JPH03187904A - 粉体の製造方法及び装置 - Google Patents
粉体の製造方法及び装置Info
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- JPH03187904A JPH03187904A JP32742989A JP32742989A JPH03187904A JP H03187904 A JPH03187904 A JP H03187904A JP 32742989 A JP32742989 A JP 32742989A JP 32742989 A JP32742989 A JP 32742989A JP H03187904 A JPH03187904 A JP H03187904A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G3/00—Compounds of copper
- C01G3/02—Oxides; Hydroxides
-
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- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
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- C01B13/14—Methods for preparing oxides or hydroxides in general
- C01B13/36—Methods for preparing oxides or hydroxides in general by precipitation reactions in aqueous solutions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は金属塩の水溶液とアルカリとを反応させ水酸化
物又は酸化物等の粉体を得る方法に関するものであり、
更に詳しくは防汚材、触媒等に用いられる亜酸化銅の製
造法に関するものである。
物又は酸化物等の粉体を得る方法に関するものであり、
更に詳しくは防汚材、触媒等に用いられる亜酸化銅の製
造法に関するものである。
[従来技術]
従来から亜酸化銅の製造技術としては両極に銅を用い食
塩水を電解液として電解する方法が主流であった。しか
し電子工業の発展に伴ってプリント回路メーカー等から
多量の含銅液が排出されるようになり、第1銅塩を原料
とする方法が種々発表されている。特開昭54−663
97は塩化第1銅を原料として、これを一部残存させる
割合でアルカリを添加し、中和して亜酸化銅を生成させ
、次いで130〜180℃、1.5〜10kg/cnt
で熟成処理する方法を提案している。
塩水を電解液として電解する方法が主流であった。しか
し電子工業の発展に伴ってプリント回路メーカー等から
多量の含銅液が排出されるようになり、第1銅塩を原料
とする方法が種々発表されている。特開昭54−663
97は塩化第1銅を原料として、これを一部残存させる
割合でアルカリを添加し、中和して亜酸化銅を生成させ
、次いで130〜180℃、1.5〜10kg/cnt
で熟成処理する方法を提案している。
従来法では高濃度の塩化第1銅塩水にアルカリ溶液を直
接添加しているのでミクロ的にみた場合の反応条件は大
巾に変動しているため生成する亜酸化銅粉はおのずと不
均一になっている。この不均一性を緩和するために塩化
第1銅を3〜10%残存させる調合で反応させ、次いで
130〜180℃、1.5〜10kg/cI11の条件
で熟成処理が実施されるち ミクロ的にみた場合でも反応条件が安定で均一な亜酸化
銅が得られ、銅はすべて亜酸化銅に転換し、熟成処理が
100℃以下、常圧下で実施できる方法が強く要望され
ている。
接添加しているのでミクロ的にみた場合の反応条件は大
巾に変動しているため生成する亜酸化銅粉はおのずと不
均一になっている。この不均一性を緩和するために塩化
第1銅を3〜10%残存させる調合で反応させ、次いで
130〜180℃、1.5〜10kg/cI11の条件
で熟成処理が実施されるち ミクロ的にみた場合でも反応条件が安定で均一な亜酸化
銅が得られ、銅はすべて亜酸化銅に転換し、熟成処理が
100℃以下、常圧下で実施できる方法が強く要望され
ている。
本発明者等は上記の問題点を解決するものであって以下
の発明をなした。
の発明をなした。
(1)2組以上の隔膜室を独立に設置した反応槽を用い
、錯化剤等を含む金属塩の水溶液と、錯化剤等を含むア
ルカリ溶液とをそれぞれ異なる隔膜室に添加し、上記2
種の溶液を隔膜室外で反応させることを特徴とする粉体
の製造方法。
、錯化剤等を含む金属塩の水溶液と、錯化剤等を含むア
ルカリ溶液とをそれぞれ異なる隔膜室に添加し、上記2
種の溶液を隔膜室外で反応させることを特徴とする粉体
の製造方法。
(2) 上記(1)において金属塩が塩化第1銅でア
ルカリ溶液がN a OH及び/又はNa2CO3であ
ることを特徴とする亜酸化銅の製造方法。
ルカリ溶液がN a OH及び/又はNa2CO3であ
ることを特徴とする亜酸化銅の製造方法。
(3) (2)記載の方法で得られた亜酸化銅粉を不
活性ガス雰囲気下で85℃〜99℃に加熱することを特
徴とする亜酸化銅の製造方法。
活性ガス雰囲気下で85℃〜99℃に加熱することを特
徴とする亜酸化銅の製造方法。
(4) 反応時のp Hを塩化第1銅及び/又はアル
カリの添加速度で調整し 8.0〜12に保持する上記
(2)記載の亜酸化銅の製造方法。
カリの添加速度で調整し 8.0〜12に保持する上記
(2)記載の亜酸化銅の製造方法。
(5) 反応槽内に隔膜室を2組以上有し、液を保温
するヒーターと不活性ガス吹き込み装置を有することを
特徴とする粉体製造装置。
するヒーターと不活性ガス吹き込み装置を有することを
特徴とする粉体製造装置。
r問題を解決するための手段〕
本発明は独立して設置した2組以上の隔膜室を有する反
応槽を用い、金属塩の水溶液を異なる隔膜室に添加し、
該溶液を隔膜室外で反応させることを特徴とする。ここ
で本f@明で用いる金属塩は塩化第1銅、塩化第2銅、
鉄化合物、亜鉛化合物等である。またアルカリ溶液はN
a O8%Na。
応槽を用い、金属塩の水溶液を異なる隔膜室に添加し、
該溶液を隔膜室外で反応させることを特徴とする。ここ
で本f@明で用いる金属塩は塩化第1銅、塩化第2銅、
鉄化合物、亜鉛化合物等である。またアルカリ溶液はN
a O8%Na。
0、が好ましい。
以下亜酸化銅の製造を例にして本発明を具体的に述べる
。あらかじめ錯化剤例えばNaCQを反応槽に添加し溶
解しておく、この錯化剤は塩化第4 1銅を溶存させるためのものである。NaCf1が満た
された反応槽内の隔膜室の一方に上記錯化剤を含めた塩
化第1銅水を入れ、他方に上記錯化剤を含めたアルカリ
溶液を入れ、それぞれが隔膜室外に拡散し、連続的に反
応し、均一性の高い亜酸化銅を作製するものである。均
一性の高い故に熟成処理も大気圧下でかつ100℃以下
で十分である等の利点の多い方法を提供する。
。あらかじめ錯化剤例えばNaCQを反応槽に添加し溶
解しておく、この錯化剤は塩化第4 1銅を溶存させるためのものである。NaCf1が満た
された反応槽内の隔膜室の一方に上記錯化剤を含めた塩
化第1銅水を入れ、他方に上記錯化剤を含めたアルカリ
溶液を入れ、それぞれが隔膜室外に拡散し、連続的に反
応し、均一性の高い亜酸化銅を作製するものである。均
一性の高い故に熟成処理も大気圧下でかつ100℃以下
で十分である等の利点の多い方法を提供する。
本発明の方法に用いる隔膜室を構成する膜材は特に限定
するものでないが、隔膜室外液の室内への浸入が6液の
給液量によって防止できる関係を保つ必要がある。すな
わち、各室の給液量によって隔膜In(当り2〜10α
/分が流れる通液性を有する膜材が好ましい。例えば安
積濾紙■製のNF−4431があげられる。
するものでないが、隔膜室外液の室内への浸入が6液の
給液量によって防止できる関係を保つ必要がある。すな
わち、各室の給液量によって隔膜In(当り2〜10α
/分が流れる通液性を有する膜材が好ましい。例えば安
積濾紙■製のNF−4431があげられる。
隔膜室に給液する金属塩例えば塩化第1銅溶液の組成は
特に限定するものでないが銅50〜70g/Q、N a
CQ 200〜280 g / Qが好ましい。N
a CQ濃度を高めることによって許容銅濃度も高くな
るため200 g / Q以上が好ましいが280 g
/Q以上になると若干の温度差で結晶が出るなど不安定
になるため280 g/Ω以下とする。一方アルカリ溶
液は通常はNaOHが使用され、その濃度は反応させる
塩化第1銅塩溶液の当量濃度に近似させるのが好ましい
。供給銅量は隔膜1が当り1〜10kg/hが採用され
好ましくは3〜5kg/hである。供給銅量の低下は生
産性を低下させるのみならず亜酸化銅の粒径が大きくな
る。また、より高くなると微細粒が多い不均一な亜酸化
鋼となる。
特に限定するものでないが銅50〜70g/Q、N a
CQ 200〜280 g / Qが好ましい。N
a CQ濃度を高めることによって許容銅濃度も高くな
るため200 g / Q以上が好ましいが280 g
/Q以上になると若干の温度差で結晶が出るなど不安定
になるため280 g/Ω以下とする。一方アルカリ溶
液は通常はNaOHが使用され、その濃度は反応させる
塩化第1銅塩溶液の当量濃度に近似させるのが好ましい
。供給銅量は隔膜1が当り1〜10kg/hが採用され
好ましくは3〜5kg/hである。供給銅量の低下は生
産性を低下させるのみならず亜酸化銅の粒径が大きくな
る。また、より高くなると微細粒が多い不均一な亜酸化
鋼となる。
隔膜室外の反応ゾーンのp I(は8〜12が好ましい
。pHが、8以下では、溶存銅が残り好ましくないため
であり、更に粒径も微細となる。またpH=12以上で
あっても生成する亜酸化銅の粒径は小さくなる。
。pHが、8以下では、溶存銅が残り好ましくないため
であり、更に粒径も微細となる。またpH=12以上で
あっても生成する亜酸化銅の粒径は小さくなる。
不活性ガス例えばN3の吹込み量は反応槽低面積1ml
当り0.1Q〜5fi/minが好ましい。吹き込み量
が5Q/minより多くなると生成する亜酸化銅は微細
となり、吹き込み量が0.1Q/minより少なくなる
と反応槽内のpHの偏析が起り不均一な亜酸化銅になる
。
当り0.1Q〜5fi/minが好ましい。吹き込み量
が5Q/minより多くなると生成する亜酸化銅は微細
となり、吹き込み量が0.1Q/minより少なくなる
と反応槽内のpHの偏析が起り不均一な亜酸化銅になる
。
隔膜室外の反応ゾーンの温度は、35〜45℃が好まし
く35℃より低過ぎると生成する亜酸化銅の粒子は小さ
くなる。また45℃より高すぎると大きくなる。
く35℃より低過ぎると生成する亜酸化銅の粒子は小さ
くなる。また45℃より高すぎると大きくなる。
隔膜室外の反応ゾーンのp T−I調整は両給液のどち
らか一方の流速をコントロールして実施する。
らか一方の流速をコントロールして実施する。
通常はアルカリ側で行う。
以上の諸条件を適切に選択、隔膜室外で反応させること
によって、目的とする亜酸化銅が得られる。この理由は
、両給液が隔膜面から拡散し合って適切な濃度で均一、
かつ連続的に反応槽中の広範囲で反応するためと考えら
れる。
によって、目的とする亜酸化銅が得られる。この理由は
、両給液が隔膜面から拡散し合って適切な濃度で均一、
かつ連続的に反応槽中の広範囲で反応するためと考えら
れる。
引き続き実施する亜酸化銅の熟成処理は85℃〜99℃
で3〜6時間実施するのが好ましい。温度が高いほど短
時間で熟成が終了する。しかしながら99℃以上では、
突沸等の発生に加え耐圧容器を必要とするなど好ましく
ない。熟成処理における亜酸化銅濃度は50〜400
g/Qが採用できる。好ましくは300±50 g/Q
、である。50g/Q以下では生産性が悪く、400g
/Q以上では液の粘性が増し均一な撹拌が困難となる。
で3〜6時間実施するのが好ましい。温度が高いほど短
時間で熟成が終了する。しかしながら99℃以上では、
突沸等の発生に加え耐圧容器を必要とするなど好ましく
ない。熟成処理における亜酸化銅濃度は50〜400
g/Qが採用できる。好ましくは300±50 g/Q
、である。50g/Q以下では生産性が悪く、400g
/Q以上では液の粘性が増し均一な撹拌が困難となる。
使用液はNaC(4150〜300g/Q、防錆剤例え
ばグリセリン2〜15g/ffが好適である。
ばグリセリン2〜15g/ffが好適である。
NaCQ濃度が、150g/Qより低くては熟成時間を
長くする必要をきたし、300 g/Qより高すぎると
、増粘等による撹拌のl・ラブルを発生する。また防錆
剤の濃度は、2g/Qより低過ぎると効果がなく、15
g/Qより高すぎても害はないがコスト高をきたす。
長くする必要をきたし、300 g/Qより高すぎると
、増粘等による撹拌のl・ラブルを発生する。また防錆
剤の濃度は、2g/Qより低過ぎると効果がなく、15
g/Qより高すぎても害はないがコスト高をきたす。
以下添付図を用いて説明する。
第1図は本発明を実施する場合の反応槽の概略である。
lは隔膜室、2は反応槽本体、3は加熱用ヒーター、4
は液撹拌用不活性ガス吹込み管、5は反応後液及び生成
亜酸化銅抜取り1」である。
は液撹拌用不活性ガス吹込み管、5は反応後液及び生成
亜酸化銅抜取り1」である。
反応槽2及び隔膜室1に防錆剤例えばグリセリン入りN
aCf1水を入れる。ヒーター3で液温を所定値に保持
する。不活性ガス吹き込み管4から不活性ガス吹き込み
適切な撹拌を行う。次いで隔膜室1のいずれか一方に塩
化第1銅・NaCQ溶液を所定量宛添加し、他方にNa
Ca入りアルカリ溶液を入れる。各法はそれぞれの隔膜
室から少量ずつ流れ出し合って反応する。反応ゾーンは
各隔膜室間の下部周辺全体である。反応によって生成し
た亜酸化銅は反応後液と共に排出口5より排出され沈降
槽ないし濾過機に送られる。引き続き熟成処理、洗浄、
濾過、乾燥、解砕、篩別工程を経て製品化される。
aCf1水を入れる。ヒーター3で液温を所定値に保持
する。不活性ガス吹き込み管4から不活性ガス吹き込み
適切な撹拌を行う。次いで隔膜室1のいずれか一方に塩
化第1銅・NaCQ溶液を所定量宛添加し、他方にNa
Ca入りアルカリ溶液を入れる。各法はそれぞれの隔膜
室から少量ずつ流れ出し合って反応する。反応ゾーンは
各隔膜室間の下部周辺全体である。反応によって生成し
た亜酸化銅は反応後液と共に排出口5より排出され沈降
槽ないし濾過機に送られる。引き続き熟成処理、洗浄、
濾過、乾燥、解砕、篩別工程を経て製品化される。
以下実施例について詳述する。
[実施例1]
第1図に示した構造を有し反応槽本体120WX250
LX300H(m/m)、隔膜室30WX110LXI
60H(m/m)の反応槽にNaCQ 250、グリセ
リン 10g/Qの液を満たし一方の隔膜室にNaCQ
250゜Cu(1)70g/R,pH2の塩化第1
銅溶液をIQ、/hで供給し、他方にNaCA 25
0g/Qを含む1.1モルのNaOH水溶液を排出液の
p Hが9.5〜10.5となる流速で給液した。隔膜
室間は40m/mとした。 また浴温は40±2℃にコ
ントロールした。10h継続して20Qの反応後液を得
た。後液中の溶存銅は検出されなかった。移液から70
0gの亜酸化銅を得た。得られた亜酸化銅をNaCQ
250、グリセリン 10g/Qの液中に3o0g/
Qになるように添加し、N、雰囲気下で95℃、5時間
の熟成処理を実施した。熟成終了後、洗浄、乾燥を行っ
て698gの亜酸化銅を得た。得られた亜酸化銅は赤色
で平均粒径3.5μmの均−粉であった。 また防汚剤
として十分な特性であった。
LX300H(m/m)、隔膜室30WX110LXI
60H(m/m)の反応槽にNaCQ 250、グリセ
リン 10g/Qの液を満たし一方の隔膜室にNaCQ
250゜Cu(1)70g/R,pH2の塩化第1
銅溶液をIQ、/hで供給し、他方にNaCA 25
0g/Qを含む1.1モルのNaOH水溶液を排出液の
p Hが9.5〜10.5となる流速で給液した。隔膜
室間は40m/mとした。 また浴温は40±2℃にコ
ントロールした。10h継続して20Qの反応後液を得
た。後液中の溶存銅は検出されなかった。移液から70
0gの亜酸化銅を得た。得られた亜酸化銅をNaCQ
250、グリセリン 10g/Qの液中に3o0g/
Qになるように添加し、N、雰囲気下で95℃、5時間
の熟成処理を実施した。熟成終了後、洗浄、乾燥を行っ
て698gの亜酸化銅を得た。得られた亜酸化銅は赤色
で平均粒径3.5μmの均−粉であった。 また防汚剤
として十分な特性であった。
実施例から明らかなように、溶存銅をすべて亜酸化銅と
し、かつ低温、常圧下での熟成処理で赤色の均一な亜酸
化銅が得られ、製造コストが大1Jに改善される。
し、かつ低温、常圧下での熟成処理で赤色の均一な亜酸
化銅が得られ、製造コストが大1Jに改善される。
第1図は、本発明の一態様を示すものである。
Claims (5)
- (1)2組以上の隔膜室を独立に設置した反応槽を用い
、錯化剤等を含む金属塩の水溶液と、錯化剤等を含むア
ルカリ溶液とをそれぞれ異なる隔膜室に添加し、上記2
種の溶液を隔膜室外で反応させることを特徴とする粉体
の製造方法。 - (2)金属塩が塩化第1銅でアルカリ溶液がNaOH及
び又はNa_2CO_3であることを特徴とする亜酸化
銅粉の製造方法。 - (3)第2項記載の方法で得られた亜酸化銅を不活性ガ
ス雰囲気下で85℃〜99℃に加熱することを特徴とす
る亜酸化銅粉の製造方法。 - (4)反応時のpHを塩化第1銅及び又はアルカリ溶液
の添加速度によって調整し8.0〜12.0に保持する
ことを特徴とする第2項記載の亜酸化銅粉の製造方法。 - (5)反応槽内に隔膜室を2組以上有し、液を保温する
ヒーターと不活性ガス吹き込み装置を有することを特徴
とする粉体製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32742989A JPH03187904A (ja) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | 粉体の製造方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32742989A JPH03187904A (ja) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | 粉体の製造方法及び装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03187904A true JPH03187904A (ja) | 1991-08-15 |
Family
ID=18199072
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32742989A Pending JPH03187904A (ja) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | 粉体の製造方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03187904A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002083566A3 (en) * | 2001-03-22 | 2002-12-27 | Isagro Copper S R L | Method for preparing copper hydroxide and device used in the method |
-
1989
- 1989-12-19 JP JP32742989A patent/JPH03187904A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002083566A3 (en) * | 2001-03-22 | 2002-12-27 | Isagro Copper S R L | Method for preparing copper hydroxide and device used in the method |
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