JPH0316986A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPH0316986A JPH0316986A JP63215546A JP21554688A JPH0316986A JP H0316986 A JPH0316986 A JP H0316986A JP 63215546 A JP63215546 A JP 63215546A JP 21554688 A JP21554688 A JP 21554688A JP H0316986 A JPH0316986 A JP H0316986A
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- chip
- lead
- cap
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- Granted
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- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims 1
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/50—Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/161—Cap
- H01L2924/1615—Shape
- H01L2924/16195—Flat cap [not enclosing an internal cavity]
Landscapes
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置に関し、特にセラミックパッケージ
構造を有する半導体装置に関する。
構造を有する半導体装置に関する。
従来この種のセラミックパッケージを備えた半導体装置
は、ICチップの絶縁性や応力緩和のために絶縁板や金
属板を用いている。
は、ICチップの絶縁性や応力緩和のために絶縁板や金
属板を用いている。
第2図はかかる従来の一例を説明するための半導体装置
の断面図である。
の断面図である。
第2図に示すように、かかる半導体装置は、セラミック
ベース1の上面中央部に設けた素子載置用ブロック2と
ブロック?の周囮に設けた内部リード3と内部リード3
に接続されセラミックベース1を貫通して下面に導出し
た外部リード4とを有ずるセラミックパッケージと、ブ
ロック2のよに載置されリート6により内部リード3に
フェースダウンホンディング接続されるI. Cチップ
5と、金属筒7とこの金属筒7の一端を金属ろう10て
接着した金属板12とこの金属板12の上面に積層され
た絶縁板1.3とを有するキャップとを備え、このキャ
ップをICチップ5に接して前記セラミックパッケーシ
にかぶせ、金属筒7の他端とセラミックベース1の外周
側面をはんた11を用いて接合し、前記セラミックパッ
ケージを気密封止して構成される。
ベース1の上面中央部に設けた素子載置用ブロック2と
ブロック?の周囮に設けた内部リード3と内部リード3
に接続されセラミックベース1を貫通して下面に導出し
た外部リード4とを有ずるセラミックパッケージと、ブ
ロック2のよに載置されリート6により内部リード3に
フェースダウンホンディング接続されるI. Cチップ
5と、金属筒7とこの金属筒7の一端を金属ろう10て
接着した金属板12とこの金属板12の上面に積層され
た絶縁板1.3とを有するキャップとを備え、このキャ
ップをICチップ5に接して前記セラミックパッケーシ
にかぶせ、金属筒7の他端とセラミックベース1の外周
側面をはんた11を用いて接合し、前記セラミックパッ
ケージを気密封止して構成される。
上述した従来の半導体装置は、ICチップと接して金属
製キャップとセラミックヘースか接合されてセラミック
パッケーシが接着されているので、ICチップとキャッ
プとが電気的に導通している。従って、ICチップを絶
縁するためキャップ上面にセラミック板等の絶縁板を取
り付けねばならないという欠点がある。
製キャップとセラミックヘースか接合されてセラミック
パッケーシが接着されているので、ICチップとキャッ
プとが電気的に導通している。従って、ICチップを絶
縁するためキャップ上面にセラミック板等の絶縁板を取
り付けねばならないという欠点がある。
本発明の目的は、上述したICチップとの絶縁性を高め
、放熱特性を向上させるとともにはんだ付けの際などの
熱膨張の差による応力をも緩和させることのできる半導
体装置を提供ずることにある。
、放熱特性を向上させるとともにはんだ付けの際などの
熱膨張の差による応力をも緩和させることのできる半導
体装置を提供ずることにある。
本発明の半導体装置は、セラミックベースの上面中央部
に設けた素子載置用ブロックと前記ブロックの周囲の前
記セラミックベース上に設けた内部り−1・と前記内部
リートに接続し前記セラミックヘースを貫通して下面に
導出した外部リードとを有するセラミックパッケージと
、前記ブロック上に載置して前記内部リードにフェース
タウンホンテインクされるICチップと、前記ICチッ
プ上に接して載置した窒化アルミニウム板と前記窒化ア
ルミニウム板の周縁に銅箔を介して接着される金属筒と
を有するキャップとを備え、前記金属筒の他端を前記セ
ラミックベースの周縁に接合して前記セラミックパッケ
ージを気密封止するように構或される。
に設けた素子載置用ブロックと前記ブロックの周囲の前
記セラミックベース上に設けた内部り−1・と前記内部
リートに接続し前記セラミックヘースを貫通して下面に
導出した外部リードとを有するセラミックパッケージと
、前記ブロック上に載置して前記内部リードにフェース
タウンホンテインクされるICチップと、前記ICチッ
プ上に接して載置した窒化アルミニウム板と前記窒化ア
ルミニウム板の周縁に銅箔を介して接着される金属筒と
を有するキャップとを備え、前記金属筒の他端を前記セ
ラミックベースの周縁に接合して前記セラミックパッケ
ージを気密封止するように構或される。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第1図は本発明の一実施例を説明するための半導体装置
の断面図である。
の断面図である。
第1図に示すように、本実施例におけるセラミックパッ
ケーシはセラミックベース1の上面中央部に配置したゴ
ム等の弾力性を有ずる素子搭載用ブロック2とこのブロ
ック2の周囲のベース1上に設けた内部リード3とこの
内部リード3に接続しセラミックベース1−を貫通して
下面に導出した外部リード4とを備えている。また、が
がるセラミックパッケージのフロック2の上には、テー
プキャリア方式のリードフレームより切離したICチッ
プ5がボンディンク面を下側にしてエボキシ接着剤等に
より載置され、このICチップ5に接続されたり一ド6
によりICチップ5を内部りード3にフェースダウンホ
ンディングして電気的に接続される。さらに、セラミッ
クパッケージに対応するキャップは、ICチップ5上に
載置した窒化アルミニウム板8とこの窒化アルミニウム
板8の周縁に設けた金属化層に銅箔9および金属ろう1
0を介して接着される金属筒7とを有している。この金
属筒7の一端を封止したキャップを窒化アルミニウム板
8の内側がICチップ5に接するように前記セラミック
パッケージにがふせ、金属筒7の他端とセラミックベー
ス1の外周側面に設けノコ金属化層をはんだ11により
接合し、セラミックパッケージを気密封止する。2ここ
で、銅箔9は窒化アルミニウム板8と金属筒7のろう付
けされる際の熱膨張の差による応力を緩和させるため用
いている。
ケーシはセラミックベース1の上面中央部に配置したゴ
ム等の弾力性を有ずる素子搭載用ブロック2とこのブロ
ック2の周囲のベース1上に設けた内部リード3とこの
内部リード3に接続しセラミックベース1−を貫通して
下面に導出した外部リード4とを備えている。また、が
がるセラミックパッケージのフロック2の上には、テー
プキャリア方式のリードフレームより切離したICチッ
プ5がボンディンク面を下側にしてエボキシ接着剤等に
より載置され、このICチップ5に接続されたり一ド6
によりICチップ5を内部りード3にフェースダウンホ
ンディングして電気的に接続される。さらに、セラミッ
クパッケージに対応するキャップは、ICチップ5上に
載置した窒化アルミニウム板8とこの窒化アルミニウム
板8の周縁に設けた金属化層に銅箔9および金属ろう1
0を介して接着される金属筒7とを有している。この金
属筒7の一端を封止したキャップを窒化アルミニウム板
8の内側がICチップ5に接するように前記セラミック
パッケージにがふせ、金属筒7の他端とセラミックベー
ス1の外周側面に設けノコ金属化層をはんだ11により
接合し、セラミックパッケージを気密封止する。2ここ
で、銅箔9は窒化アルミニウム板8と金属筒7のろう付
けされる際の熱膨張の差による応力を緩和させるため用
いている。
以上説明したように、本発明の半導体装置は、キャップ
のICチップと接する部分に高熱伝導性を有する窒化ア
ルミニウム板を用いることにより、ICチップとの絶縁
性を高め且つ放熱特性の良いセラミックパッケージ構造
を有する半導体装置が得られるという効果を有する。ま
た、本発明は窒化アルミニウム板と金属筒との間に銅箔
を挟むことにより、両者のろう付けの熱膨張の差による
応力を緩和させることができるという効果がある。
のICチップと接する部分に高熱伝導性を有する窒化ア
ルミニウム板を用いることにより、ICチップとの絶縁
性を高め且つ放熱特性の良いセラミックパッケージ構造
を有する半導体装置が得られるという効果を有する。ま
た、本発明は窒化アルミニウム板と金属筒との間に銅箔
を挟むことにより、両者のろう付けの熱膨張の差による
応力を緩和させることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
5
6
第1図は本発明の一実施例を説明するための半導体装置
の断面図、第2図は従来の一例を説明するための半導体
装置の断面図である。 1・・・セラミックベース、2・・・ブロック、3・・
・内部リード、4・・・外部リード、5・・・ICチッ
プ、6・・・リード、7・・・金属筒、8・・・窒化ア
ルミニウム板、9・・・銅箔、10・・・金属ろう、1
1・・・はんだ。
の断面図、第2図は従来の一例を説明するための半導体
装置の断面図である。 1・・・セラミックベース、2・・・ブロック、3・・
・内部リード、4・・・外部リード、5・・・ICチッ
プ、6・・・リード、7・・・金属筒、8・・・窒化ア
ルミニウム板、9・・・銅箔、10・・・金属ろう、1
1・・・はんだ。
Claims (1)
- セラミックベースの上面中央部に設けた素子載置用ブ
ロックと前記ブロックの周囲の前記セラミックベース上
に設けた内部リードと前記内部リードに接続し前記セラ
ミックベースを貫通して下面に導出した外部リードとを
有するセラミックパッケージと、前記ブロック上に載置
して前記内部リードにフェースダウンホンディングされ
るICチップと、前記ICチップ上に接して載置した窒
化アルミニウム板と前記窒化アルミニウム板の周縁に銅
箔を介して接着される金属筒とを有するキャップとを備
え、前記金属筒の他端を前記セラミックベースの周縁に
接合して前記セラミックパッケージを気密封止すること
を特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63215546A JP2671424B2 (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63215546A JP2671424B2 (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0316986A true JPH0316986A (ja) | 1991-01-24 |
JP2671424B2 JP2671424B2 (ja) | 1997-10-29 |
Family
ID=16674220
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63215546A Expired - Lifetime JP2671424B2 (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2671424B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112525357A (zh) * | 2020-12-15 | 2021-03-19 | 上海格斐特传感技术有限公司 | 一种抗热冲击红外热电堆传感器 |
-
1988
- 1988-08-29 JP JP63215546A patent/JP2671424B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112525357A (zh) * | 2020-12-15 | 2021-03-19 | 上海格斐特传感技术有限公司 | 一种抗热冲击红外热电堆传感器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2671424B2 (ja) | 1997-10-29 |
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Legal Events
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