ
ンジアミン及びp−キシリレンジアミンである。
式(8)の芳香族二無水物には、2,2−ビス[4−(
3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]ブロバン
ニ無水物、ピロメリト酸二無水物、ビフェニルニ無水物
及びオキシシフタル酸無水物等の化合物が包含される。
3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]ブロバン
ニ無水物、ピロメリト酸二無水物、ビフェニルニ無水物
及びオキシシフタル酸無水物等の化合物が包含される。
反応は、オルトジクロロベンゼン等の不活性有機溶媒の
存在下で、100乃至350℃の範囲の温度で行なうこ
とができる。必要ならばメチルアミノピリジン等の縮合
触媒を使用することができる。最適の架橋度を達成する
には、シリコーンポリイミド共重合体中の縮合単位の総
モル数を基阜として約0. 1乃至100モル%、好ま
しくは5乃至20モル%の式(1)のテトラオルガノジ
シリルオキシ基を含むシリコーンポリイミド共重合体を
使用できる。
存在下で、100乃至350℃の範囲の温度で行なうこ
とができる。必要ならばメチルアミノピリジン等の縮合
触媒を使用することができる。最適の架橋度を達成する
には、シリコーンポリイミド共重合体中の縮合単位の総
モル数を基阜として約0. 1乃至100モル%、好ま
しくは5乃至20モル%の式(1)のテトラオルガノジ
シリルオキシ基を含むシリコーンポリイミド共重合体を
使用できる。
シリコーンポリイミド共重合体のほかに本発明により提
供されるものとして、式(3)のハロアシル芳香族有機
シロキシ基を末端に有するポリジオルガノシロキサンを
用いた場合に、テトラオルガノジシリルオキシ含有シリ
コーンポリエステル共垂合体及びテトラオルガノジシリ
ルオキシ含有シリコーンポリアミド共重合体がある。こ
れらのシリコーンポリアミド等のシリコーン共重合体は
、式(3)の末端基を有する中間体と式(9)の芳香族
有機ジアミンとの反応を行なうことにより製造すること
ができる。式(1)のテトラオルガノ基を縮合して何す
るシリコーンポリエステル共重合体を生成するには、式
(3)の末端基を有する中間体との組合せに、式(10
): %式%(10) [式中R5は炭素数6乃至30の2価の芳香族有機基で
ある] の芳香族二価フェノールを使用することもできる。
供されるものとして、式(3)のハロアシル芳香族有機
シロキシ基を末端に有するポリジオルガノシロキサンを
用いた場合に、テトラオルガノジシリルオキシ含有シリ
コーンポリエステル共垂合体及びテトラオルガノジシリ
ルオキシ含有シリコーンポリアミド共重合体がある。こ
れらのシリコーンポリアミド等のシリコーン共重合体は
、式(3)の末端基を有する中間体と式(9)の芳香族
有機ジアミンとの反応を行なうことにより製造すること
ができる。式(1)のテトラオルガノ基を縮合して何す
るシリコーンポリエステル共重合体を生成するには、式
(3)の末端基を有する中間体との組合せに、式(10
): %式%(10) [式中R5は炭素数6乃至30の2価の芳香族有機基で
ある] の芳香族二価フェノールを使用することもできる。
式(10)に包含される芳香族二価フェノールは、例え
ば2.2−ビス−(2−ヒドロキシフェニル)プロパン
、2.4’ −ジヒドロキシビフェニルメタン、ビス−
(ヒドロキシフェニル)メタン、2.2−ビス−(4−
ヒドロキシフェニル)プロパン[以下にビスフェノール
A又はBPAという]、1.1−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)エタン、1.1−ビス−(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、4.4’ −ジヒドロキシビフェニ
ル、4.4′−ジヒドロキシ−3,3’、5゜5′−テ
トラメチルビフェニル、2.4−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン、4.4’ −ジヒドロキシジフェニルスルホン
、2.4−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4.4−
ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4.4’ −ジヒ
ドロキシジフェニルスルフィド、テトラメチルビスフェ
ノール、1.1−ジクロロ−2,2−ビス−(4−ヒド
ロキシフェニル)エチレン、6.6’ −ジヒドロキシ
−3,3,3’ 、3’ −テトラメチル−ビス=1
.1′ −スピロインダン、 である。
ば2.2−ビス−(2−ヒドロキシフェニル)プロパン
、2.4’ −ジヒドロキシビフェニルメタン、ビス−
(ヒドロキシフェニル)メタン、2.2−ビス−(4−
ヒドロキシフェニル)プロパン[以下にビスフェノール
A又はBPAという]、1.1−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)エタン、1.1−ビス−(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、4.4’ −ジヒドロキシビフェニ
ル、4.4′−ジヒドロキシ−3,3’、5゜5′−テ
トラメチルビフェニル、2.4−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン、4.4’ −ジヒドロキシジフェニルスルホン
、2.4−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4.4−
ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4.4’ −ジヒ
ドロキシジフェニルスルフィド、テトラメチルビスフェ
ノール、1.1−ジクロロ−2,2−ビス−(4−ヒド
ロキシフェニル)エチレン、6.6’ −ジヒドロキシ
−3,3,3’ 、3’ −テトラメチル−ビス=1
.1′ −スピロインダン、 である。
シリコーンポリイミド、シリコーンポリエステル及びシ
リコーンポリアミドのほかに、シリコーンポリカーボネ
ートを、例えば 等のヒドロキンアリールシロキシ基を末端に有するテト
ラオルガノジンロキシ中間体のホスゲン化により製造す
ることができる。
リコーンポリアミドのほかに、シリコーンポリカーボネ
ートを、例えば 等のヒドロキンアリールシロキシ基を末端に有するテト
ラオルガノジンロキシ中間体のホスゲン化により製造す
ることができる。
本発明のテトラオルガノジシリルオキシ含有ンリコーン
ボリマーの橋かけ又は硬化は、テトラオルガノジシリル
オキシ基の濃度及び共重合体試料の厚みにもよるが、1
50乃至300℃の範囲の温度で0.5乃至20分間で
達成される。20乃至40メガラドといった標準的な線
量で電子線処理を利用しても硬化することができる。
ボリマーの橋かけ又は硬化は、テトラオルガノジシリル
オキシ基の濃度及び共重合体試料の厚みにもよるが、1
50乃至300℃の範囲の温度で0.5乃至20分間で
達成される。20乃至40メガラドといった標準的な線
量で電子線処理を利用しても硬化することができる。
本発明の橋かけ可能なシリコーンポリイミド、ポリエス
テル、ポリアミド又はポリカーボネートは、耐高温耐溶
剤性電線及びケーブル被覆として、及び液体射出成形可
能な材料として使用することができる。
テル、ポリアミド又はポリカーボネートは、耐高温耐溶
剤性電線及びケーブル被覆として、及び液体射出成形可
能な材料として使用することができる。
当業者が本発明をより良〈実施できる様に、以下の実施
例を、限定のためではなく例証のために示す。全ての部
は重量部である。
例を、限定のためではなく例証のために示す。全ての部
は重量部である。
実施例1
すでに引用した熊田らの方法に従って、100mlのジ
エチルエーテル中に85flinlt%のテトラメチル
ジクロロジシランを含むメチルクロロシラン残留物質5
0グラム(0,267モル)を、塩化ナトリウムで飽和
した水400m1とジエチルエーテル400m1との混
合物に滴加した。反応混合物を、塩化ナトリウム/氷浴
にて冷却した。塩化ナトリウム−エーテル混合物に、1
規定水酸化ナトリウム溶液を加え、HCfで中和した。
エチルエーテル中に85flinlt%のテトラメチル
ジクロロジシランを含むメチルクロロシラン残留物質5
0グラム(0,267モル)を、塩化ナトリウムで飽和
した水400m1とジエチルエーテル400m1との混
合物に滴加した。反応混合物を、塩化ナトリウム/氷浴
にて冷却した。塩化ナトリウム−エーテル混合物に、1
規定水酸化ナトリウム溶液を加え、HCfで中和した。
pHをメチルオレンジを用いて監視した。その後、エー
テル層を分離し、水洗した。その溶媒を真空中で除去し
て油状白色結晶を得た。生成物を窒素下で蒸留(180
乃至185℃)して40℃の融点を有する白色結晶質生
成物28グラムを得た。製造法及びガスクロマトグラフ
ィー分析から判断して、生成物は式(2)(D’ 、!
)で表わされるシリコーン環状物であった。
テル層を分離し、水洗した。その溶媒を真空中で除去し
て油状白色結晶を得た。生成物を窒素下で蒸留(180
乃至185℃)して40℃の融点を有する白色結晶質生
成物28グラムを得た。製造法及びガスクロマトグラフ
ィー分析から判断して、生成物は式(2)(D’ 、!
)で表わされるシリコーン環状物であった。
オクタメチルシクロテトラシロキサン26,75グラム
(90,4ミリモル)とD’、6.82グラム(25,
9ミリモル)とのそのままの混合物を、D′2が溶融す
るまで窒素下で加熱した。
(90,4ミリモル)とD’、6.82グラム(25,
9ミリモル)とのそのままの混合物を、D′2が溶融す
るまで窒素下で加熱した。
その混合物に対してジメチルシロキシ基及びジメチルジ
シリルオキシ基の総モル数を基準として0゜1モル%の
テトラフルオロメタンスルホン酸(トリフル酸)を加え
た。注射器を用いてトリフル酸を直接シリコーン環状物
に加える様に注意した。
シリルオキシ基の総モル数を基準として0゜1モル%の
テトラフルオロメタンスルホン酸(トリフル酸)を加え
た。注射器を用いてトリフル酸を直接シリコーン環状物
に加える様に注意した。
混合物が粘稠となったところで更に130℃に加熱した
。その混合物に対してテトラメチルシフタル酸無水−物
ジシロキサン(PADS)10グラム(23,5ミリモ
ル)を1時間かけて加えた。反応混合物を130℃で1
5時間加熱した。その混合物を加熱したまま、これに大
過剰の酸化マグネシウムを加え、もう1時間撹拌した。
。その混合物に対してテトラメチルシフタル酸無水−物
ジシロキサン(PADS)10グラム(23,5ミリモ
ル)を1時間かけて加えた。反応混合物を130℃で1
5時間加熱した。その混合物を加熱したまま、これに大
過剰の酸化マグネシウムを加え、もう1時間撹拌した。
得られた混合物を)P遇し、そして少量の無水フタル酸
及び未反応環状物を真空蒸留により除去した。製造法及
び液体クロマトグラフィーから判断して、ジメチル無水
フタル酸シロキシ単位で末端停止され、平均して約15
個のジメチルシロキン単位と2個のテトラメチルジシリ
ルオキシ単位を含むポリジメチルシロキサンが得られた
。
及び未反応環状物を真空蒸留により除去した。製造法及
び液体クロマトグラフィーから判断して、ジメチル無水
フタル酸シロキシ単位で末端停止され、平均して約15
個のジメチルシロキン単位と2個のテトラメチルジシリ
ルオキシ単位を含むポリジメチルシロキサンが得られた
。
実施例2
実施例1の無水フタル酸末端停止テトラメチルジシリル
オキシ含有ポリマー14.41グラム(8,142ミリ
モル)、2.2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフ
ェノキシ)フェニル]プロパンニ無水物6.79グラム
(13,06ミリモル)、メタフェニレンジアミン2.
34グラム(21,63ミリモル)、無水フタル酸連鎖
停止剤0.127グラム(O186ミリモル)、メチル
アミノピリジン0.11グラム(0,874ミリモル)
及びオルトジクロロベンゼン277グラムの混合物を、
撹拌しながら窒素下で2時間環流させた。イミド化に伴
なう水と142グラムのオルトジクロロベンゼンを、共
沸蒸留により回収した。反応混合物をもう6時間加熱し
た。冷却後、ブレンダーを用いて生成物をメタノール中
に沈澱させた。生成物をクロロホルム中に溶解し、そし
てメタノール中に再沈澱させた。製造法、ゲル浸透クロ
マトグラフィー及び29S5核磁気共鳴分析から判断し
て、80%の収率で23,983の数平均分子量を有し
、そして8.5モル%のテトラメチルジシリルオキシ基
を含むシリコーンポリイミド共重合体が得られた。
オキシ含有ポリマー14.41グラム(8,142ミリ
モル)、2.2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフ
ェノキシ)フェニル]プロパンニ無水物6.79グラム
(13,06ミリモル)、メタフェニレンジアミン2.
34グラム(21,63ミリモル)、無水フタル酸連鎖
停止剤0.127グラム(O186ミリモル)、メチル
アミノピリジン0.11グラム(0,874ミリモル)
及びオルトジクロロベンゼン277グラムの混合物を、
撹拌しながら窒素下で2時間環流させた。イミド化に伴
なう水と142グラムのオルトジクロロベンゼンを、共
沸蒸留により回収した。反応混合物をもう6時間加熱し
た。冷却後、ブレンダーを用いて生成物をメタノール中
に沈澱させた。生成物をクロロホルム中に溶解し、そし
てメタノール中に再沈澱させた。製造法、ゲル浸透クロ
マトグラフィー及び29S5核磁気共鳴分析から判断し
て、80%の収率で23,983の数平均分子量を有し
、そして8.5モル%のテトラメチルジシリルオキシ基
を含むシリコーンポリイミド共重合体が得られた。
実施例3
実施例2の方法に従い、実施例1の無水フタル酸末端停
止ポリジメチルシロキサン、パラフェニレンジアミン(
PPD)又はメタフェニレンジアミン(MPD)を伴な
ったPADS、及び無水フタル酸連鎖停止剤を用いて一
連のテトラメチルジシリルオキシ含有シリコーンポリイ
ミドを調製した。下記に、調製したポリマーの平均組成
を示した。ここで、DIs D’ 2はテトラメチルジ
シリルオキシ1モルに対しジメチルシロキシ7.5モル
のモル比を示し、そしてPADSSBPADA。
止ポリジメチルシロキサン、パラフェニレンジアミン(
PPD)又はメタフェニレンジアミン(MPD)を伴な
ったPADS、及び無水フタル酸連鎖停止剤を用いて一
連のテトラメチルジシリルオキシ含有シリコーンポリイ
ミドを調製した。下記に、調製したポリマーの平均組成
を示した。ここで、DIs D’ 2はテトラメチルジ
シリルオキシ1モルに対しジメチルシロキシ7.5モル
のモル比を示し、そしてPADSSBPADA。
PPD%MPD及び連鎖停止剤は前述のとおりである。
ポリマー#1:ランダム、50重工%シリコーン、PA
DS−Dos D’ 2 /BPADA/PPD。
DS−Dos D’ 2 /BPADA/PPD。
2%連鎖停止剤、
ポリマー#2:ランダム、50重量%シリコン、PAD
S−DIs D’ 2 /BPADA/MPD。
S−DIs D’ 2 /BPADA/MPD。
2%連鎖停止剤、
ポリマーストランダム、60重量%シリコーン、PAD
S−Dos D’ 2 /BPADA/MPD。
S−Dos D’ 2 /BPADA/MPD。
2%連鎖停止剤。
これらのポリマーの物理的性質及び溶解度(CHCb中
)を、橋かけの前後で測定した。橋かけは、ポリマース
トランドを200℃で10乃至20時間加熱して達成し
た。テトラメチルジシリルオキシ基を含まない以外はほ
ぼ同一組成のポリイミド共重合体は、200℃でなん口
も加熱した後も橋かけしなかった。この結果から、共重
合体中で−si SL−結合が最も熱的に弱い結合で
あることか示された。下記の結果が得られた。
)を、橋かけの前後で測定した。橋かけは、ポリマース
トランドを200℃で10乃至20時間加熱して達成し
た。テトラメチルジシリルオキシ基を含まない以外はほ
ぼ同一組成のポリイミド共重合体は、200℃でなん口
も加熱した後も橋かけしなかった。この結果から、共重
合体中で−si SL−結合が最も熱的に弱い結合で
あることか示された。下記の結果が得られた。
これらの結果は、−SL −SL−結合を含むシリコは
、最初に使用したテトラメチルジシリルオキシ基の重量
に基づく。
、最初に使用したテトラメチルジシリルオキシ基の重量
に基づく。
−ンポリイミドを、穏和な熱処理による加工の後、橋か
けさせ得ることを明確に示している。橋かけは、改良さ
れた耐溶剤性、改良された引張強さ及び一定の伸びをも
たらす。ケイ素含量を高くすることにより、高強度で耐
溶剤性物質を製造することができる。
けさせ得ることを明確に示している。橋かけは、改良さ
れた耐溶剤性、改良された引張強さ及び一定の伸びをも
たらす。ケイ素含量を高くすることにより、高強度で耐
溶剤性物質を製造することができる。
実施例4
実施例2の方法に従って、別のシリコーンポリイミドを
調製し、それを20メガラドの標弗線量で電子線照射に
付した。クロロホルムによる20時間の抽出の前と後に
各試料を秤瓜するゲル試験により橋かけの程度を測定し
た。シリコーンポリイミド共重合体を、照射前に約10
ミル厚みのフィルムに圧縮した。下記の結果が得られた
。ここで、「ポリマー」という項は、当該共重合体の分
子量に基づくケイ素の重量%と共重合体中の縮合ケイ素
含有シロキシ単位の量を示し、νt%Si SLこれ
らの結果は、 SL SL−基が存在すると、橋かけ
口が可成り増加することを例示している。
調製し、それを20メガラドの標弗線量で電子線照射に
付した。クロロホルムによる20時間の抽出の前と後に
各試料を秤瓜するゲル試験により橋かけの程度を測定し
た。シリコーンポリイミド共重合体を、照射前に約10
ミル厚みのフィルムに圧縮した。下記の結果が得られた
。ここで、「ポリマー」という項は、当該共重合体の分
子量に基づくケイ素の重量%と共重合体中の縮合ケイ素
含有シロキシ単位の量を示し、νt%Si SLこれ
らの結果は、 SL SL−基が存在すると、橋かけ
口が可成り増加することを例示している。
以−にの実施例は、本発明の橋かけ可能なシリコーン共
重合体及び該共重合体製造用の中間体の製造に使用する
ことができる極めて多くの変形例のうちのほんの僅かに
係わるが、これらの実施例の前の説明で示した様に、前
記共重合体及び中間体の極めて広範な変形例を製造し得
ることを理解すべきである。
重合体及び該共重合体製造用の中間体の製造に使用する
ことができる極めて多くの変形例のうちのほんの僅かに
係わるが、これらの実施例の前の説明で示した様に、前
記共重合体及び中間体の極めて広範な変形例を製造し得
ることを理解すべきである。
Claims (9)
- (1)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中Rは同一の又は異なる1価の炭素数1乃至14の
炭化水素基及び平衡化の間に不活性な1価の基で置換さ
れた炭素数1乃至14の炭化水素基から成る群から選ば
れる一員である] のテトラオルガノジシリルオキシ基が化学結合している
シリコーンポリイミド、シリコーンポリエステル、シリ
コーンポリアミド及びシリコーンポリカーボネートから
成る群から選ばれる橋かけ可能なシリコーン共重合体。 - (2)請求項1記載のシリコーンポリイミド。
- (3)請求項1記載のシリコーンポリエステル。
- (4)請求項1記載のシリコーンポリアミド。
- (5)請求項1記載のシリコーンポリカーボネート。
- (6)Rがメチルである請求項1記載のシリコーン共重
合体。 - (7)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ のテトラオルガノジシリルオキシ基と、式:▲数式、化
学式、表等があります▼ のアシル芳香族有機シロキシ基及び式: ▲数式、化学式、表等があります▼ の芳香族無水物シロキシ基から選ばれる末端官能基が縮
合しているポリジオルガノシロキサン[式中Rは同一の
又は異なる1価の炭素数1乃至14の炭化水素基及び平
衡化の間に不活性な1価の基で置換された炭素数1乃至
14の炭化水素基から成る群から選ばれる一員であり、
R^1及びR^2は炭素数6乃至14の芳香族有機基か
ら選ばれ、そしてXはハロゲン、アルコキシ、アリール
オキシ及びヒドロキシアリールオキシから選ばれる基で
ある。] - (8)テトラメチルジシリルオキシ基と末端クロロカル
ボキシフェニルジメチルシロキシ単位が縮合している請
求項7記載のポリジメチルシロキサン。 - (9)テトラメチルジシリルオキシ基と末端無水フタル
酸ジメチルシロキシ基が縮合している請求項7記載のポ
リジメチルシロキサン。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/433,814 US5034489A (en) | 1989-11-09 | 1989-11-09 | Silicone copolymers having tetraorganodisilyloxy groups and intermediates thereof |
US433,814 | 1989-11-09 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03188130A true JPH03188130A (ja) | 1991-08-16 |
Family
ID=23721628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2299110A Pending JPH03188130A (ja) | 1989-11-09 | 1990-11-06 | テトラオルガノジシリルオキシ基を有するシリコーン共重合体及びその中間体 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5034489A (ja) |
EP (1) | EP0427100A3 (ja) |
JP (1) | JPH03188130A (ja) |
KR (1) | KR910009783A (ja) |
AU (1) | AU639037B2 (ja) |
CA (1) | CA2025378A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5180801A (en) * | 1991-09-03 | 1993-01-19 | General Electric Company | Heat curable epoxy compositions |
US7199528B2 (en) * | 2005-04-21 | 2007-04-03 | Energy Conservation Technologies, Inc. | Control circuit for maintaining constant power in power factor corrected electronic ballasts and power supplies |
US20060293528A1 (en) * | 2005-06-24 | 2006-12-28 | General Electric Company | Method of purifying dianhydrides |
US20070141008A1 (en) * | 2005-12-16 | 2007-06-21 | Jones Dennis R | Cosmetic remover composition |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1256425B (de) * | 1963-12-12 | 1967-12-14 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Polysiloxysilpropylen-Derivaten |
US4130530A (en) * | 1977-04-08 | 1978-12-19 | General Electric Company | Cyclic siloxane plasticized polycarbonate composition |
FR2564470B1 (fr) * | 1984-05-18 | 1987-01-02 | Rhone Poulenc Spec Chim | Resine organosilicique a motifs disilaniques et a proprietes thermomecaniques ameliorees et en outre utilisables notamment pour l'hydrofugation du batiment |
US4761464A (en) * | 1986-09-23 | 1988-08-02 | Zeigler John M | Interrupted polysilanes useful as photoresists |
-
1989
- 1989-11-09 US US07/433,814 patent/US5034489A/en not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-09-14 CA CA002025378A patent/CA2025378A1/en not_active Abandoned
- 1990-10-31 EP EP19900120863 patent/EP0427100A3/en not_active Ceased
- 1990-11-06 JP JP2299110A patent/JPH03188130A/ja active Pending
- 1990-11-08 KR KR1019900018041A patent/KR910009783A/ko not_active Application Discontinuation
- 1990-11-08 AU AU65939/90A patent/AU639037B2/en not_active Ceased
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR910009783A (ko) | 1991-06-28 |
EP0427100A2 (en) | 1991-05-15 |
US5034489A (en) | 1991-07-23 |
CA2025378A1 (en) | 1991-05-10 |
EP0427100A3 (en) | 1992-05-06 |
AU6593990A (en) | 1991-05-16 |
AU639037B2 (en) | 1993-07-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3189662A (en) | Organopolysiloxane-polycarbonate block copolymers | |
EP0112845B1 (en) | Method for making silylnorbornane anhydrides | |
KR960015451B1 (ko) | 폴리이미드-실록산, 이의 제조방법 및 용도 | |
EP0386547B1 (en) | Silicone-polycarbonate block copolymers | |
JPS63500802A (ja) | 難燃性電線被覆組成物 | |
EP0113357A1 (en) | SILICONE IMID COPOLYMERS AND A METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF. | |
CA1250680A (en) | Organopolysiloxane-polyamide block polymers and method for making | |
US4595732A (en) | Siloxane imide diols and siloxane imide organic block polymers obtained therefrom | |
US4517342A (en) | Heat curable compositions | |
JPH0321579B2 (ja) | ||
JPH0553822B2 (ja) | ||
US5243009A (en) | Hydroxyarylestersiloxanes | |
FR2562080A1 (fr) | Composition de norbornane carboximide et procede de fabrication | |
JPH04342723A (ja) | 耐溶剤性シリコーンポリイミド | |
US4634610A (en) | Heat curable silicone polyimide compositions | |
JPH03188130A (ja) | テトラオルガノジシリルオキシ基を有するシリコーン共重合体及びその中間体 | |
CA1282534C (en) | Polyanhydride-siloxanes and polyimide-siloxanes obtained therefrom | |
US3579607A (en) | Polyester-substituted organosilicon compositions | |
JPH024835A (ja) | シリコーン―ポリアリールカーボネートブロック共重合体の製造法 | |
JPH0552340B2 (ja) | ||
JPH0555514B2 (ja) |