JPH03183755A - 酸化物―セラミック材料の加熱吹付プロセス - Google Patents
酸化物―セラミック材料の加熱吹付プロセスInfo
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- JPH03183755A JPH03183755A JP2217988A JP21798890A JPH03183755A JP H03183755 A JPH03183755 A JP H03183755A JP 2217988 A JP2217988 A JP 2217988A JP 21798890 A JP21798890 A JP 21798890A JP H03183755 A JPH03183755 A JP H03183755A
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- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 32
- 238000005422 blasting Methods 0.000 title description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 56
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 56
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 56
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 34
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N Nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 23
- 229960001730 nitrous oxide Drugs 0.000 claims abstract description 22
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 claims abstract description 8
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 21
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- 239000012254 powdered material Substances 0.000 claims description 7
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims description 6
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 5
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 claims description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 3
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 3
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 claims description 3
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 13
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 239000002737 fuel gas Substances 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 3
- 239000012768 molten material Substances 0.000 description 3
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- NIOPZPCMRQGZCE-WEVVVXLNSA-N 2,4-dinitro-6-(octan-2-yl)phenyl (E)-but-2-enoate Chemical compound CCCCCCC(C)C1=CC([N+]([O-])=O)=CC([N+]([O-])=O)=C1OC(=O)\C=C\C NIOPZPCMRQGZCE-WEVVVXLNSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000001272 nitrous oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Chemical group 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical group 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
- C23C4/10—Oxides, borides, carbides, nitrides or silicides; Mixtures thereof
- C23C4/11—Oxides
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/01—Manufacture or treatment
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- H10N60/0492—Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers by thermal spraying, e.g. plasma deposition
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は酸化物−セラミック超伝導体の総組酸に一致す
る総組酸を有する酸化物−セラミック材料を加熱吹付す
るプロセスであって、粉状材料をバーナーの加熱炎中に
供給し、粉状材料を最初にまたは完全に溶融させて、吹
付はジェットとして支持材料に衝突させるプロセスに関
する。
る総組酸を有する酸化物−セラミック材料を加熱吹付す
るプロセスであって、粉状材料をバーナーの加熱炎中に
供給し、粉状材料を最初にまたは完全に溶融させて、吹
付はジェットとして支持材料に衝突させるプロセスに関
する。
酸化物−セラミック超伝導性材料の場合には、加熱吹付
を特に成形プロセスとして利用する。加熱吹付中に、材
料はそれらの超伝導性を失うかまたは超伝導性が失われ
ないとしても、著しく劣化する。それ故、吹付は沈＠Ｉ
Ｉの超伝導性を形成または改良するために、吹付は作業
後に吹付は層の熱後処理が必要になる。
を特に成形プロセスとして利用する。加熱吹付中に、材
料はそれらの超伝導性を失うかまたは超伝導性が失われ
ないとしても、著しく劣化する。それ故、吹付は沈＠Ｉ
Ｉの超伝導性を形成または改良するために、吹付は作業
後に吹付は層の熱後処理が必要になる。
熱後処理では、吹付は層を酸素中で酸素が吸収される温
度まで加熱し、次に酸素雰囲気中で徐冷する。このプロ
セスでは、熱後処理が幾つかの加熱冷却工程を含む、こ
れは時間を要し、コストが非常にかかることである。さ
らに、熱後処理は材料が支持材料から吹ｆ＝ｔけ層中に
拡散するかまたは吹付は層と化学的に反応するならば、
吹付は層中に好ましくない汚染物質をもたらすことにな
る。
度まで加熱し、次に酸素雰囲気中で徐冷する。このプロ
セスでは、熱後処理が幾つかの加熱冷却工程を含む、こ
れは時間を要し、コストが非常にかかることである。さ
らに、熱後処理は材料が支持材料から吹ｆ＝ｔけ層中に
拡散するかまたは吹付は層と化学的に反応するならば、
吹付は層中に好ましくない汚染物質をもたらすことにな
る。
本発明の目的は、支持材料上にすでに超伝導性であるか
または熱後処理なしに良好な超伝導性を有する酸化物−
セラミック吹付は層を形成する、序文に述べたようなプ
ロセスを提供することである。
または熱後処理なしに良好な超伝導性を有する酸化物−
セラミック吹付は層を形成する、序文に述べたようなプ
ロセスを提供することである。
本発明の目的は請求項１に述べた方法によって達成され
る。
る。
形成される吹付は層の酸素含量が主として吹付はプロセ
ス中に供給される！！１２素量に依存することが判明し
ている１元素分析は通常の空気中で吹付けられたＢｉ２
５ｒ２ＣａＣｕ２０ｘ層が低い酸素含量を有しくＢ＋ｚ
ＳｒｚＣａＣｕｚＯｔ、ｉ）、本発明によって補充酸素
を供給する場合（ＢｉｚＳ「ｚＣａＣｕｚＯ＊−ｎ；Ｔ
ｃ ＝ ８４ Ｋ ）よりも劣った超伝導性（Ｔｃ
＝８０Ｋ〉を有することを示す、同じことが例えばＹＢ
ａｚＣｕ３０ｘのような、他の酸化物−セラミック超伝
導性材料の渇きにも該当する。本発明によるプロセスで
は、ｆｔ加的な酸素、酸化二窒素またはオゾンを供給せ
ずに続けて熱後処理を行う通常の加熱吹ｆ１の場合より
も簡単、迅速に、かつ超伝導性層の断面にわたって均一
に酸素富化が達成される。加熱吹（＝ｆ条件下で、酸化
二窒素が分解して、原子状高反応性酸素と窒素酸化物と
が生ずる。
ス中に供給される！！１２素量に依存することが判明し
ている１元素分析は通常の空気中で吹付けられたＢｉ２
５ｒ２ＣａＣｕ２０ｘ層が低い酸素含量を有しくＢ＋ｚ
ＳｒｚＣａＣｕｚＯｔ、ｉ）、本発明によって補充酸素
を供給する場合（ＢｉｚＳ「ｚＣａＣｕｚＯ＊−ｎ；Ｔ
ｃ ＝ ８４ Ｋ ）よりも劣った超伝導性（Ｔｃ
＝８０Ｋ〉を有することを示す、同じことが例えばＹＢ
ａｚＣｕ３０ｘのような、他の酸化物−セラミック超伝
導性材料の渇きにも該当する。本発明によるプロセスで
は、ｆｔ加的な酸素、酸化二窒素またはオゾンを供給せ
ずに続けて熱後処理を行う通常の加熱吹ｆ１の場合より
も簡単、迅速に、かつ超伝導性層の断面にわたって均一
に酸素富化が達成される。加熱吹（＝ｆ条件下で、酸化
二窒素が分解して、原子状高反応性酸素と窒素酸化物と
が生ずる。
本発明によるプロセスでは、加熱吹付条件下で加熱され
る時に酸素を放出するが可逆的に再び酸素を吸収するこ
とのできる例えばＭＢａ２Ｃｕ＝Ｏｔ−ｘ（Ｍはイツト
リウムまたはＣｅ、Ｐｒ、Ｎｄ以外の希土類元素、０’
−ｘ≦１）１例えばＢ １２（Ｓ ｒ、Ｃａ）２Ｃｕｏ
ｘ。
る時に酸素を放出するが可逆的に再び酸素を吸収するこ
とのできる例えばＭＢａ２Ｃｕ＝Ｏｔ−ｘ（Ｍはイツト
リウムまたはＣｅ、Ｐｒ、Ｎｄ以外の希土類元素、０’
−ｘ≦１）１例えばＢ １２（Ｓ ｒ、Ｃａ）２Ｃｕｏ
ｘ。
Ｂ ｉ ｚ （Ｓ ｒ 、 Ｃａ ） ｓ ＣＬ１２０
ｘおよびＢ １ｚ（Ｓ ｒ、Ｃａ）＜Ｃｕ３０ｘ、の
ようなり１−５ｒ−Ｃａ−Ｃｕ−０，ならびにＴｌ−Ｂ
ａ−Ｃａ−Ｃｕ−０である酸化物−セラミック材料をす
べて用いることができる０本発明によって用いる酸化物
−セラミック材料は酸化物セラミック超伝導体の総組酸
に一致する総組酸を有するかまたは、酸素欠乏の結果と
して超伝導性ではなくなるが、他の点で酸化物−セラミ
ック超伝導体の総組酸を有する材料である０本発明によ
るプロセスでは、銅とイツトリウムを酸化物として含む
かまたは銅、ビスマス、ストロンチウムおよびカルシウ
ムを酸化物として含む酸化物−セラミック材料を用いる
のが好ましい。
ｘおよびＢ １ｚ（Ｓ ｒ、Ｃａ）＜Ｃｕ３０ｘ、の
ようなり１−５ｒ−Ｃａ−Ｃｕ−０，ならびにＴｌ−Ｂ
ａ−Ｃａ−Ｃｕ−０である酸化物−セラミック材料をす
べて用いることができる０本発明によって用いる酸化物
−セラミック材料は酸化物セラミック超伝導体の総組酸
に一致する総組酸を有するかまたは、酸素欠乏の結果と
して超伝導性ではなくなるが、他の点で酸化物−セラミ
ック超伝導体の総組酸を有する材料である０本発明によ
るプロセスでは、銅とイツトリウムを酸化物として含む
かまたは銅、ビスマス、ストロンチウムおよびカルシウ
ムを酸化物として含む酸化物−セラミック材料を用いる
のが好ましい。
加熱吹ｆ寸プロセスの中で、本発明によるプロセスは特
に溶射（ｆｌａ輸ｅ Ｓｐｒａｙｉｎｇ）およびＤＩ
Ｎ３２５３０に記載されている変形（ｖａｒｉａｎｔ）
によるプラズマジェット吹付けを用いる。溶射では粉状
材料が燃料ガス、／酸素火炎中で最初にまたは完全に溶
融してから、膨張性燃焼ガスのみによってまたはアトマ
イジングガス（ａｔｍｉｚｉｎｇ ｇａｓ）（例えば
圧縮空気）によって同時に補助された膨張性燃焼ガスに
よって支持材料上に推し進められる。酸素は燃料ガスを
燃焼させるために充分な量で燃料ガスに供給される。燃
料ガスとしてのアセチレンによると、３．１５０℃以下
の温度が得られる。プラズマジェット吹付けの場合には
、２０，０００℃以下の実質的に高い温度が得られる。
に溶射（ｆｌａ輸ｅ Ｓｐｒａｙｉｎｇ）およびＤＩ
Ｎ３２５３０に記載されている変形（ｖａｒｉａｎｔ）
によるプラズマジェット吹付けを用いる。溶射では粉状
材料が燃料ガス、／酸素火炎中で最初にまたは完全に溶
融してから、膨張性燃焼ガスのみによってまたはアトマ
イジングガス（ａｔｍｉｚｉｎｇ ｇａｓ）（例えば
圧縮空気）によって同時に補助された膨張性燃焼ガスに
よって支持材料上に推し進められる。酸素は燃料ガスを
燃焼させるために充分な量で燃料ガスに供給される。燃
料ガスとしてのアセチレンによると、３．１５０℃以下
の温度が得られる。プラズマジェット吹付けの場合には
、２０，０００℃以下の実質的に高い温度が得られる。
プラズマジェット吹付は中に、粉状材料はバーナーの内
側または外側でプラズマ火炎によって最初にまたは完全
に溶融してから、加速されて、支持材料上に推し進めら
れる。プラズマはカソードとアノードとの間の電気アー
ク衝突によって生ずる。プラズマガスとしては、例えば
アルゴン、ヘリウム、窒素またはこれらの混合物が用い
られる。電気的に中性のプラズマジェットが高速度およ
、び高温でプラズマバーナーから放出される。
側または外側でプラズマ火炎によって最初にまたは完全
に溶融してから、加速されて、支持材料上に推し進めら
れる。プラズマはカソードとアノードとの間の電気アー
ク衝突によって生ずる。プラズマガスとしては、例えば
アルゴン、ヘリウム、窒素またはこれらの混合物が用い
られる。電気的に中性のプラズマジェットが高速度およ
、び高温でプラズマバーナーから放出される。
酸素含量を例外として、超伝導体の総組酸に一致する総
組酸を有する酸化物−セラミック材料を粉末形としてキ
ャリヤーガスによって、バーナーの内側好ましくは外側
において加熱炎に供給する。
組酸を有する酸化物−セラミック材料を粉末形としてキ
ャリヤーガスによって、バーナーの内側好ましくは外側
において加熱炎に供給する。
粉状材料は加熱炎の高温によって溶融する、すなわち粉
末粒子の表面で最初に溶融する。最初にまたは完全に溶
融した材料を吹付はジェットとして支持材料上に吹付け
ると、溶融材料は吹付は層として支持材料上に沈着する
。加熱吹付の場合には、酸化物−セラミック材料は酸素
を失い、超伝導性の損失または低下が生ずる０本発明に
よるプロセスは吹付はジェットが支持材料上に衝突する
まで吹付はジェットに酸素を再び富化し、その結果良好
な超伝導性を有する吹付は層が得られる。
末粒子の表面で最初に溶融する。最初にまたは完全に溶
融した材料を吹付はジェットとして支持材料上に吹付け
ると、溶融材料は吹付は層として支持材料上に沈着する
。加熱吹付の場合には、酸化物−セラミック材料は酸素
を失い、超伝導性の損失または低下が生ずる０本発明に
よるプロセスは吹付はジェットが支持材料上に衝突する
まで吹付はジェットに酸素を再び富化し、その結果良好
な超伝導性を有する吹付は層が得られる。
ｆ１加的な酸素、酸化二窒素またはオゾンを好ましζは
バーナーの外側において特にバーナーの出口に才３いて
加熱炎および／または吹付ジェットに供給する。酸素富
化空気を用いることができるが、純粋な酸素を供給する
ことが好ましい、粉状材料を加熱炎中にバーナーの外側
で供給する場合には、粉状材料と同じ個所から酸素、酸
化二窒素またはオゾンを供給することができる。しかし
、酸素、酸化二窒素またはオゾンを吹付はジェット中に
逐次にのみ供給することもできる。
バーナーの外側において特にバーナーの出口に才３いて
加熱炎および／または吹付ジェットに供給する。酸素富
化空気を用いることができるが、純粋な酸素を供給する
ことが好ましい、粉状材料を加熱炎中にバーナーの外側
で供給する場合には、粉状材料と同じ個所から酸素、酸
化二窒素またはオゾンを供給することができる。しかし
、酸素、酸化二窒素またはオゾンを吹付はジェット中に
逐次にのみ供給することもできる。
加熱炎または吹付ジェットの周囲に複数個の供給管また
はノズルを配置することが好ましい、酸化物−セラミッ
ク材料を酸素、酸化二窒素またはオゾンと共にあらゆる
面から均一に供給するために、加熱炎または吹付はジェ
ットの周囲に配置した環状ノズルによって供給を実施す
ることが好ましい、供給管またはノズルは酸素、酸化二
窒素またはオゾンが吹付ジェットの流れの方向に対して
垂直に供給されるように配置する。他の好ましい実施態
様では、酸素、酸化二窒素またはオゾンを吹付はジェッ
トの流れの方向と鋭角をなす流れで供給する。加熱炎ま
たは吹付はジェットを酸素、酸化二窒素またはオゾン供
給で包囲するために、ロード型アタッチメント（ｆ ｕ
ｎｎｅ ｌ−５ｈａｐｅｄａＬｔａｃｌ＋輪ｅｎｔ）を
供給管またはノズルからの酸素、酸化二窒素またはオゾ
ンの出口の下流で加熱炎および／または吹付はジェット
の周囲に配置することができる０例えば、ロード型アタ
ッチメントを環状ノズル上にねじで留めることができる
。これによって加熱炎と吹付はジェットは酸素、酸化二
窒素またはオゾンによって包囲される。酸素、酸化二窒
素またはオゾンをキャリヤーガスに加え、キャリヤーガ
スと共に粉状酸化物−セラミック材料をバーナーの加熱
炎に供給することによって、酸素、酸化二窒素またはオ
ゾンを粉状材料と共に供給することができる。キャリヤ
ーガスとして酸素のみを用いることも可能である。
はノズルを配置することが好ましい、酸化物−セラミッ
ク材料を酸素、酸化二窒素またはオゾンと共にあらゆる
面から均一に供給するために、加熱炎または吹付はジェ
ットの周囲に配置した環状ノズルによって供給を実施す
ることが好ましい、供給管またはノズルは酸素、酸化二
窒素またはオゾンが吹付ジェットの流れの方向に対して
垂直に供給されるように配置する。他の好ましい実施態
様では、酸素、酸化二窒素またはオゾンを吹付はジェッ
トの流れの方向と鋭角をなす流れで供給する。加熱炎ま
たは吹付はジェットを酸素、酸化二窒素またはオゾン供
給で包囲するために、ロード型アタッチメント（ｆ ｕ
ｎｎｅ ｌ−５ｈａｐｅｄａＬｔａｃｌ＋輪ｅｎｔ）を
供給管またはノズルからの酸素、酸化二窒素またはオゾ
ンの出口の下流で加熱炎および／または吹付はジェット
の周囲に配置することができる０例えば、ロード型アタ
ッチメントを環状ノズル上にねじで留めることができる
。これによって加熱炎と吹付はジェットは酸素、酸化二
窒素またはオゾンによって包囲される。酸素、酸化二窒
素またはオゾンをキャリヤーガスに加え、キャリヤーガ
スと共に粉状酸化物−セラミック材料をバーナーの加熱
炎に供給することによって、酸素、酸化二窒素またはオ
ゾンを粉状材料と共に供給することができる。キャリヤ
ーガスとして酸素のみを用いることも可能である。
バーナーと支持材料との間の吹付け￥Ｉｒ！ｌｌを大き
くするならば、特に酸素富化吹付は層すなわち特に良好
な超１云導性が得られる。しかし、距離が大きくなると
共に吹１１け損失を増大するために、過度に大きい距離
を選択することはできない。それ故、通常用いる吹（＝
ｆけ距離の範囲内でできるかぎり大きい吹ｆ・ｔｉｔ距
離を選択する。
くするならば、特に酸素富化吹付は層すなわち特に良好
な超１云導性が得られる。しかし、距離が大きくなると
共に吹１１け損失を増大するために、過度に大きい距離
を選択することはできない。それ故、通常用いる吹（＝
ｆけ距離の範囲内でできるかぎり大きい吹ｆ・ｔｉｔ距
離を選択する。
次に、本発明によるプロセスを図面と具体的な実施態様
に関連してさ？、に訂細に説明する。
に関連してさ？、に訂細に説明する。
プラズマバーナー］の内側の中央にロッド様カソード２
を配置する。バーナー出口には、環状アノード３を配置
する。カソード２とアノード３には冷却水チャンネル４
を備える。高エネルギー密度の電気アークをカソード２
とアノード３との間て衝突させる。電気アークはその然
エネルギーの大部分をプラズマガス５に供給し、その結
果としてプラズマガス５は部分的にイオン化される。２
原子ガス（ｄｉａｔｏｍｉｅ ｇａｓ）が最初に解離し
て、プラズマバーナー１の外側で再び吸収される熟エネ
ルギーを供給する。酸化物−セラミック材料は粉末穴「
コアから高速度でバーナー出口から出るプラズマ火炎６
中にバーナー出口にわいて送給される。
を配置する。バーナー出口には、環状アノード３を配置
する。カソード２とアノード３には冷却水チャンネル４
を備える。高エネルギー密度の電気アークをカソード２
とアノード３との間て衝突させる。電気アークはその然
エネルギーの大部分をプラズマガス５に供給し、その結
果としてプラズマガス５は部分的にイオン化される。２
原子ガス（ｄｉａｔｏｍｉｅ ｇａｓ）が最初に解離し
て、プラズマバーナー１の外側で再び吸収される熟エネ
ルギーを供給する。酸化物−セラミック材料は粉末穴「
コアから高速度でバーナー出口から出るプラズマ火炎６
中にバーナー出口にわいて送給される。
粉状材料はプラズマ火炎６の高温によって最初にまたは
完全に融きしてから、吹イ４けジェット８としてプラズ
マガスと共に支持材料９」−に衝突し、そこで吹付は層
１０として沈着する。矢印はキャリヤー物質１０の進行
方向を示す。第１図の吹付は方向に見られるように、管
１２から酸素を供給される環状ノズル１１を粉末穴ロア
の後方に配置する。ノズル間口１３は支持材料の方向を
向いており、その結果酸素は吹ｆ′−ｔけジェット８の
流れの方向と鋭角をなす流れで、吹付はジェット８とプ
ラズマ火炎先端とに供給される。吹ｒ＝ｔけジェット８
の周囲に配置されるローｌ−型アタッチメント１４はバ
ーナー出口に隣接する。
完全に融きしてから、吹イ４けジェット８としてプラズ
マガスと共に支持材料９」−に衝突し、そこで吹付は層
１０として沈着する。矢印はキャリヤー物質１０の進行
方向を示す。第１図の吹付は方向に見られるように、管
１２から酸素を供給される環状ノズル１１を粉末穴ロア
の後方に配置する。ノズル間口１３は支持材料の方向を
向いており、その結果酸素は吹ｆ′−ｔけジェット８の
流れの方向と鋭角をなす流れで、吹付はジェット８とプ
ラズマ火炎先端とに供給される。吹ｒ＝ｔけジェット８
の周囲に配置されるローｌ−型アタッチメント１４はバ
ーナー出口に隣接する。
第２図の実施態様では、粉末穴ロアと酸素入口はバーナ
ー出口に同じレベルで配置される。酸素は３個の管１２
から供給される。これらの管１２と粉末穴ロアどは相互
に対して９０”だけずれるように配置される（第３図参
照）。この実施態様では酸素をノズル１３から、あらゆ
るｉｊ：ｊ、Ａに吹付はジェットの流れの方向に垂直で
ある流れでプラズマ火炎に供給される。
ー出口に同じレベルで配置される。酸素は３個の管１２
から供給される。これらの管１２と粉末穴ロアどは相互
に対して９０”だけずれるように配置される（第３図参
照）。この実施態様では酸素をノズル１３から、あらゆ
るｉｊ：ｊ、Ａに吹付はジェットの流れの方向に垂直で
ある流れでプラズマ火炎に供給される。
大晃員上
超伝導性ｌ３ｉｚＳｒ２ＣａＣｕ２０＋ｏ−ｘ粉末（粒
度１１００Ｎ未満）をプラズマジェット吹ｆ１け系に供
給した、この吹（＝ｔけ系では吹１・ｔけジェットの流
れの方向に対して垂直に純粋酸素を供給する３個の酸素
ノズルが吹付はジエツＩ・の周囲に配置されている（第
２図と第３図参照）。最初にまたは完全に溶融した材料
をＭ、Ｏ支持プレート上に１．３０ｍｍの吹ｆ−ｔけ距
離で吹１１′けた。形成された吹付は層は元素分析によ
って測定されたｌ３ｉｚＳｒ２ＣａＣｕｚ０．４の組成
と、８□１にの臨界温度Ｔｃ［ＡＣ感受性測定（ＡＣ５
ｕｓｃｅｐｔｉｌｒｉｌｉｔｙ ｍｅａｒｕｒｅｍｅ
ｎｔ）］とを有した。
度１１００Ｎ未満）をプラズマジェット吹ｆ１け系に供
給した、この吹（＝ｔけ系では吹１・ｔけジェットの流
れの方向に対して垂直に純粋酸素を供給する３個の酸素
ノズルが吹付はジエツＩ・の周囲に配置されている（第
２図と第３図参照）。最初にまたは完全に溶融した材料
をＭ、Ｏ支持プレート上に１．３０ｍｍの吹ｆ−ｔけ距
離で吹１１′けた。形成された吹付は層は元素分析によ
って測定されたｌ３ｉｚＳｒ２ＣａＣｕｚ０．４の組成
と、８□１にの臨界温度Ｔｃ［ＡＣ感受性測定（ＡＣ５
ｕｓｃｅｐｔｉｌｒｉｌｉｔｙ ｍｅａｒｕｒｅｍｅ
ｎｔ）］とを有した。
比七ヱ１−
た点以外は、例１を同様にくり返した。形成された吹付
は層はＢ ＋ ２ Ｓ ｒ ２ Ｃａ Ｃｕ ２０ ｔ
、 ＊の組成と８０にの臨界温度（ＡＣ感受性測定）
とを有した。
は層はＢ ＋ ２ Ｓ ｒ ２ Ｃａ Ｃｕ ２０ ｔ
、 ＊の組成と８０にの臨界温度（ＡＣ感受性測定）
とを有した。
及止燵ｉ
Ｙ Ｉ３ ａ２ＣＬｌ＝ Ｏｒ−ｘ （粒度１００１ｍ
未満）を例１の吹ｆ＝ｔけ系に超伝導性粉末として用い
た、この材料は１．３０＋ｎｍの吹付は距離でＺ ｒ
Ｏ２支持プレート上にノズルから供給される酸素によっ
て沈着した。
未満）を例１の吹ｆ＝ｔけ系に超伝導性粉末として用い
た、この材料は１．３０＋ｎｍの吹付は距離でＺ ｒ
Ｏ２支持プレート上にノズルから供給される酸素によっ
て沈着した。
形成された吹付は層はＹＢａｚＣｕｓＯｔ−ｓの組成と
８６にの臨界温度Ｔｃを有した。
８６にの臨界温度Ｔｃを有した。
Ｌ艷涯止
酸素をノズルから吹付はジェットに供給しなかった点以
外は、例２を同様にくり返した。形成された吹付は層は
ＹＢａｚＣｕｓＯｓｌの組成を有し、半導性であった。
外は、例２を同様にくり返した。形成された吹付は層は
ＹＢａｚＣｕｓＯｓｌの組成を有し、半導性であった。
及東燵工
超伝導性材料Ｂ ｉ２Ｓ ｒ２ｃ ａＣｕ２０ ｘを例
１の吹ｆｔけ系に供給した、この材料をノズルから供給
される酸素によって、支持プレート上に種々な吹付け次
の結果が得られた： 番 の Ｔｃ１００＋ａｍ
ｌＢｉ２５ｒ２ＣａＣｕ２０ｔ、ｓ ６０に
１２０ｍｍ Ｂｉ２５ｒ２ＣａＣｕｚＯａ、ｚ
６５に１３０ｍｍ ｆｌｉ２ｓｒ２ｃａｃｕ
２０ａ、ｓ ７０ＫＸ族箆工 吹付は距離１２０１１１１＃によって例３で得られた超
伝導性材料に対して、下記温度ステジュールによって酸
素雰囲気において熱後処理を実施した：この材料は熱後
処理の後に熱処理の前と同じ組成すなわちＢ ｉ ２
Ｓ ｒ ２ Ｃａ Ｃｕ ２０ ｇ 、 ２を有した。
１の吹ｆｔけ系に供給した、この材料をノズルから供給
される酸素によって、支持プレート上に種々な吹付け次
の結果が得られた： 番 の Ｔｃ１００＋ａｍ
ｌＢｉ２５ｒ２ＣａＣｕ２０ｔ、ｓ ６０に
１２０ｍｍ Ｂｉ２５ｒ２ＣａＣｕｚＯａ、ｚ
６５に１３０ｍｍ ｆｌｉ２ｓｒ２ｃａｃｕ
２０ａ、ｓ ７０ＫＸ族箆工 吹付は距離１２０１１１１＃によって例３で得られた超
伝導性材料に対して、下記温度ステジュールによって酸
素雰囲気において熱後処理を実施した：この材料は熱後
処理の後に熱処理の前と同じ組成すなわちＢ ｉ ２
Ｓ ｒ ２ Ｃａ Ｃｕ ２０ ｇ 、 ２を有した。
第１図はプラズマバーナーの第１実施態様と最初にまた
は完全にＭ合した材料が支持材料上に衝突するまでの経
路との概略断面図であり；第２図はプラズマバーナーの
第２実施態様の概略断面図であり； 第３図は第２図のプラズマバーナーのラインＡ−Ａに沿
った断面図を示す。 １・・・プラズマバーナー ２・・・カソード３・・・
アノード ４・・・冷却水チャンネル５・・・
プラズマガス ６・・・プラズマ火炎７・・・粉末
人口 ８・・・吹付はジェット９・・・支持材
料 １０・・・吹付は層１１・・・環状ノズル １４・・・ロード型アタッチメント （外４名ン 平成 ２年１２月７３日
は完全にＭ合した材料が支持材料上に衝突するまでの経
路との概略断面図であり；第２図はプラズマバーナーの
第２実施態様の概略断面図であり； 第３図は第２図のプラズマバーナーのラインＡ−Ａに沿
った断面図を示す。 １・・・プラズマバーナー ２・・・カソード３・・・
アノード ４・・・冷却水チャンネル５・・・
プラズマガス ６・・・プラズマ火炎７・・・粉末
人口 ８・・・吹付はジェット９・・・支持材
料 １０・・・吹付は層１１・・・環状ノズル １４・・・ロード型アタッチメント （外４名ン 平成 ２年１２月７３日
Claims (17)
- １．酸化物−セラミック超伝導体の総組成と、酸素含量
を除いて、一致する総組成を有する酸化物−セラミック
材料の加熱吹付プロセスであって、粉状材料をバーナー
の加熱炎中に供給して、加熱炎中で最初にまたは完全に
溶融させてから、吹付けジェットとして支持材料に衝突
させることから成り、加熱炎および／または吹付けジェ
ットに付加的に酸素、酸化二窒素またはオゾンを供給す
るプロセス。 - ２．酸素、酸化二窒素またはオゾンをバーナー出口にお
いて供給する請求項１記載のプロセス。 - ３．酸素を酸素富化空気として供給する請求項１または
２記載のプロセス。 - ４．純粋酸素を供給する請求項１または２記載のプロセ
ス。 - ５．酸素、酸化二窒素またはオゾンを粉状材料と同じ個
所から加熱炎に供給する請求項１〜４のいずれかに記載
のプロセス。 - ６．酸素、酸化二窒素またはオゾンを加熱炎および／ま
たは吹付けジェットの周囲に配置した１個以上の供給管
またはノズルから供給する請求項１〜５のいずれかに記
載のプロセス。 - ７．酸素、酸化二窒素またはオゾンを加熱炎および／ま
たは吹付けジェットの周囲に配置した環状ノズルから供
給する請求項１〜５のいずれかに記載のプロセス。 - ８．酸素、酸化二窒素またはオゾンを吹付けジェットの
流れの方向に垂直な方向の流れで、加熱炎および／また
は吹付けジェットに供給する請求項１〜７のいずれかに
記載のプロセス。 - ９．酸素、酸化二窒素またはオゾンを吹付けジェットの
流れの方向と鋭角をなす流れで、加熱炎および／または
吹付けジェットに供給する請求項１〜７のいずれかに記
載のプロセス。 - １０．酸素、酸化二窒素またはオゾンを供給管またはノ
ズルから出た後に、加熱炎および／または吹付けジェッ
トの周囲に配置したロード型アタッチメントを通して流
れさせる請求項９記載のプロセス。 - １１．粉状材料をバーナーの加熱炎中に供給するために
用いるキャリヤーガスに、酸素、酸化二窒素またはオゾ
ンを添加する請求項１〜１０のいずれかに記載のプロセ
ス。 - １２．粉状材料を加熱炎中に供給するためのキャリヤー
ガスとして酸素を用いる請求項１〜１０のいずれかに記
載のプロセス。 - １３．酸化物−セラミック材料が銅を酸化物形で含む請
求項１〜１０のいずれかに記載のプロセス。 - １４．酸化物−セラミック材料がビスマスまたはイット
リウムを酸化物形で含む請求項１３記載のプロセス。 - １５．酸化物−セラミック材料がビスマス、ストロンチ
ウムおよびカルシウムを酸化物形で含む請求項１３記載
のプロセス。 - １６．溶射またはプラズマジェット吹付けを用いる請求
項１〜１５のいずれかに記載のプロセス。 - １７．バーナーと支持材料との間に通常用いられる吹付
け距離の範囲内でできるかぎり大きい吹付け距離を選択
する請求項１〜１６のいずれかに記載のプロセス。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3927168.4 | 1989-08-17 | ||
| DE3927168A DE3927168A1 (de) | 1989-08-17 | 1989-08-17 | Verfahren zum thermischen spritzen von oxidkeramischen supraleitenden materialien |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03183755A true JPH03183755A (ja) | 1991-08-09 |
Family
ID=6387296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2217988A Pending JPH03183755A (ja) | 1989-08-17 | 1990-08-17 | 酸化物―セラミック材料の加熱吹付プロセス |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0413296A1 (ja) |
| JP (1) | JPH03183755A (ja) |
| DE (1) | DE3927168A1 (ja) |
| IE (1) | IE902972A1 (ja) |
| PT (1) | PT95010A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012136782A (ja) * | 2012-04-16 | 2012-07-19 | Tocalo Co Ltd | 白色酸化イットリウム溶射皮膜表面の改質方法および酸化イットリウム溶射皮膜被覆部材 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4035030A1 (de) * | 1990-09-27 | 1992-04-02 | Hoechst Ag | Thermisch gespritzte dickschichten |
| EP0960955A1 (en) | 1998-05-26 | 1999-12-01 | Universiteit Gent | Method and apparatus for flame spraying to form a tough coating |
| JP2003129212A (ja) * | 2001-10-15 | 2003-05-08 | Fujimi Inc | 溶射方法 |
| JP3965103B2 (ja) * | 2002-10-11 | 2007-08-29 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 高速フレーム溶射機及びそれを用いた溶射方法 |
| DE10331664B4 (de) * | 2003-07-12 | 2006-11-02 | Forschungszentrum Jülich GmbH | Verfahren zum Plasmaspritzen sowie dazu geeignete Vorrichtung |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2155217A1 (de) * | 1971-11-06 | 1973-05-10 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur herstellung dielektrischer und/oder photoleitfaehiger schichten fuer den elektrostatischen druck bzw. elektrophotographie |
| EP0286135A3 (en) * | 1987-04-10 | 1990-12-19 | Sumitomo Electric Industries Limited | Method for producing ceramic oxide superconductor |
| EP0288711B1 (en) * | 1987-04-28 | 1995-02-22 | International Business Machines Corporation | Rapid, large area coating of high-Tc superconductors |
| KR910007382B1 (ko) * | 1987-08-07 | 1991-09-25 | 가부시기가이샤 히다찌세이사꾸쇼 | 초전도 재료 및 초전도 박막의 제조방법 |
| DE3744144A1 (de) * | 1987-12-24 | 1989-07-06 | Asea Brown Boveri | Supraleiter und verfahren zu seiner herstellung |
| JPH01172220A (ja) * | 1987-12-26 | 1989-07-07 | Tokai Univ | 超電導材の製造方法 |
| CN1036286A (zh) * | 1988-02-24 | 1989-10-11 | 珀金·埃莱姆公司 | 超导陶瓷的次大气压等离子体喷涂 |
-
1989
- 1989-08-17 DE DE3927168A patent/DE3927168A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-08-14 EP EP90115548A patent/EP0413296A1/de not_active Withdrawn
- 1990-08-16 IE IE297290A patent/IE902972A1/en unknown
- 1990-08-16 PT PT95010A patent/PT95010A/pt not_active Application Discontinuation
- 1990-08-17 JP JP2217988A patent/JPH03183755A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012136782A (ja) * | 2012-04-16 | 2012-07-19 | Tocalo Co Ltd | 白色酸化イットリウム溶射皮膜表面の改質方法および酸化イットリウム溶射皮膜被覆部材 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PT95010A (pt) | 1991-04-18 |
| IE902972A1 (en) | 1991-02-27 |
| DE3927168A1 (de) | 1991-02-21 |
| EP0413296A1 (de) | 1991-02-20 |
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