JPH03168923A - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
磁気ディスクの製造方法Info
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- JPH03168923A JPH03168923A JP30736589A JP30736589A JPH03168923A JP H03168923 A JPH03168923 A JP H03168923A JP 30736589 A JP30736589 A JP 30736589A JP 30736589 A JP30736589 A JP 30736589A JP H03168923 A JPH03168923 A JP H03168923A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、中心孔が有り、且つ表面に凹部を有するディ
スク状の剛性基盤の少なくとも一方の面にフレキシブル
磁気シートを該剛性基盤との間に空隙を有するように貼
付けられて戒る61気アイスクの製造方法の改良に関す
るものであり、特に量産適性に優れた磁気ディスクの製
造方法に関するものである。
スク状の剛性基盤の少なくとも一方の面にフレキシブル
磁気シートを該剛性基盤との間に空隙を有するように貼
付けられて戒る61気アイスクの製造方法の改良に関す
るものであり、特に量産適性に優れた磁気ディスクの製
造方法に関するものである。
コンピューター用途などに使用されている磁気ディスク
には、可撓性非磁性支持体上に磁性層を設けたフレキシ
ブル磁気シートをディスク状に打ち抜いてジャケノトに
挿入して使用するフロッピーディスク、アミル等の柔軟
性の少ない剛性基盤上に磁性層を形成したりジッド磁気
Yイスクがある。
には、可撓性非磁性支持体上に磁性層を設けたフレキシ
ブル磁気シートをディスク状に打ち抜いてジャケノトに
挿入して使用するフロッピーディスク、アミル等の柔軟
性の少ない剛性基盤上に磁性層を形成したりジッド磁気
Yイスクがある。
近年、フロッピーディスクやりジント磁気ディスクは高
密度化、高容量化が期待されており、このため高線記録
密度化、高トラック密度化等が要求されている. フロッピーディスクは、フレキシブルな支持体を用いて
いるため特に磁気へ冫ドとの摺動等による走行耐久性が
優れており、更に磁性層の表面処理等により磁性層記録
面の中心線平均粗さRa極めて低くすることが可能であ
るため高密度記録が可能である.しかし、記録容量を増
加させるためにトランク密度を増加させると、支持体の
熱収縮等により磁気ヘッドのトラックずれが起こるとい
う問題があった。
密度化、高容量化が期待されており、このため高線記録
密度化、高トラック密度化等が要求されている. フロッピーディスクは、フレキシブルな支持体を用いて
いるため特に磁気へ冫ドとの摺動等による走行耐久性が
優れており、更に磁性層の表面処理等により磁性層記録
面の中心線平均粗さRa極めて低くすることが可能であ
るため高密度記録が可能である.しかし、記録容量を増
加させるためにトランク密度を増加させると、支持体の
熱収縮等により磁気ヘッドのトラックずれが起こるとい
う問題があった。
その点リジノド磁気ディスクは、柔軟性の少ない剛性を
持った基盤上に磁性層が形成されているので熱収縮等に
よる磁気ヘッドのトラックずれは起こりにくく、フロッ
ピーディスクの持つ前記問題点が軽減されている。
持った基盤上に磁性層が形成されているので熱収縮等に
よる磁気ヘッドのトラックずれは起こりにくく、フロッ
ピーディスクの持つ前記問題点が軽減されている。
しかしながら、リジッド磁気ディスクは通常アル旦ニウ
ムなどの基盤表面を研磨してその表面性を高めて、高密
度記録が行えるようにしてから磁性層をその上に形或す
るが、その基盤表面の表面性は、中心線平均粗さRaで
0.1μm以下とすることが著しく、高記録密度化に限
界があった。
ムなどの基盤表面を研磨してその表面性を高めて、高密
度記録が行えるようにしてから磁性層をその上に形或す
るが、その基盤表面の表面性は、中心線平均粗さRaで
0.1μm以下とすることが著しく、高記録密度化に限
界があった。
更に基盤に柔軟性がないために、磁性層が連続して形成
できない等の製造上の問題と、ヘッドと磁性層が接触し
た際の大きな衝撃力により磁性層が破壊する等の問題も
あった. これに対して、両面に幅広い環状の凹部を設けた剛性基
盤上に、可撓性非磁性支持体の一方の面に磁性層を設け
たフレキシブル磁気シートを前記凹部において、間隙を
もたせて貼合わせた磁気ディスク(SSRディスク)が
提案されている。
できない等の製造上の問題と、ヘッドと磁性層が接触し
た際の大きな衝撃力により磁性層が破壊する等の問題も
あった. これに対して、両面に幅広い環状の凹部を設けた剛性基
盤上に、可撓性非磁性支持体の一方の面に磁性層を設け
たフレキシブル磁気シートを前記凹部において、間隙を
もたせて貼合わせた磁気ディスク(SSRディスク)が
提案されている。
このタイプの磁気ディスクは、記録面が柔軟性を持つの
で、磁気ヘッドが磁性層の記録面に接触することがあっ
ても、引き続きヘッドを磁性層に摺接させながら高密度
な記録再生を行っても、前記リジン目B気ディスクのよ
うに磁性層の破壊が起こりにくい。
で、磁気ヘッドが磁性層の記録面に接触することがあっ
ても、引き続きヘッドを磁性層に摺接させながら高密度
な記録再生を行っても、前記リジン目B気ディスクのよ
うに磁性層の破壊が起こりにくい。
また、前記フロソピーディスクの特徴がそのまま利用で
きるので、表面性が良好でかつ走行耐久性に優れた磁気
ディスクを得ることができる。
きるので、表面性が良好でかつ走行耐久性に優れた磁気
ディスクを得ることができる。
すなわち、このタイプの磁気ディスクは、フロッピーデ
ィスクとりジント磁気ディスクの双方のfリ点を併せ持
った磁気ディスクであるといえる.その製造方法は、例
えば米国特許US4,573,097号公報にその技術
の開示がある様に、通常、第1図にその断面の概略図を
示した非磁性支持体4上に磁性層3を有するフレキシブ
ル磁気シ一ト2を、第2図にその断面の概略図を示した
剛性基at上にその外周方向に延伸させつつ接着する方
法である。
ィスクとりジント磁気ディスクの双方のfリ点を併せ持
った磁気ディスクであるといえる.その製造方法は、例
えば米国特許US4,573,097号公報にその技術
の開示がある様に、通常、第1図にその断面の概略図を
示した非磁性支持体4上に磁性層3を有するフレキシブ
ル磁気シ一ト2を、第2図にその断面の概略図を示した
剛性基at上にその外周方向に延伸させつつ接着する方
法である。
より詳しくは、第l図の非磁性支持体4上に磁性層3を
有する前記フレキシブル磁気シ一ト2を、前記剛性基!
!tlの形状に合わせて打ち抜き、前記剛性基盤lの表
面上の凸部である内周端部6及び外周端部7において接
着し、磁性層3を外側に向けて、かつ前記剛性基盤1の
表面の凹部8において、前記フレキシブル磁性シ一ト2
と前記剛性基盤lとの間に間隙5を有した磁気ディスク
が作威される。その接着に先立って、フレキシブル磁気
シ一ト2が前記剛性基盤l上でたるむことがないように
、通常前記フレキシブル磁気シートは、前記剛性基盤l
の外周方向に延伸される。
有する前記フレキシブル磁気シ一ト2を、前記剛性基!
!tlの形状に合わせて打ち抜き、前記剛性基盤lの表
面上の凸部である内周端部6及び外周端部7において接
着し、磁性層3を外側に向けて、かつ前記剛性基盤1の
表面の凹部8において、前記フレキシブル磁性シ一ト2
と前記剛性基盤lとの間に間隙5を有した磁気ディスク
が作威される。その接着に先立って、フレキシブル磁気
シ一ト2が前記剛性基盤l上でたるむことがないように
、通常前記フレキシブル磁気シートは、前記剛性基盤l
の外周方向に延伸される。
この磁気ディスクは、その外周部の断面概略図である第
3図からも分かるように、前記剛性基盤1の表面にある
前記凹部8に於いて、前記フレキシブル磁気シ一ト2と
前記剛性基盤1との間に間隙5を形成しており、前記磁
性層3の表面に磁気ヘッドが当たっても、前記間隙5が
クッシタンとなって、、磁気ヘッドによる磁性層の破壊
や、又磁性層と磁気ヘッドとがより密着し易くなり高記
録密度に最適な摺動が可能となる, 前記の従来から通常行われている製造方法においては、
前述剛性基盤1の表面上の前記内周端部6及び前記外周
端部7に接着剤を塗布し、ついで前記フレキシブル磁気
シ一ト2を前記剛性基盤1の外周方向に一定の張力をか
けて延伸し、位置合わせを行って、前記剛性基盤1上の
前記内周端部6及び前記外周端部7において、前記フレ
ヰシブ/L[気シ一ト2を前記剛性基盤i上に接着して
いた。
3図からも分かるように、前記剛性基盤1の表面にある
前記凹部8に於いて、前記フレキシブル磁気シ一ト2と
前記剛性基盤1との間に間隙5を形成しており、前記磁
性層3の表面に磁気ヘッドが当たっても、前記間隙5が
クッシタンとなって、、磁気ヘッドによる磁性層の破壊
や、又磁性層と磁気ヘッドとがより密着し易くなり高記
録密度に最適な摺動が可能となる, 前記の従来から通常行われている製造方法においては、
前述剛性基盤1の表面上の前記内周端部6及び前記外周
端部7に接着剤を塗布し、ついで前記フレキシブル磁気
シ一ト2を前記剛性基盤1の外周方向に一定の張力をか
けて延伸し、位置合わせを行って、前記剛性基盤1上の
前記内周端部6及び前記外周端部7において、前記フレ
ヰシブ/L[気シ一ト2を前記剛性基盤i上に接着して
いた。
しかしながら、従来の製造方法では、例えば前記剛性基
盤1に接着剤を塗布する工程において、位置精度良く適
量の接着剤を設けるためには清度の高い設備と複雑な工
程が必要となったり、前記剛性基盤1の接着面への接着
剤の塗りムラによりディスク円周方向で接着力にムラが
生して前記フレキシブル磁気シ一ト2にシワが発生して
品質の低下を起こす可能性があった。
盤1に接着剤を塗布する工程において、位置精度良く適
量の接着剤を設けるためには清度の高い設備と複雑な工
程が必要となったり、前記剛性基盤1の接着面への接着
剤の塗りムラによりディスク円周方向で接着力にムラが
生して前記フレキシブル磁気シ一ト2にシワが発生して
品質の低下を起こす可能性があった。
また、前記フレキシブル磁気シ一ト2を延伸しながら接
着するので、再現性の良い位置合わせを行うために延伸
張力の正確なコントロールが必要であり、そのような手
段を試みても位置の狂いによる得率の低下は避けられな
かった。
着するので、再現性の良い位置合わせを行うために延伸
張力の正確なコントロールが必要であり、そのような手
段を試みても位置の狂いによる得率の低下は避けられな
かった。
本発明は、前記従来技術の問題点に鑑みなされたもので
あり、前記剛性基盤1と前記フレキシブルもR気シ一ト
2との間に前記間隙5を有する磁気ディスクのための量
産適性に優れた製造方法を提供することを目的としてい
る。
あり、前記剛性基盤1と前記フレキシブルもR気シ一ト
2との間に前記間隙5を有する磁気ディスクのための量
産適性に優れた製造方法を提供することを目的としてい
る。
前記本発明の目的は、非磁性支持体の一方の面に磁性層
を有するフレキシブル磁気シートの他方の面に接着剤を
塗設した後に、中心孔を有しかつ表面に凹部を有するデ
ィスク状の剛性基盤の少なくとも一方の面に、前記フレ
キシブルAil気シートの磁性層を外側に向けかつ前記
剛性基盤の外周方向に前記フレキシブル磁気シートを延
伸させてから、前記剛性基盤の前記凹部において前記フ
レキシブル磁気シートと前記剛性基盤との間に空隙が形
成されるように前記フレヰシブル磁気シートを前記剛性
基盤上に接着させる磁気ディスクの製造方法により達威
される。
を有するフレキシブル磁気シートの他方の面に接着剤を
塗設した後に、中心孔を有しかつ表面に凹部を有するデ
ィスク状の剛性基盤の少なくとも一方の面に、前記フレ
キシブルAil気シートの磁性層を外側に向けかつ前記
剛性基盤の外周方向に前記フレキシブル磁気シートを延
伸させてから、前記剛性基盤の前記凹部において前記フ
レキシブル磁気シートと前記剛性基盤との間に空隙が形
成されるように前記フレヰシブル磁気シートを前記剛性
基盤上に接着させる磁気ディスクの製造方法により達威
される。
本発明の製造方法において、例えば、第1図にその断面
の概略図を示す前記フレキシブル磁気シ一ト2の前記磁
性層3がある面とは反対の前記非磁性支持体4の面に全
体に接着剤を塗布するので、第2図に同じくその断面の
概略図を示す磁気ディスクの前記剛性基盤lの表面の凸
部である前記内周端部6及び前記外周端部7との位置合
わせの精度を余り要求されないので、貼合わせ工程のサ
イタルをそれだけ短くすることができる。更に、本発明
の方法において、前記フレキシブル磁気シ一ト2の打ち
抜きを接着剤の塗布工程に先立って行わずに、貼合わせ
を行った後に前記剛性基盤1の外周及び内周の縁に沿っ
て余分の前記フレキシブル磁気シ一ト2を切り取ること
により尚一層製造工程全体のスピードを高めることがで
き量産適性のある製造方法を提供することができる.本
発明の磁気ディスクの製造方法においては、まず前記フ
レキシブル磁気シ一ト2の前記磁性層3がある面とは反
対側の前記非磁性支持体4の全面に接着剤が塗布される
. 接着剤の塗布工程で、前記磁性層3がある面とは反対の
前記非磁性支持体4の表面に接着剤が均一の厚さで塗布
された前記フレキシブル磁気シ一ト2を前記剛性基盤1
上に搬送し、適当な張力を加えて、前記剛性基盤lの外
周方向に延伸させ、゛圧力を加えて前記フレキシブル磁
気シ一ト2を第2図に示した前記内周端部6と前記外周
端部7の位置で、前記剛性基盤lに接着する。
の概略図を示す前記フレキシブル磁気シ一ト2の前記磁
性層3がある面とは反対の前記非磁性支持体4の面に全
体に接着剤を塗布するので、第2図に同じくその断面の
概略図を示す磁気ディスクの前記剛性基盤lの表面の凸
部である前記内周端部6及び前記外周端部7との位置合
わせの精度を余り要求されないので、貼合わせ工程のサ
イタルをそれだけ短くすることができる。更に、本発明
の方法において、前記フレキシブル磁気シ一ト2の打ち
抜きを接着剤の塗布工程に先立って行わずに、貼合わせ
を行った後に前記剛性基盤1の外周及び内周の縁に沿っ
て余分の前記フレキシブル磁気シ一ト2を切り取ること
により尚一層製造工程全体のスピードを高めることがで
き量産適性のある製造方法を提供することができる.本
発明の磁気ディスクの製造方法においては、まず前記フ
レキシブル磁気シ一ト2の前記磁性層3がある面とは反
対側の前記非磁性支持体4の全面に接着剤が塗布される
. 接着剤の塗布工程で、前記磁性層3がある面とは反対の
前記非磁性支持体4の表面に接着剤が均一の厚さで塗布
された前記フレキシブル磁気シ一ト2を前記剛性基盤1
上に搬送し、適当な張力を加えて、前記剛性基盤lの外
周方向に延伸させ、゛圧力を加えて前記フレキシブル磁
気シ一ト2を第2図に示した前記内周端部6と前記外周
端部7の位置で、前記剛性基盤lに接着する。
接着剤の塗布方法としては、グラビアコート、ナイフコ
ート等を採用することができる.本発明の磁気ディスク
の製造方法の接着剤の塗布工程に於いて、前記非磁性支
持体上に塗布される接着剤の塗布厚としては、!乃至1
oolIm、好ましくは3乃至20μmである。
ート等を採用することができる.本発明の磁気ディスク
の製造方法の接着剤の塗布工程に於いて、前記非磁性支
持体上に塗布される接着剤の塗布厚としては、!乃至1
oolIm、好ましくは3乃至20μmである。
接MfFIの塗布厚が余り厚いと前記フレキシブル磁気
シ一ト2を貼りいける際に接着剤が前記内周端部6及び
前記外周端部7からはみ出して前記フレキシブル磁気シ
一ト2にシワが生しやすくなり、又余り薄いと接着強度
が弱くなって接着部の剥離等の問題がある。
シ一ト2を貼りいける際に接着剤が前記内周端部6及び
前記外周端部7からはみ出して前記フレキシブル磁気シ
一ト2にシワが生しやすくなり、又余り薄いと接着強度
が弱くなって接着部の剥離等の問題がある。
接着剤の塗布は、原反から送り出される前記フレキシブ
ル磁気シ一ト2に連続的になされてもよいし、また前記
剛性基盤1の大きさに合わせて裁断された前記フレキシ
ブル磁気シ一ト2に対して塗布されてもよい。
ル磁気シ一ト2に連続的になされてもよいし、また前記
剛性基盤1の大きさに合わせて裁断された前記フレキシ
ブル磁気シ一ト2に対して塗布されてもよい。
いずれにしろ、できるだけ均一の厚さに塗布されること
が重要となる。
が重要となる。
本発明の磁気ディスクの製造方法では、接着剤は、前記
フレキシブル磁気シ一ト2の前記磁性層3を設けた面の
反対の前記非磁性4上面体に塗布されるので塗布位置を
制御する手段を必要としないので、塗布工程の設備が比
較的安価に、かつ塗布位置の設定ミスが殆どないので得
率も高くできる。
フレキシブル磁気シ一ト2の前記磁性層3を設けた面の
反対の前記非磁性4上面体に塗布されるので塗布位置を
制御する手段を必要としないので、塗布工程の設備が比
較的安価に、かつ塗布位置の設定ミスが殆どないので得
率も高くできる。
前記フレキシブル磁気シ一ト2を前記剛性基盤lの外周
方向に延伸するために加える張力とは、磁気ヘッドが前
記フレキシブル磁気シ一ト2に当接した際に前記フレキ
シブル磁気シ一ト2が撓んで前記剛性基盤lの前記凹部
8に接触しない程度の張力以上であり、前記フレキシブ
ル磁気シ一ト2の前記磁性層3が延伸破壊を起こさない
程度の張力以下である必要がある。
方向に延伸するために加える張力とは、磁気ヘッドが前
記フレキシブル磁気シ一ト2に当接した際に前記フレキ
シブル磁気シ一ト2が撓んで前記剛性基盤lの前記凹部
8に接触しない程度の張力以上であり、前記フレキシブ
ル磁気シ一ト2の前記磁性層3が延伸破壊を起こさない
程度の張力以下である必要がある。
本発明の磁気ディスクの製造方法における前記フレキシ
ブル6E気シ一ト2としては、いわゆるフロッピーディ
スクとして用いられている磁気記録媒体をそのまま用い
ることができる。即ち非磁性支持体上に強磁性粉末と結
合剤樹脂を主体とする磁性層がある磁気記録媒体のシー
トを用いることができる.前記非磁性支持体4としては
、非磁性のプラスチックフィルム、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ボリイξ
ド等から選択され、中でも2軸配向のポリエチレンテレ
フタレートフィルム(PET)が好ましい。特に2軸配
向ポリエチレンテレフタレートフィルムであって、その
上に磁性層を設けたフレキシブル磁気シートとしたもの
を、約70゜Cで48時間熱処理をした後の収縮率が0
.2%以下でかつ縦横の収縮率の差が0. 1%以下
、好ましくは0.05%以下になるものが好ましい。
ブル6E気シ一ト2としては、いわゆるフロッピーディ
スクとして用いられている磁気記録媒体をそのまま用い
ることができる。即ち非磁性支持体上に強磁性粉末と結
合剤樹脂を主体とする磁性層がある磁気記録媒体のシー
トを用いることができる.前記非磁性支持体4としては
、非磁性のプラスチックフィルム、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ボリイξ
ド等から選択され、中でも2軸配向のポリエチレンテレ
フタレートフィルム(PET)が好ましい。特に2軸配
向ポリエチレンテレフタレートフィルムであって、その
上に磁性層を設けたフレキシブル磁気シートとしたもの
を、約70゜Cで48時間熱処理をした後の収縮率が0
.2%以下でかつ縦横の収縮率の差が0. 1%以下
、好ましくは0.05%以下になるものが好ましい。
また、前記フレキシブル磁気シ一ト2の前記非磁性支持
体4としては、少なくとも前記磁性層3を設ける側の面
のRa(中心線平均粗さ)が0.lIIm以下(カント
オフ値0.08)であることが好ましく、このような前
記非磁性支持体4を用いることによって最終製品である
磁気yイスクの記録密度を高くすることができる。また
、Jn記磁性層3としては、磁性酸化鉄や強磁性合金粉
末等の強磁性粉末を結合剤樹脂中に均一に分散した塗布
液を前記非磁性支持体上に塗布、乾燥することにより得
られる. そのほか、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング等のペーパーデポジション法、メンキ法によって
形成される強磁性金属Fl膜を磁性層としてもよい. 前記フレキシブル磁気シ一ト2の前記非磁性支持体4の
厚さは、通常5乃至100μmであり、前記磁性層3の
膜厚は、O.l乃至5μmである。
体4としては、少なくとも前記磁性層3を設ける側の面
のRa(中心線平均粗さ)が0.lIIm以下(カント
オフ値0.08)であることが好ましく、このような前
記非磁性支持体4を用いることによって最終製品である
磁気yイスクの記録密度を高くすることができる。また
、Jn記磁性層3としては、磁性酸化鉄や強磁性合金粉
末等の強磁性粉末を結合剤樹脂中に均一に分散した塗布
液を前記非磁性支持体上に塗布、乾燥することにより得
られる. そのほか、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング等のペーパーデポジション法、メンキ法によって
形成される強磁性金属Fl膜を磁性層としてもよい. 前記フレキシブル磁気シ一ト2の前記非磁性支持体4の
厚さは、通常5乃至100μmであり、前記磁性層3の
膜厚は、O.l乃至5μmである。
前記フレキシブル磁気シ一ト2の全厚としては、10乃
至100umが一般的である。本発明の磁気ディスクの
製造方法における前記剛性基g!■としてはアルミニウ
ム、アルミニウム合金などの金属、ガラス、合成樹脂、
フィラ一入りの樹脂またはこれらの組合せが用いられる
。
至100umが一般的である。本発明の磁気ディスクの
製造方法における前記剛性基g!■としてはアルミニウ
ム、アルミニウム合金などの金属、ガラス、合成樹脂、
フィラ一入りの樹脂またはこれらの組合せが用いられる
。
中でも合成樹脂の剛性基盤は、射出成型で大量に製造で
きるため一般に安価である。
きるため一般に安価である。
さらに高温での保存によって変形しないために、結晶性
ボリマーで耐熱性を有するか、またはガラス転移点80
゜C以上の非品性ボリマーが好ましい。
ボリマーで耐熱性を有するか、またはガラス転移点80
゜C以上の非品性ボリマーが好ましい。
具体的には、ボリカーボネート、ポリエーテルイミド、
ボリフェニレンサルファイド、ポリイミド、ポリサルホ
ン、ポリアクリレート、ポリエーテルサルホン、ポリエ
ーテルエーテルケトンなどがある。
ボリフェニレンサルファイド、ポリイミド、ポリサルホ
ン、ポリアクリレート、ポリエーテルサルホン、ポリエ
ーテルエーテルケトンなどがある。
また、前記剛性基盤lの膨張係数の値を小さくするため
にTiOz、SiOzなどの金属酸化物やBaS○,、
ガラス緻維などを5乃至50重量%混入してもよい。
にTiOz、SiOzなどの金属酸化物やBaS○,、
ガラス緻維などを5乃至50重量%混入してもよい。
磁気ヘッドのアームの材質は曹通アルξニウムが使われ
るので、前記剛性基!1の熱膨張係数は、アルミニウム
ノ値(2. 4 X 1 0−’/’C) ニ近く、
かつ吸湿膨張係数は小さいほどよい. 前記剛性基盤lの形状は、その断面の概略図である第2
図及び第3図に示す通りであり、中心孔9を有し、前記
剛性基盤lの前記内周端部6及び前記外周端部7との間
に中心孔9を中心とした環状の前記凹部8が設けられて
いる. 前記剛性基盤lの前記内周端部6及び前記外周端部7は
必要に応して外周方向に傾斜させたり、曲率を持つこと
も可能である. 前記剛性基盤1の形状寸法には特に制限はないが、通常
、外径が90乃至135ms,厚みが1乃至5ms、前
記内周端部6及び前記外周端部7の長さは1乃至5閣が
用いられる. 前記凹部8と前記フレキシブル磁気シ一ト2との間の間
隙5は、ヘッドと前記磁性層3が接触する際の衝撃力を
適度に分散することにより本発明の磁気ディスクの耐久
性を向上させている.また、ヘッドと前記磁性層3間の
スペーシングも極めて狭くなり高密度記録にとって有利
となる。
るので、前記剛性基!1の熱膨張係数は、アルミニウム
ノ値(2. 4 X 1 0−’/’C) ニ近く、
かつ吸湿膨張係数は小さいほどよい. 前記剛性基盤lの形状は、その断面の概略図である第2
図及び第3図に示す通りであり、中心孔9を有し、前記
剛性基盤lの前記内周端部6及び前記外周端部7との間
に中心孔9を中心とした環状の前記凹部8が設けられて
いる. 前記剛性基盤lの前記内周端部6及び前記外周端部7は
必要に応して外周方向に傾斜させたり、曲率を持つこと
も可能である. 前記剛性基盤1の形状寸法には特に制限はないが、通常
、外径が90乃至135ms,厚みが1乃至5ms、前
記内周端部6及び前記外周端部7の長さは1乃至5閣が
用いられる. 前記凹部8と前記フレキシブル磁気シ一ト2との間の間
隙5は、ヘッドと前記磁性層3が接触する際の衝撃力を
適度に分散することにより本発明の磁気ディスクの耐久
性を向上させている.また、ヘッドと前記磁性層3間の
スペーシングも極めて狭くなり高密度記録にとって有利
となる。
前記間隙5の大きさしは少なくとも0.1am以上は必
要であり、前記間隙5の大きさLが余り小さいと、前記
フレキシブル磁気シ一ト2にヘソドを当接した際に前記
フレキシブル磁気シ一ト2が撓んで前記剛性基盤lの凹
部8に接触しやすくなるため前記フレキシブル磁気シ一
ト2に与える張力のコントロールが非常に難しくなり、
又余り大きいと前記剛性基盤1の強度が不足して問題と
なる。
要であり、前記間隙5の大きさLが余り小さいと、前記
フレキシブル磁気シ一ト2にヘソドを当接した際に前記
フレキシブル磁気シ一ト2が撓んで前記剛性基盤lの凹
部8に接触しやすくなるため前記フレキシブル磁気シ一
ト2に与える張力のコントロールが非常に難しくなり、
又余り大きいと前記剛性基盤1の強度が不足して問題と
なる。
本発明における磁気ディスクの寸法安定性は11訂記剛
性基盤lのそれに支配されるので、前記剛1生基盤lと
しては、寸法安定法のよいものを選ぶことが好ましい。
性基盤lのそれに支配されるので、前記剛1生基盤lと
しては、寸法安定法のよいものを選ぶことが好ましい。
本発明の製造方法における磁気ディスクの前記接着剤と
しては、熱硬化型接着剤、無溶剤型接着剤、放射線硬化
型接着剤等従来から知られている種々のものを用いるこ
とができるが、中でも無溶剤型の接着剤、放射線硬化型
接着剤が接着剤硬化時間を短くできるという理由から好
ましい。
しては、熱硬化型接着剤、無溶剤型接着剤、放射線硬化
型接着剤等従来から知られている種々のものを用いるこ
とができるが、中でも無溶剤型の接着剤、放射線硬化型
接着剤が接着剤硬化時間を短くできるという理由から好
ましい。
無溶剤型接着剤としてはとくにホットメルト接着剤が好
ましく、ホットメルト接着剤としては、ペースボリマー
として、アクリ口ニトリルブタジェン共重合体、ポリス
チレンイソプレン共重合体、ポリブタジェン、ブチルゴ
ムなどのゴム系樹脂あるいはポリエチレン、エチレンビ
ニルアセテート共重合体などの、ポリオレフィン系共重
合体、などから1種以上が用いられる。
ましく、ホットメルト接着剤としては、ペースボリマー
として、アクリ口ニトリルブタジェン共重合体、ポリス
チレンイソプレン共重合体、ポリブタジェン、ブチルゴ
ムなどのゴム系樹脂あるいはポリエチレン、エチレンビ
ニルアセテート共重合体などの、ポリオレフィン系共重
合体、などから1種以上が用いられる。
更にベースボリマーに配合する粘着付与剤としてはロジ
ン、重合口ジン、水添ロジン、ロジンエステル等の天然
樹脂及びその変性品、脂肪族、脂環族、芳香族、石油樹
脂及びテルベン樹脂、テルベン、フェノール樹脂等があ
り、軟化剤としてはプロセスオイル、パラフィンオイル
、ヒマシ油等が用いられる. 更に、上記ホットメルト接着剤には必要に応して充填剤
、老化防止剤、紫外線防止剤等の添加剤を配合し、耐熱
性、耐候性を向上せしめる.これらの配合比率はベース
ボリマ−100重量部に対して、粘着付与剤100乃至
600重量部、軟化剤0乃至100重量部であるが軟化
点がl40″C以下、好ましくは120℃以下であり、
溶融粘着が140゜Cでl000ポイズ以下、好ましく
は160゜Cでl000ボイズ以下になるように配合す
る。
ン、重合口ジン、水添ロジン、ロジンエステル等の天然
樹脂及びその変性品、脂肪族、脂環族、芳香族、石油樹
脂及びテルベン樹脂、テルベン、フェノール樹脂等があ
り、軟化剤としてはプロセスオイル、パラフィンオイル
、ヒマシ油等が用いられる. 更に、上記ホットメルト接着剤には必要に応して充填剤
、老化防止剤、紫外線防止剤等の添加剤を配合し、耐熱
性、耐候性を向上せしめる.これらの配合比率はベース
ボリマ−100重量部に対して、粘着付与剤100乃至
600重量部、軟化剤0乃至100重量部であるが軟化
点がl40″C以下、好ましくは120℃以下であり、
溶融粘着が140゜Cでl000ポイズ以下、好ましく
は160゜Cでl000ボイズ以下になるように配合す
る。
また放射線硬化型接着剤としてはアクリル系接着剤、ゴ
ム系接着剤が好ましく、アクリル系接着剤としては■ロ
ジン、重合口ジン、水添ロジン、ロジンエススル等の天
然樹脂及びその変性品、脂肪族、脂環族、石油樹脂及び
テルベン樹脂、テルヘン、フェノール樹脂、クマロン樹
脂、プチルアクリレート/酢ビ共重合体、エチレン/酢
ビ共重合体などの粘着付与樹脂1種以上6o乃至95重
量%とアクリル酸、メタアクリル酸、メチルアクリレー
ト、プチルアクリレート、エチルメタアクリレート、テ
トラヒド口フルフリルアクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレートなどのア
クリル酸エステル、メタアクリル酸エステルなどのアク
リル系モノマーl種以上(5乃至40重量%)との混合
物.■アクリル酸イソオクチルアクリレート等の共重合
物(重合率を約lO%で中止したシロップ)等が用いら
れる。
ム系接着剤が好ましく、アクリル系接着剤としては■ロ
ジン、重合口ジン、水添ロジン、ロジンエススル等の天
然樹脂及びその変性品、脂肪族、脂環族、石油樹脂及び
テルベン樹脂、テルヘン、フェノール樹脂、クマロン樹
脂、プチルアクリレート/酢ビ共重合体、エチレン/酢
ビ共重合体などの粘着付与樹脂1種以上6o乃至95重
量%とアクリル酸、メタアクリル酸、メチルアクリレー
ト、プチルアクリレート、エチルメタアクリレート、テ
トラヒド口フルフリルアクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレートなどのア
クリル酸エステル、メタアクリル酸エステルなどのアク
リル系モノマーl種以上(5乃至40重量%)との混合
物.■アクリル酸イソオクチルアクリレート等の共重合
物(重合率を約lO%で中止したシロップ)等が用いら
れる。
ゴム系接着剤としては、ポリブタジエン、アクリ口ニト
リルブタジエン共重合体、天然ゴム、スチレンブタジエ
ンゴムなどのゴム系樹脂1種以上とフェノールデルペン
、水素化口ジン等の粘着付与樹脂1種以上及びアクリル
酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルなどの
アクリルモノマーあるいは酢酸ビニルなどのビニルモノ
マー1種以上混合溶解した組成物などを用いることがで
きる。これらの接着剤系には必要に応して可塑剤、充填
剤などを配合してもよい. 前記フレキシブル磁気シ一ト2を前記剛性基盤lに密着
後、接着剤層に照射する放射線としては、電子線、T線
、β線などが使用できるが、中でも電子線が好ましい.
1t子線照射機としては走査型、非走査型のいずれでも
採用できる。電子線としては加速電圧が100乃至10
00kV、好ましくは150乃至300kVであり、吸
収線量としてO.l乃至20Mrad、好ましくは0.
5乃至l5Mradである。加速電圧が100kV
以下の場合には、エネルギーの透iIA量が不足し、I
(100kVを越えると重合に使われるエネルギー効率
が低下し経済的でない。吸収線量として、0 . I
Mrad以下では硬化反応が不十分で接着強度が得ら
れず、20Mrad以上になると、硬化に使用されるエ
ネルギー効率が低下したり、被照射体が発熱し、特に前
記フレキシブル磁気シ一ト2の前記非磁性支持体4が変
形するので好ましくない。
リルブタジエン共重合体、天然ゴム、スチレンブタジエ
ンゴムなどのゴム系樹脂1種以上とフェノールデルペン
、水素化口ジン等の粘着付与樹脂1種以上及びアクリル
酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルなどの
アクリルモノマーあるいは酢酸ビニルなどのビニルモノ
マー1種以上混合溶解した組成物などを用いることがで
きる。これらの接着剤系には必要に応して可塑剤、充填
剤などを配合してもよい. 前記フレキシブル磁気シ一ト2を前記剛性基盤lに密着
後、接着剤層に照射する放射線としては、電子線、T線
、β線などが使用できるが、中でも電子線が好ましい.
1t子線照射機としては走査型、非走査型のいずれでも
採用できる。電子線としては加速電圧が100乃至10
00kV、好ましくは150乃至300kVであり、吸
収線量としてO.l乃至20Mrad、好ましくは0.
5乃至l5Mradである。加速電圧が100kV
以下の場合には、エネルギーの透iIA量が不足し、I
(100kVを越えると重合に使われるエネルギー効率
が低下し経済的でない。吸収線量として、0 . I
Mrad以下では硬化反応が不十分で接着強度が得ら
れず、20Mrad以上になると、硬化に使用されるエ
ネルギー効率が低下したり、被照射体が発熱し、特に前
記フレキシブル磁気シ一ト2の前記非磁性支持体4が変
形するので好ましくない。
接着効果を高めるために、前記剛性基盤1の前記内周端
部6及び前記外周端部7に溝もしくは穴を設ける事も有
効である。
部6及び前記外周端部7に溝もしくは穴を設ける事も有
効である。
また接着の際、接着をさせるための面の一方もしくは両
方に、接着を容易にするためコロナ放電、グロー放電な
どの物理的表面処理を行ってもよい.接着後、前記フレ
キシブル磁気シ一ト2の前記内周端部6及び前記外周端
部7からはみ出した部分は切り取られる。
方に、接着を容易にするためコロナ放電、グロー放電な
どの物理的表面処理を行ってもよい.接着後、前記フレ
キシブル磁気シ一ト2の前記内周端部6及び前記外周端
部7からはみ出した部分は切り取られる。
前記フレキシブル磁気シ一ト2を前記剛性基盤1上に接
着後、前記フレキシブル磁気シ一ト2の前記非磁性支持
体4の異方性歪を取り除くために熱処理を施すことも可
能である。
着後、前記フレキシブル磁気シ一ト2の前記非磁性支持
体4の異方性歪を取り除くために熱処理を施すことも可
能である。
熱処理の温度として好ましくは前記非磁性支持体4のガ
ラス転移点以上120″C以下であり、時間としては温
度に応じて24時間から3秒位で設定すればよい。熱処
理後は室温まで冷却する.〔発明の効果〕 剛性基盤とフレキシブル磁気シートとの間に間隙を有す
る磁気ディスクの製造方法に於いて、フレキシブル磁気
シートの磁性層が形成された面と反対側の非磁性支持体
の全面に接着剤を塗布した後に、フレキシブル磁気シー
トを外周方向に延伸させてからフレキシブル磁気シート
を剛性基盤上に接着することにより、量産性が高く、か
つ得率の高い製造方法とすることができる。
ラス転移点以上120″C以下であり、時間としては温
度に応じて24時間から3秒位で設定すればよい。熱処
理後は室温まで冷却する.〔発明の効果〕 剛性基盤とフレキシブル磁気シートとの間に間隙を有す
る磁気ディスクの製造方法に於いて、フレキシブル磁気
シートの磁性層が形成された面と反対側の非磁性支持体
の全面に接着剤を塗布した後に、フレキシブル磁気シー
トを外周方向に延伸させてからフレキシブル磁気シート
を剛性基盤上に接着することにより、量産性が高く、か
つ得率の高い製造方法とすることができる。
以下、実施例によって本発明の新規な特徴を具体的に説
明するが、本発明の方法はこれに限定されるものではな
い。
明するが、本発明の方法はこれに限定されるものではな
い。
〔実施例−1]
フレ シ ル ′シー の
厚さ32μm,幅120asの2軸延伸配向処理したポ
リエチレンテレフタレートフイルムを非磁性支持体とし
て、この非磁性支持体の片面に次の組成を有する磁性塗
布液を最終的な磁性層の厚さが2μmになるように塗布
した後、乾燥し、さらにカレンダーにより磁性層の表面
成形処理をして、フレシキブル磁気シートを作った. (磁性液) 7−Fe.03 300重量部PVC−
Ac (塩化ビニルー酢酸 ヒニル共重合休n VYIIII tlcc社製)40
重量部エボキシ樹脂(エビコートlOOl シェル化学社製) 40重量部ポリア砒
ド(バーサミド115 CM社製) 20重量部メチルイソ
ブチルケトン/キシ口 ール(2/1)800重量部 格牲A1む勾糺製 ボリエーテルイミドにガラス織維、無機物フイラーを4
0%含有せしめた剛性基盤を射出威型により形成した。
リエチレンテレフタレートフイルムを非磁性支持体とし
て、この非磁性支持体の片面に次の組成を有する磁性塗
布液を最終的な磁性層の厚さが2μmになるように塗布
した後、乾燥し、さらにカレンダーにより磁性層の表面
成形処理をして、フレシキブル磁気シートを作った. (磁性液) 7−Fe.03 300重量部PVC−
Ac (塩化ビニルー酢酸 ヒニル共重合休n VYIIII tlcc社製)40
重量部エボキシ樹脂(エビコートlOOl シェル化学社製) 40重量部ポリア砒
ド(バーサミド115 CM社製) 20重量部メチルイソ
ブチルケトン/キシ口 ール(2/1)800重量部 格牲A1む勾糺製 ボリエーテルイミドにガラス織維、無機物フイラーを4
0%含有せしめた剛性基盤を射出威型により形成した。
前記剛性基盤の形状は第2図に示す通りであり、前記剛
性基盤1の外径r,及び内径r.はそれぞれ901II
1及び20msであり、前記剛性基盤1の内周端部6の
長さi1及び外周端部7の長さItは1lIIfflと
した。また基盤の厚さdは2閣、間隙5の深さLは0.
2mmであった. 前記フレキシブル磁気シ一ト2の磁性層3がある面とは
反対の面全面に下記の接着剤組成物−1を10μmの厚
さでドクターブレードを用いて塗布した。
性基盤1の外径r,及び内径r.はそれぞれ901II
1及び20msであり、前記剛性基盤1の内周端部6の
長さi1及び外周端部7の長さItは1lIIfflと
した。また基盤の厚さdは2閣、間隙5の深さLは0.
2mmであった. 前記フレキシブル磁気シ一ト2の磁性層3がある面とは
反対の面全面に下記の接着剤組成物−1を10μmの厚
さでドクターブレードを用いて塗布した。
(接着剤組戒物−1)
ポリイソブレン/スチレン共重合体
カリフレックスTRIIOI(シ
エル■製) 100重量部粘着付与
剤 脂環式石油樹脂アルコ ンP−70(荒川化学■製〉 200重量部軟化剤 パ
ラフィンオイル 40重量部ついで、前記フレキ
シブル磁気シ一ト2を、前記剛性基盤1の外周方向に、
前記剛性基盤lの外型T、より大きい内径を有する二つ
の円環を用いて延伸させてから、前記内周端部6及び外
周端部7に接触させ、さらに200゜Cの温度で0.5
秒間、約1 0 kg/c+1の圧力をかけて接着させ
、磁気ディスク10を得た. 〔実施例−2〕 実施例−1において、接着剤組戒物一lに替えて、下記
の接着剤組成物−2を使用し、前記内周端部6及び前記
外周端部7に接触させ、加圧させた後165kV、10
MRadの電子線を照射した以外は、実施例−1と同一
の条件で磁気ディスクを得た, (接着剤&[l或物−2) 水添ロジン 75重量部アクリル
酸 20重量部エチレングリコレ
ートジアクリレート 5重量部 〔比較例−■〕 実施例−1において、接着剤をフレシブル磁気シ一ト2
に塗布せずに、前記剛性基盤lの内周端部6及び外周端
部7に厚さlOμmになるように塗布し磁気シートを乗
せて200゜Cで約10kg/cdの圧力をかけて0.
5秒間圧着した以外は、実施例−■と同一の条件で磁気
ディスクを作威した.〔比較例−2] 実施例−2において、接着剤をフレキシブル磁気シ一ト
2に塗布せずに、前記剛性基盤lの内周端部6及び外f
il端部7に厚さ10μmになるように塗布し磁気シー
トを乗せて165kV,10MRadの電子線を照射し
た以外は、実施例−2と同一の条件で磁気ディスクを作
戒した. 以上のようにして作威された磁気ディスクにおけるフレ
キシブル磁気シートの剛性基盤に対する接着力を以下の
条件で評価した. 援春九立往債去抜 磁気ディスクのフレキシブル磁気シートの前記内周端部
6及び前記外周端部7の部分に、巾12.65−、長さ
24.3−のマイラーテープを貼り、180゜C!{I
M試験を行った. これをl00回操り返し、縁部のはがれ状態を観察した
. 実施例−1及び実施例−2の磁気ディスクでは、内周端
部及び外周端部に何も異常が認めらなかったのに対し、
比較例一l及び比較例−2の磁気ディスクでは内周端部
及び外周端部の一部でフレキシブル磁気シートの剥がれ
が見られた。
剤 脂環式石油樹脂アルコ ンP−70(荒川化学■製〉 200重量部軟化剤 パ
ラフィンオイル 40重量部ついで、前記フレキ
シブル磁気シ一ト2を、前記剛性基盤1の外周方向に、
前記剛性基盤lの外型T、より大きい内径を有する二つ
の円環を用いて延伸させてから、前記内周端部6及び外
周端部7に接触させ、さらに200゜Cの温度で0.5
秒間、約1 0 kg/c+1の圧力をかけて接着させ
、磁気ディスク10を得た. 〔実施例−2〕 実施例−1において、接着剤組戒物一lに替えて、下記
の接着剤組成物−2を使用し、前記内周端部6及び前記
外周端部7に接触させ、加圧させた後165kV、10
MRadの電子線を照射した以外は、実施例−1と同一
の条件で磁気ディスクを得た, (接着剤&[l或物−2) 水添ロジン 75重量部アクリル
酸 20重量部エチレングリコレ
ートジアクリレート 5重量部 〔比較例−■〕 実施例−1において、接着剤をフレシブル磁気シ一ト2
に塗布せずに、前記剛性基盤lの内周端部6及び外周端
部7に厚さlOμmになるように塗布し磁気シートを乗
せて200゜Cで約10kg/cdの圧力をかけて0.
5秒間圧着した以外は、実施例−■と同一の条件で磁気
ディスクを作威した.〔比較例−2] 実施例−2において、接着剤をフレキシブル磁気シ一ト
2に塗布せずに、前記剛性基盤lの内周端部6及び外f
il端部7に厚さ10μmになるように塗布し磁気シー
トを乗せて165kV,10MRadの電子線を照射し
た以外は、実施例−2と同一の条件で磁気ディスクを作
戒した. 以上のようにして作威された磁気ディスクにおけるフレ
キシブル磁気シートの剛性基盤に対する接着力を以下の
条件で評価した. 援春九立往債去抜 磁気ディスクのフレキシブル磁気シートの前記内周端部
6及び前記外周端部7の部分に、巾12.65−、長さ
24.3−のマイラーテープを貼り、180゜C!{I
M試験を行った. これをl00回操り返し、縁部のはがれ状態を観察した
. 実施例−1及び実施例−2の磁気ディスクでは、内周端
部及び外周端部に何も異常が認めらなかったのに対し、
比較例一l及び比較例−2の磁気ディスクでは内周端部
及び外周端部の一部でフレキシブル磁気シートの剥がれ
が見られた。
更に、比較例一l及び比較例−2の磁気yイスクでは、
lO枚中2枚の磁気ディスクにフレキシブル磁気シート
にしわがみられた.
lO枚中2枚の磁気ディスクにフレキシブル磁気シート
にしわがみられた.
第l図は本発明の磁気ディスクで使用するフレキシブル
磁気シートの断面の概略図. 第2図は本発明の磁気ディスクの断面の要部を拡大した
概略図. 第3図は本発明の磁気ディスクの外周端部の要部を拡大
した概念図. l・・・剛性基盤 2・・・フレキシブル磁気シ一
ト3・・・磁性層 4・・・非磁性支持体5・・
・間lit 6・・・内周端部7・・・外周
端部 8・・・凹部 9・・・中心孔 t・・・間隙の大きさd
・・・剛性基盤の厚さ r1・・・剛性基盤の外彩
「よ・・・剛性基盤の中心孔の径 l.・・・剛性基盤の内周端部の長さ
磁気シートの断面の概略図. 第2図は本発明の磁気ディスクの断面の要部を拡大した
概略図. 第3図は本発明の磁気ディスクの外周端部の要部を拡大
した概念図. l・・・剛性基盤 2・・・フレキシブル磁気シ一
ト3・・・磁性層 4・・・非磁性支持体5・・
・間lit 6・・・内周端部7・・・外周
端部 8・・・凹部 9・・・中心孔 t・・・間隙の大きさd
・・・剛性基盤の厚さ r1・・・剛性基盤の外彩
「よ・・・剛性基盤の中心孔の径 l.・・・剛性基盤の内周端部の長さ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)非磁性支持体の一方の面に磁性層を有するフレキ
シブル磁気シートの他方の面の全面に接着剤を塗設した
後に、中心孔を有しかつ表面に凹部を有するディスク状
の剛性基盤の少なくとも一方の面に、前記フレキシブル
磁気シートの磁性層を外側に向けかつ前記剛性基盤の外
周方向に前記フレキシブル磁気シートを延伸させてから
、前記剛性基盤の前記凹部において前記フレキシブル磁
気シートと前記剛性基盤との間に空隙が形成されるよう
に前記フレキシブル磁気シートを前記剛性基盤上に接着
させる磁気ディスクの製造方法。(2)前記剛性基盤上
に前記フレキシブル磁気シートを接着した後に、前記剛
性基盤の中心孔にはみ出した前記フレキシブル磁気シー
ト及び外縁部にはみ出した前記フレキシブル磁気シート
を切り取る工程を有する請求項1記載の磁気ディスクの
製造方法。 (3)前記接着剤が無溶剤型の接着剤であり、前記フレ
キシブル磁気シートを外周方向に延伸させて前記剛性基
盤に密着させた後に接着剤層を加熱して前記フレキシブ
ル磁気シートを前記剛性基盤に接着する請求項1記載の
磁気ディスクの製造方法。 (4)前記接着剤が放射線硬化型接着剤であり、前記フ
レキシブル磁気シートを外周方向に延伸させて前記剛性
基盤に密着させた後に接着剤層に放射線を照射して該接
着剤層を硬化させる請求項1記載の磁気ディスクの製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30736589A JPH03168923A (ja) | 1989-11-27 | 1989-11-27 | 磁気ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30736589A JPH03168923A (ja) | 1989-11-27 | 1989-11-27 | 磁気ディスクの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03168923A true JPH03168923A (ja) | 1991-07-22 |
Family
ID=17968202
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30736589A Pending JPH03168923A (ja) | 1989-11-27 | 1989-11-27 | 磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03168923A (ja) |
-
1989
- 1989-11-27 JP JP30736589A patent/JPH03168923A/ja active Pending
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