JPH03168923A - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、中心孔が有り、且つ表面に凹部を有するディ
スク状の剛性基盤の少なくとも一方の面にフレキシブル
磁気シートを該剛性基盤との間に空隙を有するように貼
付けられて戒る６１気アイスクの製造方法の改良に関す
るものであり、特に量産適性に優れた磁気ディスクの製
造方法に関するものである。

〔従来の技術〕

コンピューター用途などに使用されている磁気ディスク
には、可撓性非磁性支持体上に磁性層を設けたフレキシ
ブル磁気シートをディスク状に打ち抜いてジャケノトに
挿入して使用するフロッピーディスク、アミル等の柔軟
性の少ない剛性基盤上に磁性層を形成したりジッド磁気
Ｙイスクがある。

近年、フロッピーディスクやりジント磁気ディスクは高
密度化、高容量化が期待されており、このため高線記録
密度化、高トラック密度化等が要求されている． フロッピーディスクは、フレキシブルな支持体を用いて
いるため特に磁気へ冫ドとの摺動等による走行耐久性が
優れており、更に磁性層の表面処理等により磁性層記録
面の中心線平均粗さＲａ極めて低くすることが可能であ
るため高密度記録が可能である．しかし、記録容量を増
加させるためにトランク密度を増加させると、支持体の
熱収縮等により磁気ヘッドのトラックずれが起こるとい
う問題があった。

その点リジノド磁気ディスクは、柔軟性の少ない剛性を
持った基盤上に磁性層が形成されているので熱収縮等に
よる磁気ヘッドのトラックずれは起こりにくく、フロッ
ピーディスクの持つ前記問題点が軽減されている。

しかしながら、リジッド磁気ディスクは通常アル旦ニウ
ムなどの基盤表面を研磨してその表面性を高めて、高密
度記録が行えるようにしてから磁性層をその上に形或す
るが、その基盤表面の表面性は、中心線平均粗さＲａで
０．１μｍ以下とすることが著しく、高記録密度化に限
界があった。

更に基盤に柔軟性がないために、磁性層が連続して形成
できない等の製造上の問題と、ヘッドと磁性層が接触し
た際の大きな衝撃力により磁性層が破壊する等の問題も
あった． これに対して、両面に幅広い環状の凹部を設けた剛性基
盤上に、可撓性非磁性支持体の一方の面に磁性層を設け
たフレキシブル磁気シートを前記凹部において、間隙を
もたせて貼合わせた磁気ディスク（ＳＳＲディスク）が
提案されている。

このタイプの磁気ディスクは、記録面が柔軟性を持つの
で、磁気ヘッドが磁性層の記録面に接触することがあっ
ても、引き続きヘッドを磁性層に摺接させながら高密度
な記録再生を行っても、前記リジン目Ｂ気ディスクのよ
うに磁性層の破壊が起こりにくい。

また、前記フロソピーディスクの特徴がそのまま利用で
きるので、表面性が良好でかつ走行耐久性に優れた磁気
ディスクを得ることができる。

すなわち、このタイプの磁気ディスクは、フロッピーデ
ィスクとりジント磁気ディスクの双方のｆリ点を併せ持
った磁気ディスクであるといえる．その製造方法は、例
えば米国特許ＵＳ４，５７３，０９７号公報にその技術
の開示がある様に、通常、第１図にその断面の概略図を
示した非磁性支持体４上に磁性層３を有するフレキシブ
ル磁気シ一ト２を、第２図にその断面の概略図を示した
剛性基ａｔ上にその外周方向に延伸させつつ接着する方
法である。

より詳しくは、第ｌ図の非磁性支持体４上に磁性層３を
有する前記フレキシブル磁気シ一ト２を、前記剛性基！
！ｔｌの形状に合わせて打ち抜き、前記剛性基盤ｌの表
面上の凸部である内周端部６及び外周端部７において接
着し、磁性層３を外側に向けて、かつ前記剛性基盤１の
表面の凹部８において、前記フレキシブル磁性シ一ト２
と前記剛性基盤ｌとの間に間隙５を有した磁気ディスク
が作威される。その接着に先立って、フレキシブル磁気
シ一ト２が前記剛性基盤ｌ上でたるむことがないように
、通常前記フレキシブル磁気シートは、前記剛性基盤ｌ
の外周方向に延伸される。

この磁気ディスクは、その外周部の断面概略図である第
３図からも分かるように、前記剛性基盤１の表面にある
前記凹部８に於いて、前記フレキシブル磁気シ一ト２と
前記剛性基盤１との間に間隙５を形成しており、前記磁
性層３の表面に磁気ヘッドが当たっても、前記間隙５が
クッシタンとなって、、磁気ヘッドによる磁性層の破壊
や、又磁性層と磁気ヘッドとがより密着し易くなり高記
録密度に最適な摺動が可能となる， 前記の従来から通常行われている製造方法においては、
前述剛性基盤１の表面上の前記内周端部６及び前記外周
端部７に接着剤を塗布し、ついで前記フレキシブル磁気
シ一ト２を前記剛性基盤１の外周方向に一定の張力をか
けて延伸し、位置合わせを行って、前記剛性基盤１上の
前記内周端部６及び前記外周端部７において、前記フレ
ヰシブ／Ｌ［気シ一ト２を前記剛性基盤ｉ上に接着して
いた。

しかしながら、従来の製造方法では、例えば前記剛性基
盤１に接着剤を塗布する工程において、位置精度良く適
量の接着剤を設けるためには清度の高い設備と複雑な工
程が必要となったり、前記剛性基盤１の接着面への接着
剤の塗りムラによりディスク円周方向で接着力にムラが
生して前記フレキシブル磁気シ一ト２にシワが発生して
品質の低下を起こす可能性があった。

また、前記フレキシブル磁気シ一ト２を延伸しながら接
着するので、再現性の良い位置合わせを行うために延伸
張力の正確なコントロールが必要であり、そのような手
段を試みても位置の狂いによる得率の低下は避けられな
かった。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は、前記従来技術の問題点に鑑みなされたもので
あり、前記剛性基盤１と前記フレキシブルもＲ気シ一ト
２との間に前記間隙５を有する磁気ディスクのための量
産適性に優れた製造方法を提供することを目的としてい
る。

〔問題点を解決するための手段〕

前記本発明の目的は、非磁性支持体の一方の面に磁性層
を有するフレキシブル磁気シートの他方の面に接着剤を
塗設した後に、中心孔を有しかつ表面に凹部を有するデ
ィスク状の剛性基盤の少なくとも一方の面に、前記フレ
キシブルＡｉｌ気シートの磁性層を外側に向けかつ前記
剛性基盤の外周方向に前記フレキシブル磁気シートを延
伸させてから、前記剛性基盤の前記凹部において前記フ
レキシブル磁気シートと前記剛性基盤との間に空隙が形
成されるように前記フレヰシブル磁気シートを前記剛性
基盤上に接着させる磁気ディスクの製造方法により達威
される。

本発明の製造方法において、例えば、第１図にその断面
の概略図を示す前記フレキシブル磁気シ一ト２の前記磁
性層３がある面とは反対の前記非磁性支持体４の面に全
体に接着剤を塗布するので、第２図に同じくその断面の
概略図を示す磁気ディスクの前記剛性基盤ｌの表面の凸
部である前記内周端部６及び前記外周端部７との位置合
わせの精度を余り要求されないので、貼合わせ工程のサ
イタルをそれだけ短くすることができる。更に、本発明
の方法において、前記フレキシブル磁気シ一ト２の打ち
抜きを接着剤の塗布工程に先立って行わずに、貼合わせ
を行った後に前記剛性基盤１の外周及び内周の縁に沿っ
て余分の前記フレキシブル磁気シ一ト２を切り取ること
により尚一層製造工程全体のスピードを高めることがで
き量産適性のある製造方法を提供することができる．本
発明の磁気ディスクの製造方法においては、まず前記フ
レキシブル磁気シ一ト２の前記磁性層３がある面とは反
対側の前記非磁性支持体４の全面に接着剤が塗布される
． 接着剤の塗布工程で、前記磁性層３がある面とは反対の
前記非磁性支持体４の表面に接着剤が均一の厚さで塗布
された前記フレキシブル磁気シ一ト２を前記剛性基盤１
上に搬送し、適当な張力を加えて、前記剛性基盤ｌの外
周方向に延伸させ、゛圧力を加えて前記フレキシブル磁
気シ一ト２を第２図に示した前記内周端部６と前記外周
端部７の位置で、前記剛性基盤ｌに接着する。

接着剤の塗布方法としては、グラビアコート、ナイフコ
ート等を採用することができる．本発明の磁気ディスク
の製造方法の接着剤の塗布工程に於いて、前記非磁性支
持体上に塗布される接着剤の塗布厚としては、！乃至１
ｏｏｌＩｍ、好ましくは３乃至２０μｍである。

接ＭｆＦＩの塗布厚が余り厚いと前記フレキシブル磁気
シ一ト２を貼りいける際に接着剤が前記内周端部６及び
前記外周端部７からはみ出して前記フレキシブル磁気シ
一ト２にシワが生しやすくなり、又余り薄いと接着強度
が弱くなって接着部の剥離等の問題がある。

接着剤の塗布は、原反から送り出される前記フレキシブ
ル磁気シ一ト２に連続的になされてもよいし、また前記
剛性基盤１の大きさに合わせて裁断された前記フレキシ
ブル磁気シ一ト２に対して塗布されてもよい。

いずれにしろ、できるだけ均一の厚さに塗布されること
が重要となる。

本発明の磁気ディスクの製造方法では、接着剤は、前記
フレキシブル磁気シ一ト２の前記磁性層３を設けた面の
反対の前記非磁性４上面体に塗布されるので塗布位置を
制御する手段を必要としないので、塗布工程の設備が比
較的安価に、かつ塗布位置の設定ミスが殆どないので得
率も高くできる。

前記フレキシブル磁気シ一ト２を前記剛性基盤ｌの外周
方向に延伸するために加える張力とは、磁気ヘッドが前
記フレキシブル磁気シ一ト２に当接した際に前記フレキ
シブル磁気シ一ト２が撓んで前記剛性基盤ｌの前記凹部
８に接触しない程度の張力以上であり、前記フレキシブ
ル磁気シ一ト２の前記磁性層３が延伸破壊を起こさない
程度の張力以下である必要がある。

本発明の磁気ディスクの製造方法における前記フレキシ
ブル６Ｅ気シ一ト２としては、いわゆるフロッピーディ
スクとして用いられている磁気記録媒体をそのまま用い
ることができる。即ち非磁性支持体上に強磁性粉末と結
合剤樹脂を主体とする磁性層がある磁気記録媒体のシー
トを用いることができる．前記非磁性支持体４としては
、非磁性のプラスチックフィルム、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ボリイξ
ド等から選択され、中でも２軸配向のポリエチレンテレ
フタレートフィルム（ＰＥＴ）が好ましい。特に２軸配
向ポリエチレンテレフタレートフィルムであって、その
上に磁性層を設けたフレキシブル磁気シートとしたもの
を、約７０゜Ｃで４８時間熱処理をした後の収縮率が０
．２％以下でかつ縦横の収縮率の差が０．　　１％以下
、好ましくは０．０５％以下になるものが好ましい。

また、前記フレキシブル磁気シ一ト２の前記非磁性支持
体４としては、少なくとも前記磁性層３を設ける側の面
のＲａ（中心線平均粗さ）が０．ｌＩＩｍ以下（カント
オフ値０．０８）であることが好ましく、このような前
記非磁性支持体４を用いることによって最終製品である
磁気ｙイスクの記録密度を高くすることができる。また
、Ｊｎ記磁性層３としては、磁性酸化鉄や強磁性合金粉
末等の強磁性粉末を結合剤樹脂中に均一に分散した塗布
液を前記非磁性支持体上に塗布、乾燥することにより得
られる． そのほか、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング等のペーパーデポジション法、メンキ法によって
形成される強磁性金属Ｆｌ膜を磁性層としてもよい． 前記フレキシブル磁気シ一ト２の前記非磁性支持体４の
厚さは、通常５乃至１００μｍであり、前記磁性層３の
膜厚は、Ｏ．ｌ乃至５μｍである。

前記フレキシブル磁気シ一ト２の全厚としては、１０乃
至１００ｕｍが一般的である。本発明の磁気ディスクの
製造方法における前記剛性基ｇ！■としてはアルミニウ
ム、アルミニウム合金などの金属、ガラス、合成樹脂、
フィラ一入りの樹脂またはこれらの組合せが用いられる
。

中でも合成樹脂の剛性基盤は、射出成型で大量に製造で
きるため一般に安価である。

さらに高温での保存によって変形しないために、結晶性
ボリマーで耐熱性を有するか、またはガラス転移点８０
゜Ｃ以上の非品性ボリマーが好ましい。

具体的には、ボリカーボネート、ポリエーテルイミド、
ボリフェニレンサルファイド、ポリイミド、ポリサルホ
ン、ポリアクリレート、ポリエーテルサルホン、ポリエ
ーテルエーテルケトンなどがある。

また、前記剛性基盤ｌの膨張係数の値を小さくするため
にＴｉＯｚ、ＳｉＯｚなどの金属酸化物やＢａＳ○，、
ガラス緻維などを５乃至５０重量％混入してもよい。

磁気ヘッドのアームの材質は曹通アルξニウムが使われ
るので、前記剛性基！１の熱膨張係数は、アルミニウム
ノ値（２．　　４　Ｘ　１　０−’／’Ｃ）　ニ近く、
かつ吸湿膨張係数は小さいほどよい． 前記剛性基盤ｌの形状は、その断面の概略図である第２
図及び第３図に示す通りであり、中心孔９を有し、前記
剛性基盤ｌの前記内周端部６及び前記外周端部７との間
に中心孔９を中心とした環状の前記凹部８が設けられて
いる． 前記剛性基盤ｌの前記内周端部６及び前記外周端部７は
必要に応して外周方向に傾斜させたり、曲率を持つこと
も可能である． 前記剛性基盤１の形状寸法には特に制限はないが、通常
、外径が９０乃至１３５ｍｓ，厚みが１乃至５ｍｓ、前
記内周端部６及び前記外周端部７の長さは１乃至５閣が
用いられる． 前記凹部８と前記フレキシブル磁気シ一ト２との間の間
隙５は、ヘッドと前記磁性層３が接触する際の衝撃力を
適度に分散することにより本発明の磁気ディスクの耐久
性を向上させている．また、ヘッドと前記磁性層３間の
スペーシングも極めて狭くなり高密度記録にとって有利
となる。

前記間隙５の大きさしは少なくとも０．１ａｍ以上は必
要であり、前記間隙５の大きさＬが余り小さいと、前記
フレキシブル磁気シ一ト２にヘソドを当接した際に前記
フレキシブル磁気シ一ト２が撓んで前記剛性基盤ｌの凹
部８に接触しやすくなるため前記フレキシブル磁気シ一
ト２に与える張力のコントロールが非常に難しくなり、
又余り大きいと前記剛性基盤１の強度が不足して問題と
なる。

本発明における磁気ディスクの寸法安定性は１１訂記剛
性基盤ｌのそれに支配されるので、前記剛１生基盤ｌと
しては、寸法安定法のよいものを選ぶことが好ましい。

本発明の製造方法における磁気ディスクの前記接着剤と
しては、熱硬化型接着剤、無溶剤型接着剤、放射線硬化
型接着剤等従来から知られている種々のものを用いるこ
とができるが、中でも無溶剤型の接着剤、放射線硬化型
接着剤が接着剤硬化時間を短くできるという理由から好
ましい。

無溶剤型接着剤としてはとくにホットメルト接着剤が好
ましく、ホットメルト接着剤としては、ペースボリマー
として、アクリ口ニトリルブタジェン共重合体、ポリス
チレンイソプレン共重合体、ポリブタジェン、ブチルゴ
ムなどのゴム系樹脂あるいはポリエチレン、エチレンビ
ニルアセテート共重合体などの、ポリオレフィン系共重
合体、などから１種以上が用いられる。

更にベースボリマーに配合する粘着付与剤としてはロジ
ン、重合口ジン、水添ロジン、ロジンエステル等の天然
樹脂及びその変性品、脂肪族、脂環族、芳香族、石油樹
脂及びテルベン樹脂、テルベン、フェノール樹脂等があ
り、軟化剤としてはプロセスオイル、パラフィンオイル
、ヒマシ油等が用いられる． 更に、上記ホットメルト接着剤には必要に応して充填剤
、老化防止剤、紫外線防止剤等の添加剤を配合し、耐熱
性、耐候性を向上せしめる．これらの配合比率はベース
ボリマ−１００重量部に対して、粘着付与剤１００乃至
６００重量部、軟化剤０乃至１００重量部であるが軟化
点がｌ４０″Ｃ以下、好ましくは１２０℃以下であり、
溶融粘着が１４０゜Ｃでｌ０００ポイズ以下、好ましく
は１６０゜Ｃでｌ０００ボイズ以下になるように配合す
る。

また放射線硬化型接着剤としてはアクリル系接着剤、ゴ
ム系接着剤が好ましく、アクリル系接着剤としては■ロ
ジン、重合口ジン、水添ロジン、ロジンエススル等の天
然樹脂及びその変性品、脂肪族、脂環族、石油樹脂及び
テルベン樹脂、テルヘン、フェノール樹脂、クマロン樹
脂、プチルアクリレート／酢ビ共重合体、エチレン／酢
ビ共重合体などの粘着付与樹脂１種以上６ｏ乃至９５重
量％とアクリル酸、メタアクリル酸、メチルアクリレー
ト、プチルアクリレート、エチルメタアクリレート、テ
トラヒド口フルフリルアクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレートなどのア
クリル酸エステル、メタアクリル酸エステルなどのアク
リル系モノマーｌ種以上（５乃至４０重量％）との混合
物．■アクリル酸イソオクチルアクリレート等の共重合
物（重合率を約ｌＯ％で中止したシロップ）等が用いら
れる。

ゴム系接着剤としては、ポリブタジエン、アクリ口ニト
リルブタジエン共重合体、天然ゴム、スチレンブタジエ
ンゴムなどのゴム系樹脂１種以上とフェノールデルペン
、水素化口ジン等の粘着付与樹脂１種以上及びアクリル
酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルなどの
アクリルモノマーあるいは酢酸ビニルなどのビニルモノ
マー１種以上混合溶解した組成物などを用いることがで
きる。これらの接着剤系には必要に応して可塑剤、充填
剤などを配合してもよい． 前記フレキシブル磁気シ一ト２を前記剛性基盤ｌに密着
後、接着剤層に照射する放射線としては、電子線、Ｔ線
、β線などが使用できるが、中でも電子線が好ましい．
１ｔ子線照射機としては走査型、非走査型のいずれでも
採用できる。電子線としては加速電圧が１００乃至１０
００ｋＶ、好ましくは１５０乃至３００ｋＶであり、吸
収線量としてＯ．ｌ乃至２０Ｍｒａｄ、好ましくは０．
　　５乃至ｌ５Ｍｒａｄである。加速電圧が１００ｋＶ
以下の場合には、エネルギーの透ｉＩＡ量が不足し、Ｉ
（１００ｋＶを越えると重合に使われるエネルギー効率
が低下し経済的でない。吸収線量として、０　．　　Ｉ
　Ｍｒａｄ以下では硬化反応が不十分で接着強度が得ら
れず、２０Ｍｒａｄ以上になると、硬化に使用されるエ
ネルギー効率が低下したり、被照射体が発熱し、特に前
記フレキシブル磁気シ一ト２の前記非磁性支持体４が変
形するので好ましくない。

接着効果を高めるために、前記剛性基盤１の前記内周端
部６及び前記外周端部７に溝もしくは穴を設ける事も有
効である。

また接着の際、接着をさせるための面の一方もしくは両
方に、接着を容易にするためコロナ放電、グロー放電な
どの物理的表面処理を行ってもよい．接着後、前記フレ
キシブル磁気シ一ト２の前記内周端部６及び前記外周端
部７からはみ出した部分は切り取られる。

前記フレキシブル磁気シ一ト２を前記剛性基盤１上に接
着後、前記フレキシブル磁気シ一ト２の前記非磁性支持
体４の異方性歪を取り除くために熱処理を施すことも可
能である。

熱処理の温度として好ましくは前記非磁性支持体４のガ
ラス転移点以上１２０″Ｃ以下であり、時間としては温
度に応じて２４時間から３秒位で設定すればよい。熱処
理後は室温まで冷却する．〔発明の効果〕 剛性基盤とフレキシブル磁気シートとの間に間隙を有す
る磁気ディスクの製造方法に於いて、フレキシブル磁気
シートの磁性層が形成された面と反対側の非磁性支持体
の全面に接着剤を塗布した後に、フレキシブル磁気シー
トを外周方向に延伸させてからフレキシブル磁気シート
を剛性基盤上に接着することにより、量産性が高く、か
つ得率の高い製造方法とすることができる。

以下、実施例によって本発明の新規な特徴を具体的に説
明するが、本発明の方法はこれに限定されるものではな
い。

〔実施例−１］ フレ　シ　ル　′シー　の 厚さ３２μｍ，幅１２０ａｓの２軸延伸配向処理したポ
リエチレンテレフタレートフイルムを非磁性支持体とし
て、この非磁性支持体の片面に次の組成を有する磁性塗
布液を最終的な磁性層の厚さが２μｍになるように塗布
した後、乾燥し、さらにカレンダーにより磁性層の表面
成形処理をして、フレシキブル磁気シートを作った． （磁性液） ７−Ｆｅ．０３　　　　　　　　３００重量部ＰＶＣ−
Ａｃ　（塩化ビニルー酢酸 ヒニル共重合休ｎ　ＶＹＩＩＩＩ　ｔｌｃｃ社製）４０
重量部エボキシ樹脂（エビコートｌＯＯｌ シェル化学社製）　　　　　　　　４０重量部ポリア砒
ド（バーサミド１１５ ＣＭ社製）　　　　　　　　　　２０重量部メチルイソ
ブチルケトン／キシ口 ール（２／１）８００重量部 格牲Ａ１む勾糺製 ボリエーテルイミドにガラス織維、無機物フイラーを４
０％含有せしめた剛性基盤を射出威型により形成した。

前記剛性基盤の形状は第２図に示す通りであり、前記剛
性基盤１の外径ｒ，及び内径ｒ．はそれぞれ９０１ＩＩ
１及び２０ｍｓであり、前記剛性基盤１の内周端部６の
長さｉ１及び外周端部７の長さＩｔは１ｌＩＩｆｆｌと
した。また基盤の厚さｄは２閣、間隙５の深さＬは０．
２ｍｍであった． 前記フレキシブル磁気シ一ト２の磁性層３がある面とは
反対の面全面に下記の接着剤組成物−１を１０μｍの厚
さでドクターブレードを用いて塗布した。

（接着剤組戒物−１） ポリイソブレン／スチレン共重合体 カリフレックスＴＲＩＩＯＩ（シ エル■製）　　　　　　　　　　１００重量部粘着付与
剤　脂環式石油樹脂アルコ ンＰ−７０（荒川化学■製〉　２００重量部軟化剤　パ
ラフィンオイル　　　　４０重量部ついで、前記フレキ
シブル磁気シ一ト２を、前記剛性基盤１の外周方向に、
前記剛性基盤ｌの外型Ｔ、より大きい内径を有する二つ
の円環を用いて延伸させてから、前記内周端部６及び外
周端部７に接触させ、さらに２００゜Ｃの温度で０．５
秒間、約１　０　ｋｇ／ｃ＋１の圧力をかけて接着させ
、磁気ディスク１０を得た． 〔実施例−２〕 実施例−１において、接着剤組戒物一ｌに替えて、下記
の接着剤組成物−２を使用し、前記内周端部６及び前記
外周端部７に接触させ、加圧させた後１６５ｋＶ、１０
ＭＲａｄの電子線を照射した以外は、実施例−１と同一
の条件で磁気ディスクを得た， （接着剤＆［ｌ或物−２） 水添ロジン　　　　　　　　　　　７５重量部アクリル
酸　　　　　　　　　　　２０重量部エチレングリコレ
ートジアクリレート ５重量部 〔比較例−■〕 実施例−１において、接着剤をフレシブル磁気シ一ト２
に塗布せずに、前記剛性基盤ｌの内周端部６及び外周端
部７に厚さｌＯμｍになるように塗布し磁気シートを乗
せて２００゜Ｃで約１０ｋｇ／ｃｄの圧力をかけて０．
５秒間圧着した以外は、実施例−■と同一の条件で磁気
ディスクを作威した．〔比較例−２］ 実施例−２において、接着剤をフレキシブル磁気シ一ト
２に塗布せずに、前記剛性基盤ｌの内周端部６及び外ｆ
ｉｌ端部７に厚さ１０μｍになるように塗布し磁気シー
トを乗せて１６５ｋＶ，１０ＭＲａｄの電子線を照射し
た以外は、実施例−２と同一の条件で磁気ディスクを作
戒した． 以上のようにして作威された磁気ディスクにおけるフレ
キシブル磁気シートの剛性基盤に対する接着力を以下の
条件で評価した． 援春九立往債去抜 磁気ディスクのフレキシブル磁気シートの前記内周端部
６及び前記外周端部７の部分に、巾１２．６５−、長さ
２４．３−のマイラーテープを貼り、１８０゜Ｃ！｛Ｉ
Ｍ試験を行った． これをｌ００回操り返し、縁部のはがれ状態を観察した
． 実施例−１及び実施例−２の磁気ディスクでは、内周端
部及び外周端部に何も異常が認めらなかったのに対し、
比較例一ｌ及び比較例−２の磁気ディスクでは内周端部
及び外周端部の一部でフレキシブル磁気シートの剥がれ
が見られた。

更に、比較例一ｌ及び比較例−２の磁気ｙイスクでは、
ｌＯ枚中２枚の磁気ディスクにフレキシブル磁気シート
にしわがみられた．

【図面の簡単な説明】

第ｌ図は本発明の磁気ディスクで使用するフレキシブル
磁気シートの断面の概略図． 第２図は本発明の磁気ディスクの断面の要部を拡大した
概略図． 第３図は本発明の磁気ディスクの外周端部の要部を拡大
した概念図． ｌ・・・剛性基盤　　　２・・・フレキシブル磁気シ一
ト３・・・磁性層　　　　４・・・非磁性支持体５・・
・間ｌｉｔ　　　　　　６・・・内周端部７・・・外周
端部　　　８・・・凹部 ９・・・中心孔　　　　　　　ｔ・・・間隙の大きさｄ
・・・剛性基盤の厚さ　　　ｒ１・・・剛性基盤の外彩
「よ・・・剛性基盤の中心孔の径 ｌ．・・・剛性基盤の内周端部の長さ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）非磁性支持体の一方の面に磁性層を有するフレキ
   シブル磁気シートの他方の面の全面に接着剤を塗設した
   後に、中心孔を有しかつ表面に凹部を有するディスク状
   の剛性基盤の少なくとも一方の面に、前記フレキシブル
   磁気シートの磁性層を外側に向けかつ前記剛性基盤の外
   周方向に前記フレキシブル磁気シートを延伸させてから
   、前記剛性基盤の前記凹部において前記フレキシブル磁
   気シートと前記剛性基盤との間に空隙が形成されるよう
   に前記フレキシブル磁気シートを前記剛性基盤上に接着
   させる磁気ディスクの製造方法。（２）前記剛性基盤上
   に前記フレキシブル磁気シートを接着した後に、前記剛
   性基盤の中心孔にはみ出した前記フレキシブル磁気シー
   ト及び外縁部にはみ出した前記フレキシブル磁気シート
   を切り取る工程を有する請求項１記載の磁気ディスクの
   製造方法。 （３）前記接着剤が無溶剤型の接着剤であり、前記フレ
   キシブル磁気シートを外周方向に延伸させて前記剛性基
   盤に密着させた後に接着剤層を加熱して前記フレキシブ
   ル磁気シートを前記剛性基盤に接着する請求項１記載の
   磁気ディスクの製造方法。 （４）前記接着剤が放射線硬化型接着剤であり、前記フ
   レキシブル磁気シートを外周方向に延伸させて前記剛性
   基盤に密着させた後に接着剤層に放射線を照射して該接
   着剤層を硬化させる請求項１記載の磁気ディスクの製造
   方法。